「Alignment Layer Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Pattern arrangement of an alignment layer of an array substrate and a panel substrate are set.例文帳に追加

アレイ基板やパネル基板の配向膜のパターン配置を設定した。 - 特許庁

On a surface of a semiconductor layer 2, an alignment pattern 7A is formed.例文帳に追加

半導体層２の表面には、アライメントパターン７Ａが形成されている。 - 特許庁

ORIGINAL PLATE FOR PATTERN ALIGNMENT LAYER FOR THREE-DIMENSIONAL DISPLAY, PRODUCTION METHOD OF THE ORIGINAL PLATE, AND PRODUCTION METHOD OF PATTERN ALIGNMENT LAYER AND PRODUCTION METHOD OF PATTERN RETARDATION FILM USING THE ORIGINAL PLATE例文帳に追加

３次元表示用パターン配向層用原版、その製造方法ならびにそれを用いたパターン配向膜の製造方法およびパターン位相差フィルムの製造方法 - 特許庁

The layer first performed with the pattern formation is a metal electrode pattern layer having an alignment mark to the layer performed with the second and succeeding pattern formation.例文帳に追加

また、前記最初にパターン形成される層が、２番目以降にパターン形成される層に対する位置合わせマークを有する金属電極パターン層である。 - 特許庁

To improve precision of alignment when forming an upper layer pattern by overlaying it on a lower layer pattern using a scanning exposure apparatus.例文帳に追加

スキャン露光装置を用いて、下層のパターンに重ね合わせて上層のパターンを形成する際、重ね合わせ精度向上を図る。 - 特許庁

To obtain a screen printing device performing formation of a seal pattern on a substrate on which an alignment layer material is formed and performing alignment treatment to the alignment layer material.例文帳に追加

配向膜材料が形成された基板上にシールパターンの形成を行うと同時に配向膜材料への配向処理を行うスクリーン印刷装置を得ることができる。 - 特許庁

Mask alignment of a diffusion layer pattern and a mask pattern to be processed in a post-process is carried out using the alignment mark M1a formed in this manner.例文帳に追加

こうして形成されたアライメントマークＭ１ａを用い、拡散層パターンと後工程において加工するマスクパターンとのマスク合わせを行う。 - 特許庁

Mask alignment between a diffusion layer pattern and a mask pattern to be processed in a post-process is carried out using the alignment mark M1a formed in this way.例文帳に追加

こうして形成されたアライメントマークＭ１ａを用い、拡散層パターンと後工程において加工するマスクパターンとのマスク合わせを行う。 - 特許庁

The alignment state of the liquid crystal layer 12 exhibits an extinction pattern having cross grid-shaped lines.例文帳に追加

液晶層１２の配向状態は十字格子状線を有する消光模様である。 - 特許庁

Rubbing strength originating from the rubbing buff 33 is uniformized throughout the entire alignment layer pattern 26.例文帳に追加

ラビングバフ33によるラビング強度を配向膜パターン26の全体に亘って均一化できる。 - 特許庁

The printing pattern 20 and the alignment mark 22 are formed by that the emulsion layer 16 for a printing pattern and the emulsion layer 14 for an alignment mark are batch-exposed through a photomask F, and developed.例文帳に追加

印刷パターン２０およびアライメントマーク２２は、印刷パターン用乳剤層１６およびアライメントマーク用乳剤層１４を、フォトマスクＦを介して一括露光、現像して形成されている。 - 特許庁

To provide an arrangement of a transparent electrode pattern, which reduces alignment irregularity due to a direction of forming an inorganic alignment layer.例文帳に追加

無機配向膜の形成方向に起因する配向ムラを改善することのできる透明電極パターンの配置を提供する。 - 特許庁

To provide a production method of an original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display, the method aiming at easy and mass production of a pattern alignment layer with which a high-quality pattern retardation film for three-dimensional display can be formed.例文帳に追加

高品質な３次元表示用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を、容易かつ大量に作製する３次元表示用パターン配向膜用原版の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display, the original plate allowing easy and mass production of a pattern alignment layer with which a high-quality pattern retardation film for a three-dimensional display device can be formed.例文帳に追加

高品質な３次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を、容易かつ大量に作製することができる３次元表示用パターン配向膜用原版を提供する。 - 特許庁

The alignment layer 3, the light selection reflecting pattern layer 4, the hologram formation layer 5 and the reflective layer 6 may be sequentially layered on one surface of the base material 2.例文帳に追加

