「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method of producing a metal oxide film on an object for film deposition using metal complex gas and water vapor by a chemical vapor deposition process, as the metal complex, the one with β-diketonate having silyl ether groups as a ligand is used.例文帳に追加

本発明の課題は、金属錯体ガスと水蒸気とを用いて、化学気相蒸着法により、成膜対象物上に金属酸化膜を製造する方法において、金属錯体として、シリルエーテル基を有するβ-ジケトナトを配位子とする金属錯体を使用することを特徴とする、金属酸化膜の製造方法によって解決される。 - 特許庁

Since the compressed gas which does not require the addition of a stabilizer is used as the reaction solvent and the liquid-phase polymerization and flash spinning are carried out in a single consecutive process, the method is useful for producing the biodegradable polyester material employed as a biodegradable and biocompatible material useful in medical, chemical, agricultural and environmental fields, etc.例文帳に追加

安定化剤の添加を必要としない圧縮気体を反応溶媒として用い、液相重合反応とフラッシュ紡糸が単一連続工程でなされるため、医学、化学、農学、環境などの分野で有用な生分解性及び生体適合性材料として用いられる生分解性ポリエステル材料の製造に有用である。 - 特許庁

The paper contains, in the pulp stock, 10-90 mass% chemical pulp made from cryptomeria containing 20-100 mass% that of ≥15 year but ≤50 year tree age therein, and is produced by a method producing the paper at ≥750 m/min papermaking rate and passing the paper through a shoe press by one pass or more in the press process.例文帳に追加

スギを原料とした化学パルプをパルプ原料中に１０質量％〜９０質量％の範囲で含有し、前記スギは、樹齢１５年以上５０年以下の材をスギ材中に２０質量％〜１００質量％含有する紙であり、該紙は抄速７５０ｍ／分以上で抄紙し、プレス工程でシュープレスを１パス以上経る方法で製造した紙である - 特許庁

To provide an Ni based alloy which has excellent corrosion resistance to supercritical water containing inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid and hydrofluoric acid caused by the decomposition and oxidation of organic harmful matters used for chemical weapons such as VX gas, GB (sarin) gas and mustard gas, and to provide a member for a supercritical water process reaction vessel consisting of the same Ni based alloy.例文帳に追加

ＶＸガス、ＧＢ（サリン）ガス、マスタードガスなど化学兵器に用いられた有機系有害物質を分解・酸化することによって生じる塩酸、硫酸、燐酸、フッ酸などの無機酸を含む超臨界水に対して優れた耐食性を有するＮｉ基合金およびこのＮｉ基合金からなる超臨界水プロセス反応容器用部材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fitting a carbonaceous crucible into a carbonaceous bowl by which life span of the crucible is extended by protecting it from chemical corrosion and mechanical stress in a process wherein a silicon single crystal is manufactured by a pulling up method using a metallurgical apparatus including the carbonaceous bowl in which the crucible for melting silicon is fitted, and the fabricated metallugical apparatus using the above method.例文帳に追加

シリコンが入るルツボを嵌め込んだ炭素剤料製のボウル含む冶金装置でシリコン単結晶を引き上げ法により製造する際に、化学的な腐食や機械応力からボウルを保護してボウルの耐用年数を長期化させる対策を講じた、ルツボをボウルに嵌め込むための方法、およびその方法を利用して組み立てられた冶金装置。 - 特許庁

To provide a method and means for immobilizing protein which can control orientation of molecules to be immobilized, can stably immobilize the molecules without requiring a complicated process, and do not make a chemical group to be used for immobilization affect the activity and the function of the protein, as a method for immobilizing the molecules of the protein.例文帳に追加

本発明は、蛋白質分子を固定化する方法として、固定化する分子の配向を制御することができ、煩雑な工程が必要なく、安定して固定化することができ、そして、固定化に使用する化学基が蛋白質の活性や機能に影響を及ぼさないような蛋白質固定化方法及び手段を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a curing type coloring composition for ink jet recording which has an extremely good stability during its production process and whose coating film obtained by an ink jet method is highly practical due to the excel lence in transparency, heat resistance and chemical resistance, especially due to the excellent heat resistance, and to provide a color filter using the same.例文帳に追加

インクジェット記録用硬化性着色組成物の製造工程中の安定性が極めて良く、さらにインクジェット法によって得られる塗膜が、透明性、耐熱性、耐薬品性に優れ、なかでも耐熱性に特に優れた実用性の高い塗膜を得ることができる、インクジェット記録用硬化性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルターを提供すること。 - 特許庁

In a coke production process in a coke oven D equipped with equipment for recovering coal carbonization by-products (a gas 12 and coal tar 13), a product derived from a coal liquefaction method and sent from a coal liquefaction reaction tower A is added to a coke oven coal charge 11 before the coal charge 11 is carbonized; thus, the production of chemical products in a coke oven is increased.例文帳に追加

石炭の乾留副産物であるガス１２，コールタール１３を回収する設備を備えたコークス炉Ｄにおけるコークス製造方法において、コークス炉装入炭１１に石炭液化法に由来する石炭液化反応塔Ａからの生成物を添加して乾留することを特徴とするコークス炉における化成品の増産方法。 - 特許庁

To provide a copper or copper alloy heat exchanger tube, in which the evaporation performance of CFC-based refrigerant is enhanced, inner surface coating will not dissolve in CFC-based refrigerant nor causes any chemical reaction, stripping is prevented in the production process of copper tube or air conditioner or during use, and impurities will not infiltrate, even if the inner surface coating re-dissolves during recycle.例文帳に追加

