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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 酸成長の意味・解説 > 酸成長に関連した英語例文

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酸成長の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1289



例文

このようなエピタキシャル成長過程において、化させるシリコン膜に素を含有させることにより、予め格子欠陥を形成させる。例文帳に追加

In such an epitaxial growth process, lattice defects are formed previously by adding oxygen to a silicon film being oxidized. - 特許庁

その後、ラジカル素を含む材料源を照射することによりZnO系化物半導体を順次成長する(S5)。例文帳に追加

Subsequently, the ZnO oxide semiconductor grows in order by applying the material source containing radical oxygen. - 特許庁

半導体再成長層38は、メサポスト30の側面から素が侵入して、活性層18を化させ劣化させることを防止する。例文帳に追加

The layer 38 prevents oxygen from intruding from the side of the mesa post 30, thereby preventing oxidation and deterioration of an active layer 18. - 特許庁

そして、ラジカル素を含む材料源を基板に照射することによりZnO系化物半導体からなるバッファ層を成長する(S2)。例文帳に追加

A buffer layer consisting of the ZnO oxide semiconductor is grown by applying a material source including radical oxygen onto the substrate (S2). - 特許庁

例文

化学気相成長チャンバ中で、前駆物質を化体ガスと反応させることによって、基板上に金属化物層を堆積させる。例文帳に追加

A metal oxide layer is deposited on the substrate by reacting a precursor with an oxidant gas in a chemical gas phase growing chamber. - 特許庁


例文

少なくとも亜鉛と素とを基板上で反応させ、基板上に化亜鉛系結晶を成長させる。例文帳に追加

At least zinc is reacted with an oxygen on a substrate, and a zinc oxide crystal is grown on the substrate. - 特許庁

含銅複合化物において容易に高い結晶成長を実現し、作業性にも優れた化銅粉末を提供する。例文帳に追加

To provide copper oxide powder which easily realizes high crystal growth in a copper-containing multiple oxide and excels also in work efficiency. - 特許庁

含銅複合化物において容易に高い結晶成長を実現し、作業性にも優れた化銅粉末の提供する。例文帳に追加

To provide copper oxide powder which easily realizes high crystal growth in a copper-containing multiple oxide and excels also in work efficiency. - 特許庁

後続のCMOS化処理工程の期間中浅いトレンチ分離体の中で化物成長を排除する方法例文帳に追加

METHOD OF EXCLUDING GROWTH OF OXIDE IN SHALLOW TRENCH ISOLATING MEMBER IN PERIODS FOLLOWING CMOS OXIDATION TREATMENT PROCESS - 特許庁

例文

Si単結晶基板を用い、その上に良質の化物薄膜の機能膜をエピタキシャル成長させた化物薄膜素子を提供する。例文帳に追加

To provide an oxide thin film element where a functional film of a high-quality oxide thin film is epitaxially grown on an Si single crystal substrate. - 特許庁

例文

オゾンTEOS法を用いて、側壁部13aおよび第1の化シリコン膜12を埋設すべく、第3の化シリコン膜17を成長させる。例文帳に追加

An ozone TEOS method is used to make a third silicon oxide film 17 grow, to embed the sidewall 13a and the first silicone oxide film 12. - 特許庁

これにより、二化シリコン膜15の成長は、シリコン基板1と二化シリコン膜15との界面(シリコン基板1の表面)で起こる。例文帳に追加

In this process, growth of the silicon dioxide film 15 occurs at the interface between the silicon substrate 1 and the silicon dioxide film 15 (that is, the surface of the silicon substrate 1). - 特許庁

次亜リンはNiを触媒とし還元作用を生じ、アルミニウム材表面では化反応が起こらず、余分な皮膜は成長させる。例文帳に追加

The hydrophosphoric acid causes a reduction action with Ni as a catalyst, oxidation reaction does not occur on the surface of the aluminum material, and an excessive film is made to grow. - 特許庁

予めシンタリングされた第1化物粒子1が拡散障壁となるので、第2化物粒子2の粒成長が抑制される。例文帳に追加

Since the first oxide grains 1 beforehand subjected to sintering serves as diffusion barriers, the grain growth of the second oxide grains 2 can be suppressed. - 特許庁

チタン塩を含む液を磁場中で加圧加熱処理し、チタン塩の針状化合物を細線状に成長させる。例文帳に追加

A solution containing a titanate is subjected to a pressurizing and heating treatment in a magnetic field to make a needle compound of the titanate grow into a thin wire shape. - 特許庁

