「Aperture」に関連した英語例文の一覧と使い方(225ページ目) - Weblio英語例文検索

The cleaning unit which is detachable from an image forming apparatus body and removes and recovers the toner remaining on an intermediate transfer member 18 has a cleaning blade 31 for removing the toner remaining on the member 18, a screw 35 for conveying the removed toner to a recovering section and a flexible resin sheet 95 for preventing the leakage of the recovered waste toner from the aperture when the cleaning unit is removed from the image forming apparatus body.例文帳に追加

画像形成装置本体に対して着脱可能であり、中間転写体18に残留したトナーを除去、回収するクリーニングユニットにおいて、中間転写体18に残留したトナーを除去するためのクリーニングブレード31と、前記除去したトナーを回収部へ搬送するためのスクリュー35と、画像形成装置本体から取り外したときに、回収した廃トナーが開口部から漏れるのを防ぐための可撓性樹脂シート95とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exposure method for forming a first columnar spacer and a second columnar spacer thinner than the first columnar spacer, the method for forming the second columnar spacer with excellent uniformity of film thickness and line width without changing an aperture ratio of a photomask or subjecting a photomask to a process of reducing the transmittance for light, and to provide an exposure device and a method for manufacturing a liquid crystal display device.例文帳に追加

第１の柱状スペーサーと、この第１の柱状スペーサーよりも厚さの薄い第２の柱状スペーサーを形成するための露光方法であって、フォトマスクの開口率を変更したり、光透過率の低減処理を施すことなく、膜厚及び線幅の均一性に優れた第２の柱状スペーサーを形成することを可能とする露光方法、露光装置、及び液晶表示装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A collector lens 3, a visual field stop 4, a field lens 5 having positive power, an aperture stop 6 and a converging lens 7 having positive power are arranged in this order from a light source 2 side as an optical system which is nearly both-side-telecentric between the visual field stop 4 and a specimen face 8.例文帳に追加

光源２側から順に、コレクタレンズ３と、視野絞り４と、正のパワーを有するフィールドレンズ５と、開口絞り６と、正のパワーを有する集光レンズ７とを、視野絞り４から標本面８の間がおよそ両側テレセントリックな光学系として配置し、さらに、Ｄ_ＦＳは視野絞り４の直径、βは標本面８から視野絞り４までの倍率、ＮＡは照明光学系の標本面８側の開口数とするとき、以下の条件式を満たして配置する。 - 特許庁

A condenser lens of a large numerical aperture is made substantially parallel light by collecting illumination light of LED diverged into 180 degrees in a large amount, and a dichroic reflection face having wavelength selectivity is collected on an irradiation object without leaking light emitted from a plurality of different wavelength monochromatic LEDs.例文帳に追加

熱伝導性を有する金属製の複数の熱伝導要素がＬＥＤチップ本体に熱伝導断面積を大幅に拡大し、ＬＥＤチップ本体の接合部温度を極めて抑え、大開口数の集光レンズが、１８０度に発散するＬＥＤの照明光を大量に集めて略平行な光にし、波長選択性のあるダイクロイック反射面が複数の異なる発光波長単色ＬＥＤから発せられる光を殆ど漏れなく照射対象に集合する。 - 特許庁

A silicon substrate having a diaphragm part provided with an upper electrode deformable corresponding to a pressure is bonded close onto the surface of a glass substrate provided with a lower electrode so that the upper and lower electrodes face mutually and form a fixed aperture, to thereby form a cavity part.例文帳に追加

下部電極が設けられたガラス基板の面上に、圧力に応じて変形する上部電極が設けられたダイアフラム部を有するシリコン基板を、上部及び下部の電極が互いに対向し、且つ一定空隙を形成するように密閉接合させてキャビティー部を形成し、更に、ガラス基板を貫通し、キャビティー部まで達する貫通孔を少なくとも１つ以上開孔し、この貫通孔を介してキャビティー部内を真空引き後、この貫通孔を穴埋めすることで、接合時にキャビティー内に発生した酸素を排除することができる。 - 特許庁

A 2-layer structure antireflection coating is formed between a resist layer and a silicon oxide film formed on the surface of a silicon semiconductor substrate, and is used for exposing the resist layer by an exposure system whose numerical aperture is 0.93-1.2, with a wavelength of 190-195 nm.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３乃至１．２である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン酸化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

In an ultrasound receive beamformer 301, signals from two or more aperture elements are multiplexed at the input 107 of each beamformer channel 303, stored in different portions of a delay memory 309, delayed and apodized (313) in a time-multiplexed fashion, demultiplexed (312) at the output of the channel 303, and summed in different summation units 335 running at an upsampled rate.例文帳に追加

超音波受信ビームフォーマ３０１において、２つまたはそれ以上の開口素子からの信号が、各々のビームフォーマチャネル３０３の入力１０７において多重化（３０８）され、遅延メモリ３０９の異なる部分に保存され、遅延され、時分割多重方式でアポダイゼーション（３１３）され、そのチャネル３０３の出力において多重分離（３１２）され、アップサンプリングされたレートで動作する異なる加算部３３５において加算される。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 0.93-1.0, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３を越え１．０以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The improved carbon beam deposition chamber described herein substantially reduces the accumulation of a carbon film on the outer surfaces of the chamber aperture plates, thereby substantially increasing the number of disks which can be processed before system cleaning or hardware replacement is required, thereby to substantially reduce disk failure for coated disks 44 and substantially increase carbon gun 10 productivity.例文帳に追加

