Chemical Processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1444件
To provide a method for producing cement by effectively utilizing an organic factory waste liquid produced in a process for producing synthetic resins or chemical fibers as a pulverizing aid in a cement finishing/pulverizing process without subjecting the waste liquid to reclaiming treatment or incineration treatment.例文帳に追加
合成樹脂や化学繊維の製造工程で発生する有機質工場廃液を、埋め立て処理や焼却処理することなく、セメント仕上げ粉砕工程における粉砕助剤として有効に活用しセメントを製造すること。 - 特許庁
To provide a negative resist composition showing not only proper basic physical properties, such as retention ratio, pattern stability, adhesion to substrate, and chemical resistance, but also very low brittleness due to superior ductility, during bonding process and hot process.例文帳に追加
残膜率、パターンの安定性、基材に対する接着力及び耐化学性などの基本物性が良好なだけでなく軟性に優れており合着工程や高温工程中において容易に割れないネガレジスト組成物の提供。 - 特許庁
And the method of manufacturing the stent comprises a process of forming patterns on the surface of a tubular body with laser beams and shaping the section of the strut 1a nearly into a square and a process of shaping the section of the strut 1a nearly into a circle by chemical polishing.例文帳に追加
(a)レーザーにより管状体の表面にパターンを形成するとともにストラット1aの断面を略正方形になるように加工する工程、(b)前記ストラット1a断面を化学研磨により略円形に形成する工程、 - 特許庁
In the cleaning agent used after a chemical mechanical polishing process in the semiconductor device manufacturing process, (A) polycarboxylic acid, (B) anionic surfactant, and (C) a tetrazole derivative are contained, and the pH is in a range of 1 to 5.例文帳に追加
半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、(A)ポリカルボン酸、(B)アニオン性界面活性剤、及び、(C)テトラゾール誘導体を含み、pHが1〜5であることを特徴とする。 - 特許庁
A process where a semiconductor film 2 is formed on a substrate 1 by a catalyst CVD(chemical vapor development) method, and a process where the semiconductor film 2 is laser-annealed to provide a polycrystal semiconductor film 3, are provided.例文帳に追加
触媒CVD法によって基板1上に半導体膜2を形成する工程と、半導体膜2をレーザアニール処理して多結晶半導体膜3を得る工程と、を備えてなる多結晶半導体膜の形成方法。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a laminate by which an organic coating material layer can be formed continuously and stably on a thermoplastic support by vaporizing an organic matter consecutively, in a film forming velocity range of a chemical vapor deposition process or a sputtering process.例文帳に追加
化学蒸着法やスパタリング法の成膜速度領域で、有機物を連続的に気化させ、熱可塑性支持体上に連続的に有機被覆物層を安定して形成できる積層体の製造方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a method for producing deinked pulp of printed wastepaper, which has a cleaning process in a post-processing of an ink-release process, significantly reduces the used amount of an alkaline chemical and has slight unreleased ink.例文帳に追加
インキ剥離工程の後工程に洗浄工程を有する、印刷古紙の脱インキパルプの製造方法において、アルカリ性薬品の使用量を大幅に削減した上で、未剥離インキの少ない脱インキパルプ製造方法の提供。 - 特許庁
After a contamination concentration is reduced to some extent by the chemical treatment process, a biotreatment process of decomposing the contaminants further by microorganisms by injecting a microorganism activator from the injection well further is executed.例文帳に追加
化学的処理工程により汚染濃度をある程度低減せしめた後、前記注入井戸から微生物活性剤をさらに注入することにより汚染物質を微生物によりさらに分解するバイオ処理工程を実施する。 - 特許庁
The cleaning agent for semiconductor surfaces, which is used after a chemical mechanical polishing process in the process of manufacturing the semiconductor device having the copper wiring on its surface, contains a compound having a cyclohexyl group.例文帳に追加
表面に銅配線が施された半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、シクロヘキシル基を有する化合物を含有する半導体表面用洗浄剤。 - 特許庁
A control part 40 stops a sludge feed pump 60, a chemical injection pump 61, and the agitator 63 of a coagulation mixing tank 64, when a filtering process is completed after instructions for finishing the filtering process are inputted from an input part 62.例文帳に追加
制御部40は、入力部62から濾過行程の終了の指示が入力され、濾過行程が終了すると、汚泥供給ポンプ60と薬品注入ポンプ61と凝集混和漕64の攪拌機63とを停止させる。 - 特許庁