化亜鉛デバイス用基板材料として適した高純度で高品質な化亜鉛結晶を得る成長方法を提供する。例文帳に追加

To provide a growing method for preparing a highly pure and high quality zinc oxide crystal suitable as a substrate material for a zinc oxide device. - 特許庁

シラン化物前駆体の化学気相成長によって基材上に比較的低温で化ケイ素膜を形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a silicon oxide film on a base material by chemical vapor deposition of a silane oxide precursor at a relatively low temperature. - 特許庁

化ガリウムの融点(1900℃)よりも低温で化ガリウムの単結晶を成長させる方法を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a method of growing a single crystal of gallium oxide at a lower temperature than the melting point (1,900°C) of gallium oxide. - 特許庁

シラン化物前駆体の化学気相成長によって基材上に化ケイ素膜を形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming a silicon dioxide film on a substrate through chemical vapor deposition of silane oxide precursors. - 特許庁

成長させた化亜鉛系半導体の不純物濃度を低減できる化亜鉛系基板を提供する。例文帳に追加

To provide a zinc oxide-based substrate capable of reducing the impurity concentration of a zinc oxide-based semiconductor having been grown. - 特許庁

第2の化膜TO1b上に第3の化膜TO2が気相成長法または塗布法により形成される。例文帳に追加

A third oxide film TO2 is formed in the second oxide film TO1b by a vapor growth method or application method. - 特許庁

成長されたInP層に、少なくとも塩と酢とを含むエッチャントを使ったウェットエッチング工程を適用する。例文帳に追加

Wet etching is applied to the grown InP layer using an etchant containing at least a hydrochloric acid and an acetic acid. - 特許庁

レジストパターン7を除去した後、化処理を行うことによって導電膜5の露出面に化膜9を成長させる。例文帳に追加

After removing the resist pattern 7, an oxide film 9 is grown on the exposed surface of the conductive film 5 by effecting oxidizing process. - 特許庁

空気の存在下で化する化組成物を、植物成長に適した土に改良する土壌改良剤を提供すること。例文帳に追加

To provide a soil modifier capable of improving soil so that it becomes suitable for the growth of plants, that is, an oxidizing composition, which is oxidized in the presence of air. - 特許庁

本発明のエラグ分散物は、エラグ化合物と結晶成長抑制剤と水溶性高分子とを含有することを特徴とする。例文帳に追加

This ellagic acid dispersion comprises an ellagic acid compound, a crystal growth inhibitor and a water-soluble polymer. - 特許庁

成長されたInP層に、少なくとも塩と酢とを含むエッチャントを使ったウェットエッチング工程を適用する。例文帳に追加

A wet etching process using an etchant containing at least hydrochloric acid and acetic acid is applied to the grown InP layer. - 特許庁

次に、レジスト膜を除去し、拡散層15の表面に形成されているシリコン化膜31を成長させるために熱化を行う。例文帳に追加

The method also comprises steps of removing the resist film, and thermally oxidizing so as to extend the film 31 formed on the surface of the layer 15. - 特許庁

リン塩皮膜のリン塩結晶2は、基部がめっき層1に喰い込み、めっき層1から起立する方向に成長している。例文帳に追加

Regarding the phosphate crystals 2 of the phosphate film, the base parts are bitten into the plating layer 1, and are grown to a direction in which they stand up from the plating layer 1. - 特許庁

コハクを生成する生物の成長や増殖を維持させながらコハクを得る方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for obtaining succinic acid while maintaining growth and proliferation of an organism to form succinic acid. - 特許庁

上皮成長因子ファミリー(EGFファミリー)に属し、上皮成長因子レセプターへの結合能を有する細胞成長因子、あるいは該細胞成長因子と相同または1もしくは数個のアミノが欠失、置換、挿入もしくは付加されたアミノ配列からなるポリペプチドを含有する血管内膜肥厚抑制剤。例文帳に追加

This intimal thickening inhibitor comprises a cell growth factor belonging to an epidermal growth factor family(EGF family) and having a binding ability to an EGF factor receptor or a polypeptide homologous to the cell growth factor or comprising an amino acid sequence in which one or several amino acids are deleted, substituted, inserted or added. - 特許庁

部品本体2が与えるセラミック面が、たとえばチタンバリウム系セラミックからなるもので比較的高いめっき成長力を示す高めっき成長領域11と、たとえばジルコンカルシウム系セラミックからなるもので比較的低いめっき成長力を示す低めっき成長領域12とを有するようにする。例文帳に追加

The ceramic electronic component includes a component body 2 whose ceramic surface has a high-growth plating region 11 made of barium titanate ceramics, for example, indicating a relatively high plating growth rate and a low-growth plating region 12 made of calcium zirconate ceramics, for example, indicating a relatively low plating growth rate. - 特許庁