基材２の片面に配向膜３、光選択反射パターン層４、ホログラム形成層５および反射性層６を順に積層したものでもよい。 - 特許庁

To provide a method for correcting a letterpress plate for printing an alignment layer solution, with which a defective pattern section of a printing plate for printing the alignment layer solution is corrected for the purpose of uniformly printing an alignment layer on a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板に配向膜を均一に印刷することができるように配向膜溶液印刷用版のパターン欠陥部を修正する配向膜溶液印刷用凸版の修正方法を提供する。 - 特許庁

An alignment mark structure associated includes a ground layer 5 having a line-shaped pattern located below an alignment mark 8, and a metal diffusion preventing/etching stopper layer 6 between the ground layer 5 and the alignment mark 8.例文帳に追加

本発明に係るアライメントマーク構造は、アライメントマーク８の下方に、ライン状のパターンを有する下地層５を備え、さらに、下地層５とアライメントマーク８との間に、金属拡散防止兼エッチングストッパ層６を備える。 - 特許庁

The blank regions 6 comprise at least one alignment region 10 and the alignment mark is constituted of a metal film pattern on the uppermost layer surface of the alignment region 10.例文帳に追加

ブランク領域６はアライメント領域１０を少なくとも１つ含み、アライメント領域１０の最上層表面の金属膜パターンによってアライメントマークを構成している。 - 特許庁

A rubbing buff 33, whose configuration is changed with the array pattern 7, can be disordered on the disorder part 28, before the rubbing of the alignment layer pattern 26.例文帳に追加

アレイパターン７にて配列が変化したラビングバフ33を無秩序部28で配向膜パターン26のラビング前に無秩序化できる。 - 特許庁

To provide an original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display, the original plate allowing easy and mass production of a pattern alignment layer with which a pattern retardation film for a three-dimensional display device can be formed.例文帳に追加

本発明は、３次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる３次元表示用パターン配向層用原版を提供することを主目的とする。 - 特許庁

An alignment layer 52 for aligning the liquid crystal 50 is formed on the pattern electrodes 58 and 60.例文帳に追加

パターン電極５８、６０の上には、液晶５０を配向させるための配向膜５２が形成されている。 - 特許庁

At a surface layer portion of the semiconductor layer 2, a first annular pattern 8 is formed which surrounds respective alignment patterns 7A and 7B.例文帳に追加

半導体層２の表層部には、各アライメントパターン７Ａ，７Ｂを取り囲む第１環状パターン８が形成されている。 - 特許庁

The liquid crystal device has an alignment layer and a conductive pattern on a substrate, where the substrate is subjected to rubbing treatment in a prescribed directions and the conductive pattern existing resent in an alignment layer absent region, where alignment layer has not been formed on the substrate, is embedded in the substrate surface.例文帳に追加

基板上に配向膜及び導電パターンを備える液晶装置において、基板にはそれぞれ所定方向からラビング処理が施してあり、基板における配向膜が形成されていない配向膜非形成領域に存在する導電パターンが、基板表面に埋設してある。 - 特許庁

Further, in the exposure of a superimposed layer, the alignment is performed with respect to the alignment mark for exposing each divided pattern region provided with high arrangement accuracy by using a die-by-die alignment method.例文帳に追加

さらに、重ね合わせ層の露光において、高配置精度で設けた各分割パターン領域露光用アライメントマークに対して、ダイ・バイ・ダイ・アライメント法を用いて位置合せを行なう。 - 特許庁

To provide an original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display, the original plate allowing easy and mass production of a pattern alignment layer with which a high-quality pattern retardation film for a three-dimensional display device can be formed.例文帳に追加

本発明は、高品質な３次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる３次元表示用パターン配向層用原版を提供することを主目的とする。 - 特許庁

In the ink jet printing system, coating liquid such as the alignment layer is applied to a coating pattern region of the alignment layer or the like where a right-angle triangular pattern is extended in an arrangement for extending opposite sides of the rectangular shape in each corner part, of a rectangular basic coating pattern.例文帳に追加

矩形状の基本塗布パターンの、各コーナ部において矩形の対向辺を延長する配置で直角三角形状パターンを延設した配向膜等の塗布パターン領域に、インクジェット印刷方式で配向膜等の塗布液を塗布する。 - 特許庁

Further, the exposed release layer 22 is removed and after the alignment layer 26 is etched with the mask metal pattern 24 as a mask, the mask metal pattern 24 is removed.例文帳に追加