To provide a chemical recycling treatment process which enables complete decomposition of an organic residue contained in a decomposition product and utilization of waste heat as a heat source required for separation/ concentration of materials of value, and also to provide an equipment for the process.例文帳に追加
分解生成物に含まれる有機性残滓の完全分解が可能であり、有価物質の分離・濃縮に必要な熱源として廃熱の利用が可能なケミカルリサイクル処理方法及び装置の提供を目的とするものである。 - 特許庁
This chemical decontaminating method comprises an oxidation dissolving process wherein an oxide film is oxidation dissolved by the oxidizing force of an ozone gas or ozone aqueous solution obtained from an ozone generator generating high-concentration ozone by electrolyzing pure water using catalytic metals as electrodes, a reduction dissolving process using oxalic acid, a dissolving process for a reducing agent, and a decomposing process for the metals eluted.例文帳に追加
電極に触媒金属を用いて純水を電気分解することにより高濃度オゾンを発生させるオゾン発生器から得られるオゾンガスまたはオゾン水溶液の酸化力により酸化皮膜を酸化溶解する酸化溶解工程と、シュウ酸による還元溶解工程と、還元剤の分解工程、及び溶出金属の分解工程とで構成する。 - 特許庁
To provide a method for growing a carbon fiber at a low temperature capable of growing the carbon fiber at a low temperature of ≤450°C by an organic metal chemical vapor deposition process.例文帳に追加
有機金属化学気相蒸着法によって、450℃以下の低温でカーボンファイバを成長させることができるカーボンファイバの低温成長方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process for producing a fiber reinforced resin excellent in corrosion resistance and chemical resistance and a molding intermediate material which can be suitably used therein.例文帳に追加
本発明は、耐食性・耐薬品性に優れた繊維強化樹脂の製造方法、それに好適に使用することができる成形中間材料を提供することを課題とする。 - 特許庁
Any of a plurality of chambers is provided with a spinning apparatus 25 for conducting spinning process to the substrate before the water cleaning after the processes by the chemical solutions.例文帳に追加
複数の室のうちのいずれかには、薬液処理よりも後で水洗よりも前に基板に対してスピン処理を行なうためのスピン装置25が設置されている。 - 特許庁
After passing through such sequential process, the high-strength cold-rolled steel sheet having strength of ≥590 MPa TS and excellent in the chemical-processing property and the corrosion-resistance after electrostatic-deposition coating, is obtained.例文帳に追加
このような一連の工程を経ることにより、TS≧590Mpaの強度を有する、化成処理性および電着塗装後耐食性に優れた高強度冷延鋼板が得られる。 - 特許庁
This method and device for improving process performance over the service life of the polishing pad in the chemical-mechanical polishing device uses closed loop control for abrasion of the polishing pad.例文帳に追加
ケミカルメカニカルポリシング装置におけるポリシングパッドの寿命にわたってプロセス性能を高める方法および装置は、ポリシングパッドの磨耗の閉ループ制御を使用する。 - 特許庁
To provide a cartridge filter for precision filtration which can be suitably used in a manufacturing process or the like of a semiconductor or a medicine or the like, is excellent in chemical resistance and has good pressure resistance.例文帳に追加
半導体や医薬品等の製造過程等に好適に使用し得る、耐薬品性に優れ、しかも耐圧性も良好な精密ろ過用カートリッジフィルターを提供する。 - 特許庁
To reduce a blackening treating stage in a printed circuit board producing process and to obtain a compsn. forming a chemical film excellent in adhesive strength, acid resistance and adhesion.例文帳に追加
印刷回路基板製造過程において黒化処理工程を短縮し、接着強度、耐酸性および密着性が優秀な化成被膜を形成する組成物を得る。 - 特許庁
To provide a cartridge filter for precision filtration which can be suitably used in a manufacturing process or the like of a semiconductor or a medicine or the like, is excellent in chemical resistance and further has a large filtration flow rate.例文帳に追加
半導体や医薬品等の製造過程等に好適に使用し得る、耐薬品性に優れ、しかもろ過流量も大きい精密ろ過用カートリッジフィルターを提供する。 - 特許庁
A molten metal having the above chemical composition is continuously cast by a twin belt type casting machine, and is subjected to cold rolling including process annealing, so as to be a final sheet thickness of 40 to 200 μm.例文帳に追加
上記化学組成の溶湯を双ベルト式鋳造機により連続鋳造し、中間焼鈍を含む冷間圧延により最終板厚40〜200μmにする。 - 特許庁
Especially, for this protective film 14, it is suitable to use a chemical vapor phase deposition method, and forming conditions (temperature, raw material supply amount) are changed during the process of forming.例文帳に追加