魚類用成長促進剤および魚類用抗痩せ病剤は、それぞれクエン、酢および乳の他に、更にフマルおよびギの少なくとも一方を有する。例文帳に追加

The growth promoting agent for fishes and the anti-leanness disease agent for fishes each have at least either one of fumaric acid or formic acid besides citric acid, acetic acid and lactate. - 特許庁

強誘電体キャパシタの上部電極を低化度の導電性化物膜と高化度の導電性化物膜で形成する時生じる異常成長や、素空位を防止する。例文帳に追加

To prevent abnormal growth and oxygen vacancy generated when forming the upper electrode of a ferroelectric capacitor with a conductive oxide film having a low degree of oxidation and a conductive oxide film having a high degree of oxidation. - 特許庁

従来の湿式化装置で化膜形成を抑制するために使用した不活性ガスを用いて、化膜の高品質を維持しつつ、化膜の厚さ及び成長速度を制御することができる湿式化装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wet-type oxidation apparatus for controlling a thickness of an oxide film and speed of growing, while good quality of the oxide film is kept with an inert gas used as in a conventional wet-type oxidation apparatus for controlling the formation of the oxide film. - 特許庁

カーボンナノチューブの成長方法は、化性雰囲気中において加熱処理して得られる触媒微粒子を、大気に曝すことなくカーボンナノチューブ成長用炭素含有ガス雰囲気中に存在させてカーボンナノチューブを成長させる工程を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The method for growing the carbon nanotubes includes a process for growing carbon nanotubes by allowing catalytic fine particles, subjected to a heat treatment in an oxidizing atmosphere, to exist in a gaseous atmosphere containing carbon for growing the carbon nanotubes, without exposing the catalytic fine particles to atmosphere. - 特許庁

ダイヤモンドのエピタキシャル成長が可能な表面を有するダイヤモンド成長基板、例えば化マグネシウム基板10上にイリジウム層11が形成されたダイヤモンド成長基板に、所定のパターンに沿って単結晶のダイヤモンド膜13が形成された構成とする。例文帳に追加

In this method, a single crystal of diamond film 13 is formed along a specified pattern on a diamond growth substrate having a surface capable of epitaxial growth of diamond, for example, a diamond growth substrate which is a magnesium oxide substrate 10 on which an iridium layer 11 is formed. - 特許庁

タンタル化合物とチタニウム化合物との混合物からなる化学気相成長用原料、及び該化学気相成長用原料を用いた化学気相成長用法によるチタニウム原子を添加した化タンタル薄膜の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To obtain a raw material for chemical vapor deposition consisting of a mixture of a tantalum compound and a titanium compound, and to provide a method for producing a tantalum oxide thin film to which titanium atoms are added by a chemical vapor deposition method using the raw material for chemical vapor deposition. - 特許庁

ガラス板1上の所定領域に形成された成長起点3のみから薄膜が成長を開始するように成分を調整した原料ガスを用いた化学蒸着(CVD)法により、薄膜(例えば化錫膜等の透明導電膜)を上記所定領域に選択的に成長させる。例文帳に追加

By a chemical vapor deposition (CVD) process using a gaseous starting material in which components are regulated in such a manner that thin films start to grow only from growth starting points 3 formed at prescribed regions on a glass plate 1, thin films (e.g., transparent electrically conductive films such as tin oxide films) are selectively grown on the above prescribed regions. - 特許庁

CNT成長用基板の主面上に母線層、CNT成長用触媒層としての触媒金属の化物層、及び絶縁層をこの順番に設け、絶縁層をエッチングして絶縁層にCNT成長用の微細ホールを形成する。例文帳に追加

The method of forming a nanohole for the CNT growth includes the steps of forming a generator layer, an oxide layer formed of a catalyst metal as a catalyst layer for the CNT growth and an insulating layer on a main surface of a substrate for the CNT growth in their order, and etching the insulating layer to form the nanohole for the CNT growth therein. - 特許庁

フローティングゲートメモリ構造を作製する方法に関し、フローティングゲートは単結晶半導体材料からなり、トンネル化物層2の上に横方向に成長する、選択エピタキシャル成長により、単結晶基板上にエピタキシャル成長される。例文帳に追加

In the method of manufacturing a floating gate memory structure, the floating gate is composed of a single crystal semiconductor material, and is grown epitaxially on a single crystal substrate by selective epitaxial growth for growing in the lateral direction on a tunnel oxide layer 2. - 特許庁