さらに、露出した剥離層２２を除去すると共に、マスク金属パターン２４をマスクにして配向膜２６をエッチングした後に、マスク金属パターン２４を除去する。 - 特許庁

An alignment layer 1 is provided on a transparent substrate 5 on which a transparent electrode 4 is formed, an optical mask 6 wherein a light transmission part and a light shielding part with respect to UV are disposed in a prescribed pattern is covered on the alignment layer and the alignment layer is irradiated with UV 7 to remove the alignment layer 1 positioned in a region corresponding to the UV light transmission part ((a) of Fig.).例文帳に追加

透明電極４が形成された透明基板５上に、配向膜１を設け、その上に、紫外線に対する透光部と遮光部が所定のパターンで配されてなる光学マスク６を被せ、紫外線７を照射し、紫外線透光部に対応する領域に位置する配向膜１を除去する（図１（ａ））。 - 特許庁

To provide a production method of an original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display, the original plate allowing easy and mass production of an alignment layer with which a high-quality pattern retardation film for a three-dimensional display device can be formed.例文帳に追加

高品質な３次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能な配向膜を、容易かつ大量に作製することができる３次元表示用パターン配向膜用原版製造方法を提供する。 - 特許庁

In the case of joining the split patterns to form the original pattern, alignment information obtained at aligning of any split pattern is used for alignment of a mask to form at least two split patterns of the layer including the split pattern.例文帳に追加

分割パターンをつなぎ合わせて形成する際、いずれか１つの分割パターンのアライメントで得られたアライメント情報をマスクの位置合わせに用いて、その分割パターンを含む層の少なくとも２つの分割パターンを形成する。 - 特許庁

During layout of the mask for micromachining the cMUT layer, either the hexagonal pattern or the alignment key is rotated until an axis of symmetry of the hexagonal pattern is aligned with an axis of the alignment key.例文帳に追加

ｃＭＵＴ層を微細加工するためのマスクレイアウト中に、六角形パターンの対称の軸がアラインメントキーの軸と整列するまで六角形のパターン又はアラインメントキーのいずれかが回転される。 - 特許庁

To form an alignment layer having a desired pattern with good productivity without lowering pattern precision even when the substrate size of a liquid crystal display element is made large.例文帳に追加

液晶表示素子の基板サイズが大型になった場合にも、パターン精度が低下することなく、所望パターンの配向層を生産性よく形成すること。 - 特許庁

The layout data of alignment marks on each layer are arranged so that the layout data about the alignment marks on the first and fifth layers may overlap each other in the transversal and longitudinal directions of a chip 1 of an IC pattern.例文帳に追加

ＩＣパタ−ンであるチップ１の横方向及び縦方向に各層におけるアライメントマ−クのレイアウトデ−タを例えば１層と５層と重なるように配置する。 - 特許庁

When the phase shifter pattern is formed by patterning a transparent film 4a, the formation and alignment of the phase shifter pattern with respect to a metallic layer 3 for forming the light shielding film of a mask substrate 2 are executed by using alignment mark patterns disposed at the metallic layer 3.例文帳に追加

透明膜４ａをパターニングして位相シフタパターンを形成する際に、マスク基板２の遮光膜形成用の金属層３に設けられた位置合わせマークパターンを用いて、金属層３に対する位相シフタパターンの形成位置合わせを行う。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display device comprises: a process of forming an electrode layer 120a for pixel electrode on a first substrate 100; a process of forming a prescribed alignment layer pattern 500 on the electrode layer 120a for pixel electrode; and a process of patterning the electrode layer 120a for pixel electrode by using the alignment layer pattern 500 as a mask and forming a pixel electrode pattern 120.例文帳に追加

第１基板１００上に画素電極用電極層１２０ａを形成する工程と、画素電極用電極層１２０ａ上に所定の配向膜パターン５００を形成する工程と、配向膜パターン５００をマスクにして画素電極用電極層１２０ａをパターニングし、画素電極パターン１２０を形成する工程と、を含んで液晶表示素子の製造方法を構成する。 - 特許庁

A long pattern alignment film includes a long alignment layer containing an optical alignment material, and the alignment layer includes a first alignment region for aligning a rod-shaped compound having refractive index anisotropy in a given direction and a second alignment region for aligning the rod-shaped compound in a direction different from that of the first alignment region.例文帳に追加

本発明は、長尺状であり、かつ光配向材料を含む配向層を有し、上記配向層が、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定の方向に配列させる第１配向領域および上記棒状化合物を上記第１配向領域とは異なる方向に配列させる第２配向領域を含むことを特徴とする長尺パターン配向膜を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