特に、この保護膜14は化学気相堆積法を用いることが好適であり、その際の形成条件(温度、原料供給量)を形成途中で変更する。 - 特許庁
To smoothly exhaust excess soot formed in a reaction tube to the exterior of the reaction tube in manufacturing an optical fiber preform by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加
化学気相蒸着方法による光ファイバー母材製造において、反応管内部に過度に生成されたシュートを反応管の外部へ円滑に排出できるようにする。 - 特許庁
Second group-III and nitrogen precursors are flowed into the second processing chamber to deposit a second layer over the first layer with a thermal chemical-vapor-deposition process.例文帳に追加
II族及び窒素の前駆物質が、該第2の処理チャンバに流入されて、熱化学気相堆積プロセスを用いて該第1の層を覆って第2の層が堆積される。 - 特許庁
Chemical pouring sections 33a, 35a for plant and a water supplying pump 37 are controlled at the process control section 4 depending on predicted amount of water demand and the quality of raw water.例文帳に追加
プロセス制御部4において、予測された水需要量と原水水質に基づいて、プラントの薬品注入部33a,35aと送水ポンプ37が制御される。 - 特許庁
To provide a soft metal conductor where hardness on an uppermost surface without abrasion is improved after the surface is polished by a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加
化学的機械的研磨プロセスで研磨した後でほぼ擦り傷なしの表面が得られるような、その最上部表面の硬度が改善された軟金属導体を提供する。 - 特許庁
The substrate surface by a plating metal formed by an electrolytic plating process is etched by a chemical liquid for dissolving a plating metal to reduce the irregularities on the substrate surface.例文帳に追加
電解めっき工程によって形成されためっき金属による基板表面を、めっき金属を溶解する薬液によってエッチングし、基板表面の凹凸を低減する。 - 特許庁
To provide an automobile steel sheet which has excellent pressing properties, suitability for adhesives and chemical convertibility in a simple process at a low cost by utilizing the particles of phosphates.例文帳に追加
本発明は、リン酸塩の粒子を利用して、プレス性、接着剤適合性及び化成処理性に優れた自動車用鋼板を、簡単な工程で低コストにて提供する。 - 特許庁
To provide a method for fabricating carbon fiber-reinforced composite material parts in which at least a part has high density by a matrix according to a CVI (chemical vapor infiltration) type process.例文帳に追加
マトリックスにより、少なくとも一部はCVI型プロセスにより高密度化された炭素繊維強化を有する複合材料部品を製作する方法の提供。 - 特許庁
CHEMICAL PALLADIUM/GOLD PLATING FILM STRUCTURE, METHOD FOR PRODUCTION THEREOF, PALLADIUM/GOLD PLATING FILM PACKAGE STRUCTURE BONDED WITH COPPER WIRE OR PALLADIUM/COPPER WIRE, AND PACKAGING PROCESS THEREOF例文帳に追加
化学パラジウム/金めっき皮膜構造及びその製造方法、銅線またはパラジウム/銅線で接合されたパラジウム/金めっき皮膜パッケージ構造及びそのパッケージプロセス - 特許庁
To provide a forming method of a transparent conductive film pattern in which damage by a chemical solution is reduced and a process is simplified, and the forming method of a metal thin film pattern.例文帳に追加
薬液によるダメージを軽減し、工程を簡略化できる透明導電膜パターンの形成方法および金属薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a coating pretreatment apparatus in which the space is saved by shortening a treatment process, the productivity is improved and the equipment cost, the chemical cost, the management man-hour and the load of waste water treatment are reduced.例文帳に追加
処理工程の短縮による省スペース化、設備費、生産性、薬剤費、管理工数、排水処理負担の低減できる塗装前処理装置を提供する。 - 特許庁
A recess 110 is formed by allowing upper portions of the wiring 102 and the wiring 103 to be recessed by chemical mechanical polishing process or etching.例文帳に追加
次に、化学的機械研磨法やエッチングによって、第1の金属配線102および第2の金属配線103の上部をリセスさせて凹部110を形成する。 - 特許庁
To manufacture an image forming material excellent in printing performance and durability such as mechanical strength and chemical resistance by preventing distortion of a supporting body in a burning process.例文帳に追加
バーニング工程での支持体の歪みを防止して、印刷緒性能や機械的強度、耐薬品性等の耐久性に優れた画像形成材料を製造する。 - 特許庁
To provide a process for producing a thermoplastic resin composition having high transparency, various good performance such as chemical resistance, and further good hydrolysis resistance characteristically.例文帳に追加
透明性に優れ、且つ耐薬品性等の各種性能が優れており、さらに特徴的には耐加水分解性に優れた熱可塑性樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation detector having high reliability, by improving weather resistance and chemical resistance against ozone in air and a process fluid containing a corrosive gas.例文帳に追加