また、炭カルシウム微粒子自体が成長して種晶効果を発揮することにより、系内で析出する炭カルシウム成分を炭カルシウム微粒子上に析出成長させて水中から除去することにより、スケール障害を防止する。例文帳に追加

A calcium carbonate particulates are grown to exhibit seed crystal effect, making calcium carbonate components separated in a system precipitate and grow on the calcium carbonate particulates and removed out of water, which prevents the scale trouble. - 特許庁

工業化に適する安定した製造条件を与える化学気相成長法によるチタンストロンチウム、チタンバリウム又はチタンバリウムストロンチウム薄膜の製造方法及び化学気相成長用原料を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of producing a thin film of strontium titanate, barium titanate or barium strontium titanate by a chemical vapor deposition method, giving stable production conditions suitable for industrialization, and to provide a raw material for chemical vapor deposition. - 特許庁

化セリウムなどの希土類化物を従来よりも低い成長温度で(001)面方位のシリコン基板上に(110)面方位で良好にエピタキシャル成長させ、エピタキシャルな希土類化物(110)/シリコン(001)構造を実現する。例文帳に追加

To realize an epitaxial rare earth oxide (110)/silicon (001) structure by well epitaxially growing a rare earth oxide such as cerium oxide of the (110) face orientation on a silicon substrate of the (001) face orientation at a lower growth temperature than that of a conventional method. - 特許庁

出発基板31の主面に化膜32を選択的に形成し、その化膜32の開口部分に露出する出発基板31の主面に単結晶シリコン層33をエピタキシャル成長させた後、化膜32の上に多結晶シリコン層34を成長させる。例文帳に追加

On a main surface of a starting substrate 31, an oxide film 32 is formed selectively and after a single crystal silicon layer 33 is epitaxially grown on the main surface of the starting substrate 31 exposed to an opening portion of the oxide film 32, a polycrystalline silicon layer 34 is grown on the oxide film 32. - 特許庁

MOCVD法により素を含まない有機金属化合物と水蒸気を用い、成長温度が250℃から450℃の範囲内で、かつ、成長圧力が1kPaから30kPaの範囲内であって、素原子を含まない有機亜鉛化合物材料と水蒸気とを少なくとも含む材料ガスを基板10に吹き付けて化亜鉛の単結晶層11を成長させる。例文帳に追加

The single crystal layer 11 of zinc oxide is grown by blowing a material gas containing at least an organic zinc compound material not containing an oxygen atom and steam on the substrate 10 using an organic metal compound not containing oxygen and steam by an MOCVD method at a growing temperature of 250-450°C and a growing pressure of 1-30 kPa. - 特許庁

これにより、液中のリンイオンと反応してリン亜鉛やリンマンガン、リンカルシウム等の水に溶けにくい水和物結晶皮膜が成長する。例文帳に追加

A hydrate crystal film thereby grows which is hardly solved by an aqueous solution, like zinc phosphate, manganese phosphate and calcium phosphate through the reaction with phosphate ion in liquids. - 特許庁

化鉄ウィスカーからなる電界電子放出体であり、中でも鉄系基板を化雰囲気中で化させてその基板上に化鉄ウィスカーを直接成長させた構造であることを特徴とする。例文帳に追加

This electron emitting source is a field electron emitter comprising iron oxide whiskers, and has a structure in which an iron based substrate is oxidized in an oxidizing atmosphere to directly grow the iron oxide whiskers on the substrate. - 特許庁

化法によって、第1化窓15a,第2化窓15bの底面層に化膜を成長させてなる第1素子分離膜16a、第2素子分離膜16bを形成する。例文帳に追加

A first element separation film 16a and a second element separation film 16b are formed on the bottom layers of the first and second oxidation windows 15a and 15b by growing the oxide film. - 特許庁

化マグネシウム膜1は、化マグネシウム薄膜部4と、その表面から成長して化マグネシウム薄膜部4と一体になっている化マグネシウム板状結晶5の集合体6とを有している。例文帳に追加

The magnesium oxide film 1 is provided with an aggregate 6 of a magnesium oxide thin film part 4 and magnesium oxide plate crystal 5 growing from the surface of and integrated with the magnesium oxide thin film part 4. - 特許庁

例文

結晶粒が大きく成長しやすい化チタン膜2を薄膜化でき、微結晶の化ジルコニウム膜3が平坦であることにより、化ジルコニウム/化チタン積層膜表面の凹凸を低減することができる。例文帳に追加

The titanium oxide film 2, a crystal grain of which easily grows larger, can be thinned, and the microcrystalline zirconium oxide film 3 is flat, thereby the surface irregularities of a zirconium oxide/titanium oxide laminated film can be reduced. - 特許庁

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