In this case, the horizontal alignment layers 42 are formed by performing a rubbing process on an alignment layer 42a on a substrate 10A and by modifying a surface thereof using a resist pattern R as a mask, a material of the vertical alignment layers 41 is formed.例文帳に追加

このとき、基板１０Ａ上の配向膜４２ａにラビング処理し、レジストパターンＲをマスクにして表面改質して、水平配向膜４２を形成し、垂直配向膜４１の材料を形成する。 - 特許庁

After simultaneously forming a resist pattern 22A for ion implantation and a resist pattern 22B for an alignment mark on a semiconductor film 13, ion implantation 23 is applied to the whole surface of that patterns, and after applying ashing 24 to an altered layer 16 formed on a resist pattern 22A' other than a resist pattern forming part B' for the alignment mark, the resist pattern 22A' is removed.例文帳に追加

半導体膜１３上にイオン注入用レジストパターン２２Ａとアライメントマーク用レジストパターン２２Ｂを同時に形成した後、その全面にイオン注入２３し、アライメントマーク用レジストパターン形成部Ｂ’以外のレジストパターン２２Ａ’を、表面に形成された変質層１６をアッシング２４した後レジストパターン２２Ａ’を除去する。 - 特許庁

The alignment mark 31 and the lower layer 32BM of the bank pattern 32 are formed with the same material and in the same step as those of a black matrix.例文帳に追加

アライメントマーク３１及び土手パターン３２の下層３２ＢＭはブラックマトリクスと同じ材料により同じ工程で形成する。 - 特許庁

A manufacturing method of a patterned retarder includes a light alignment stage to position, on an alignment layer, a polarization filter 20 with light shielding parts 21 and wire grid pattern parts 22 repeatedly formed and to apply light from above the polarization filter 20 for alignment.例文帳に追加

配向膜の上部に光遮断部２１とワイヤーグリッドパターン部２２が繰り返し形成された偏光フィルター２０を位置させ、偏光フィルター２０の上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。 - 特許庁

To eliminate occurrence of display unevenness by preventing a projecting and recessing part remaining on an alignment layer of a liquid crystal display device and a pixel pattern from interfering with each other.例文帳に追加

液晶表示装置の配向膜に残存する凹凸と画素パターンとが干渉するのを防止し、表示ムラの発生を無くす。 - 特許庁

A via hole 25 of a third layer 6 is formed using the via hole 11 of the core substrate 5, and a circuit pattern of the third layer 6 is formed with the via hole 25 used as the alignment mark.例文帳に追加

第３層６のビアホール２５は、コア基板５のビアホール１１を用いて製造し、ビアホール２５をアライメントマークにして第３層６の回路パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a multi-layer printed wiring board which can be manufactured by an exposure method, in which visibility of an alignment mark is enhanced, recognition of the alignment mark and aligning are executed automatically, alignment accuracy is enhanced, and productivity is improved, when exposure of a pattern is executed to a PSR resin layer in a multi-layer printed wiring board, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

多層プリント配線板において、ＰＳＲ樹脂層にパターンを露光照射する時、アライメントマークの視認性が向上し、アライメントマークの認識及び位置合わせを自動的に行い、アライメント精度が向上、生産性が向上する露光照射方法で製造する多層プリント板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the optical waveguide film 100, a lower cladding layer 13a is formed along one surface of a film substrate 11, an alignment mark 14a and a core pattern 12 extended in the direction for guiding light are formed in the lower cladding layer 13a and an upper cladding layer 13b which sandwiches the alignment mark 14a and the core pattern 12 with the lower cladding layer 13a is formed.例文帳に追加

光導波フィルム１００は、フィルム基板１１の一面に沿って下部クラッド層１３ａが形成され、この下部クラッド層１３ａにアライメントマーク１４ａと光を導波する方向に延在するコアパターン１２が形成され、このアライメントマーク１４ａとコアパターン１２を下部クラッド層１３ａと挟持する上部クラッド層１３ｂが形成される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a lenticular lens sheet by which the boundary of a light shielding pattern is prevented from getting irregular in a method for forming a light shielding pattern layer in a self-alignment system.例文帳に追加

セルフアライメント方式の遮光パターン層の形成方法において、遮光パターンの境界がムラになるのを防止できるレンチキュラーレンズシートの製造方法等を提供すること。 - 特許庁