空気中のオゾンおよび腐食性ガスを含むプロセス流体に対する耐候性及び耐薬品性の向上を図り、信頼性の高い放射線検出器を提供する。 - 特許庁
To provide physical and/or chemical pretreatment method for vegetable prior to processing, including no complicated process that increase the total expense associated with vegetable production.例文帳に追加
野菜生産に関する総費用を上昇させる複雑な工程を含まない、加工前の野菜の物理的および/または化学的前処理法を提供すること。 - 特許庁
By this process, it is possible to produce a film both higher in deposition velocity and more uniform in composition and thickness than a film prepared by using a conventional chemical precursor.例文帳に追加
このプロセスによれば、堆積速度が大きく、さらに組成的にも厚み的にも、通常の化学前駆体を用いて調整した膜より均一な膜を生成することができる。 - 特許庁
To provide a motor and a manufacturing method thereof with no residual solvent, attaining excellent chemical resistance, water resistance and oil resistance, capable of bonding with permanent magnets in a simple process.例文帳に追加
残留溶剤がなく耐薬品性、耐水性及び耐油性に優れ、簡単な工程で永久磁石を接着できるモータ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
A cleaning liquid is used for cleaning a chemical supply apparatus used in a semiconductor manufacturing process, and contains at least hydrofluoroether.例文帳に追加
半導体製造工程で使用される薬液供給装置を洗浄するための洗浄液であって、少なくともハイドロフルオロエーテルを含有することを特徴とする洗浄液。 - 特許庁
To provide a polishing pad and a polishing method for giving scratchless polishing surface without increase in the number of processes in the chemical and magnetic polishing process of a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板の化学機械研磨において、工程数を増加させることなく、スクラッチのない研磨面を与える研磨パッド及び研磨方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor chemical sensor in which sensitiveness characteristics and durability are enhanced by enhancing the exfoliation resistance of an ion sensitive film without causing complication of the manufacturing process.例文帳に追加
製造工程の繁雑化を招くことなくイオン感応膜の耐剥離性を強化させて感応特性や耐久性を向上させた半導体化学センサを提供すること。 - 特許庁
The opening 15a stopped at rinse liquid process is at a position higher than that of the substrate W, so that no rinse liquid will penetrate into the cup 15 for recovering chemical liquid.例文帳に追加
リンス液処理のときに閉塞された開口15aは基板Wよりも高い位置にあるので、薬液回収用カップ15にリンス液が侵入することがない。 - 特許庁
To provide a preparation method of an alternative fuel contributing to obtainment of a high quality biodiesel fuel in a simple process without use of a chemical.例文帳に追加
本発明は、薬品を使用せず、かつ、簡略な工程で高品質のバイオディーゼルフェルを得ることに寄与し得る代替燃料の製造方法を提供するものである。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a dielectric element in which a dielectric film is formed by a chemical solution deposition method for enhancing the resistance of the dielectric film to a wet process.例文帳に追加
化学溶液法により誘電体膜を形成させる誘電体素子の方法において、誘電体膜のウェットプロセスに対する耐性を高める方法を提供すること。 - 特許庁
The droplet contains a chemical precursor of the coating material in the form of a salt solution and is converted into a secondary globule containing particles (2) by thermal behavior in the process beam.例文帳に追加
液滴は塩溶液の形態でコーティング材料の化学的前駆体を含有し、及びプロセスビーム内の熱挙動によって粒子(2)を含む二次小球へと変換される。 - 特許庁
CHEMICAL REACTION AND MIXING PROCESS USING LAMINAR FLOW OR MINUTE TURBULENT FLOW AND METHOD FOR MANUFACTURING MICROCAPSULE AND FINE PARTICLE BY USING APPARATUS FOR SENDING LIQUID OF MINUTE FLOW RATE例文帳に追加
層流や微小な乱流を利用する化学反応と混合方法、および微小な流量の送液装置を利用したマイクロカプセルや微粒子の製造方法 - 特許庁
To efficiently remove ammonia and phosphorus contained in the separated liquid by performing a combination of biological treatment and chemical treatment of a dehydration-separated liquid from anaerobic-digested sludge, in the treatment process.例文帳に追加
嫌気性消化汚泥の脱水分離液を生物学的処理と化学的処理を組み合わせて、液中に含まれるアンモニアとリンを効率的に除去する。 - 特許庁
By the above, unstable substance having chemical bond generated at the electrodes 14, 16 when an oxidized face 24 is formed at an oxidation treatment process, is released outward.例文帳に追加
これにより、酸化処理工程で酸化面24を形成した際に電極14、16に生成される化学結合の不安定な物質が気体として外部に放出される。 - 特許庁
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