ここに記載される改良された炭素ビーム蒸着チャンバー４０は、チャンバーの開口プレート２０の外側表面上での炭素膜の堆積を大幅に減少させることにより、システム洗浄やハードウェアの交換が必要になる前の処理可能なディスク枚数を大幅に増加させることができ、又、コーティングされたディスク４４におけるディスク欠陥を大幅に減少させて、炭素銃１０の生産性を実質的に増加させるものである。 - 特許庁

At least the treatment room inner wall opposite to the substrate surface is characterized by constituting evenly except the aperture for the temperature detection means.例文帳に追加

本発明は、処理室と、基板を前記処理室内で保持する基板保持手段と、基板の裏面側に設置され、基板を裏面から加熱する加熱手段と前記基板の表面側に設置され、前記基板の温度を非接触で検出する温度検出手段と、を有する基板処理装置であって、少なくとも前記基板表面に対向する処理室内壁を前記温度検出手段用の開口部を除き平坦に構成することを特徴とする基板処理装置であって、少なくとも前記基板表面に対向する処理室内壁を前記温度検出手段用の開口部を除き平坦に構成することを特徴とする基板処理装置とするものである。 - 特許庁

The lens barrier device comprises: a barrier base 10 that sections an aperture 10a; barrier blades 20 and 30 supported on the barrier base so as to be freely swingable; and a drive mechanism that drives the barrier blades 20 and 30 so that they may be opened or closed.例文帳に追加

開口部１０ａを画定するバリヤベース１０、バリヤベースに揺動自在に支持されたバリヤ羽根２０，３０、バリヤ羽根２０，３０を開閉駆動する駆動機構を備え、この駆動機構として、バリヤ羽根を開き位置と閉じ位置の間で開閉駆動する開閉レバー４０、バリヤ羽根を閉じる方向に付勢力を及ぼす閉じバネ６０、外力により一方向に回転して開閉レバー４０を閉じ位置に移動させると共に外力の解除により他方向に回転して開閉レバー４０を開き位置に移動させて拘束する拘束レバー５０、バリヤ羽根を開く方向に閉じバネよりも大きい付勢力を及ぼす開きバネ７０を採用する。 - 特許庁

The filter device includes a filter case 25a to be attached through the aperture 21a1, a first large-meshed filter 25b detachably mounted on the filter case 25a and formed of natural fiber as a material, a second small-meshed filter located behind the first filter 25b, and a fan device located behind the second filter.例文帳に追加

電子機器シャーシ本体２１は、フィルタ装置を取り付ける開口２１ａ１を備え、フィルタ装置は、開口２１ａ１を通して取り付けられるフィルタケース２５ａと、このフィルタケース２５ａに着脱自在に取り付けられ、天然繊維を素材として形成される編み目の大きい第１のフィルタ２５ｂ、この第１のフィルタ２５ｂの後方に位置する編み目の小さい第２のフィルタおよびこの第２のフィルタの後方に位置するファン装置とを備える。 - 特許庁

The image blur correction device includes: a base 100 having an aperture; a movable holding member 110 holding the lens; and first and second drive mechanisms 130 and 140 driving the movable holding member in first and second directions perpendicular to an optical axis.例文帳に追加

開口部を有するベース１００、レンズを保持する可動保持部材１１０、可動保持部材を光軸に垂直な第１方向及び第２方向に駆動する第１駆動機構１３０及び第２駆動機構１４０を備え、可動保持部材の支持機構として、ベースに固定されて光軸に垂直な方向に伸長する第１ガイドシャフト１２２、第１ガイドシャフトが挿通される筒部材１２１、第１ガイドシャフトが挿通される長孔１１６ａを有し筒部材の両端に係合するべく可動保持部材に形成された係合部１１６、ベースに固定された第２ガイドシャフト１２３、第２ガイドシャフトが挿通される長孔１１７ａを有し可動保持部材に形成された第２の係合部１１７を採用する。 - 特許庁

The light reflection film is formed to be commonly connected to the reflection films of other adjacent pixel areas and the pixel electrode is electrically connected to the thin film transistor by a contact hole CH formed by penetrating the first and the second insulating films through the aperture part of the reflection film.例文帳に追加

液晶ＬＣを介して対向配置される基板ＳＵＢのうち一方の基板の液晶側の面の各画素領域に、透光性の画素電極ＰＸと、その下層に有機材料からなる第１絶縁膜を介して配置される光反射膜と、この光反射膜の下層に少なくとも有機材料層を有してなる第２絶縁膜を介して配置される薄膜トランジスタＴＦＴとを備え、前記光反射膜は隣接する他の画素領域の光反射膜と共通に接続されて形成され、かつ、前記画素電極は前記反射膜の開口部を通して前記第１絶縁膜および第２絶縁膜に貫通して形成されたコンタクトホールＣＨによって前記薄膜トランジスタと電気的に接続されている。 - 特許庁

In the mask used in the step 2, the aperture for forming the column spacer is elliptical.例文帳に追加

ネガ型レジストを用いて液晶配向用突起とカラムスペーサとを同時に形成する液晶表示素子の製造方法であって、前記ネガ型レジストを基板に塗工してレジスト膜を形成する工程１と、前記レジスト膜に、液晶配向用突起形成部分及びカラムスペーサ形成部分に対応するパターンの開口部が形成されたマスクを介して活性光線を照射する工程２と、前記活性光線を照射後のレジスト膜を現像することにより、カラムスペーサ及び液晶配向用突起を同時に形成する工程３とを有し、前記工程２において用いるマスクは、カラムスペーサを形成するための開口部の形状が楕円形状である液晶表示素子の製造方法。 - 特許庁