フロン系冷媒の蒸発性能を向上させ、また、内面皮膜がフロン系冷媒に溶解したり、化学反応を起こさず、安定であると共に、銅管の製造工程、エアコンの製造工程、使用時に剥離せず、更にリサイクル時に再溶解しても不純物成分が侵入しない銅又は銅合金製伝熱管を提供する。 - 特許庁

The chemical deterioration evaluating method by impregnating a resin with a Fenton solution is provided, where a process of stopping Fenton reaction is included for immersing a catalyst, which can convert hydrogen peroxide in the Fenton solution into water in the Fenton solution, after the elapse of an evaluation time, to stop deterioration reaction.例文帳に追加

本発明は、フェントン溶液に樹脂を含侵させる化学劣化評価方法であって、評価時間経過以後にフェントン溶液中の過酸化水素を水にし得る触媒をフェントン溶液に浸して劣化反応を停止させるフェントン反応停止工程を有することを特徴とする化学劣化評価方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a mold release laminated film excellent in heat resistance, chemical resistance, hydrolysis resistance and mold releasability, having flexibility and cushioning properties following the stepped parts of the circuit of a circuit board, excellent in press workability, not containing a substance which is bled out of a mold release material to stain the circuit board and optimum to a circuit board manufacturing process using a press.例文帳に追加

耐熱性、耐薬品性、耐加水分解性および離型性に優れ、かつ回路基板の回路の段差に追従する柔軟性とクッション性の付与、およびプレスの作業性に優れ、さらに離型材からブリードアウトする物質がなく回路基板の汚染もない、プレスによる回路基板の製造工程に最適な離型フィルムを提供せんとするものである。 - 特許庁

To provide a method for accurately detecting the presence or absence of foam generation on a reaction liquid surface and actual generation amount by mechanical automation in various chemical reactions for generating foams on the reaction liquid surface in a reaction process and an apparatus for accurately controlling the addition period and actual addition amount of an antifoaming agent by mechanical automation by using the method.例文帳に追加

反応工程で反応液の表面に気泡が発生する種々の化学反応において、反応液面での気泡の発生の有無や実際の発生量を機械的に自動化して正確に検知する方法と、その方法を用いて消泡剤の添加の時期や実際の添加量を機械的に自動化して的確に制御する装置。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition curable by irradiation with ultraviolet rays or electron beams, high in productivity because of being good in separability even in the washing step essential to its production process, liquid at normal temperatures and therefore excellent in handleability, and giving a cured product with good flexibility, chemical resistance and magic ink stain resistance.例文帳に追加

紫外線又は電子線の照射によって硬化可能で、製造工程に不可欠な洗浄行程においても分離が良好なため生産性に優れ、得られた樹脂組成物が常温で液状でありハンドリング性に優れ、さらに、硬化により可とう性、耐薬品性及び耐マジック汚染性が良好な硬化物を与える光硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing method in a manufacturing process of a semiconductor device which can polish an object to be polished, having a low relative permittivity insulation film, a barrier metal layer, and a conductor film at a polishing selectivity appropriate for the conductor film, the barrier metal layer, and the insulation film, while suppressing the damages to the low relative permittivity insulation film.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨方法であって、低比誘電率の絶縁膜とバリアメタル層と導体膜とを有する被研磨体を、該低比誘電率の絶縁膜の損傷を抑制しつつ、導体膜、バリアメタル層、絶縁膜を適切な研磨選択比で研磨できる研磨方法を提供する。 - 特許庁

In the treatment method, sodium hydroxide is added into a waste acid containing iron to adjust a value of pH, sodium hydroxide and air are added into the pH-adjusted solution in another tank to cause chemical reaction, the mixture is exposed to ultraviolet ray from an ultraviolet circuit in an photo-oxidation process and finally iron oxide (III) is separated in the solution by magnetic separation.例文帳に追加

鉄を含有する廃酸、その中に水酸化ナトリウムを加えてｐＨ値を調整すること、その中に水酸化ナトリウムおよび空気を加えた別のタンクで化学反応を実行すること、さらに混合物を光酸化プロセスで紫外線回路に曝露し、最後に磁気選別にかけて前記溶液中で酸化鉄（ＩＩＩ）を分離することからなる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the planographic printing plate, including a process for distributing small drops of a fluid on the surface of a planographic receiving material according to data by ink jet printing, the fluid contains an oleophilizing agent and the oleophilizing agent has a phosphorus-containing group capable of reacting with the surface of the planographic receiving material in its chemical structure.例文帳に追加

流体の小滴を平版受容体の表面にインキジェット印刷により情報通りに分配することを含んで成る平版印刷版の製造方法において、該流体が親油化剤を含有し、該親油化剤はその化学構造において該平版受容体の該表面と反応することができるリン含有基を有することを特徴とする方法。 - 特許庁

To provide a substrate with a transparent conductive film which is stable to prevent characteristics from being deteriorated due to chemical and physical actions in a display element production process or the like, and a manufacturing method thereof, with respect to the substrate on which the transparent conductive film using a zinc oxide (GZO) containing gallium or a zinc oxide (AZO) containing aluminum is formed.例文帳に追加

ガリウムを含む亜鉛の酸化物（ＧＺＯ）、またはアルミニウムを含む亜鉛の酸化物（ＡＺＯ）を用いた透明導電膜が形成された透明導電膜付き基板において、表示素子作成工程等で、化学的，物理的作用を受けて特性劣化を起こしにくい安定した透明導電膜付き基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The chemical-resistant protective clothing is obtained by the following process: laminating a resin layer having at least one of a layer containing ≥90 mass% of ethylene-vinyl alcohol copolymer and a layer comprising resin having a melting point at ≥160°C, and a fiber layer; and joining composite materials having ≥120 min of breakthrough time against methanol to the laminated layers.例文帳に追加

エチレン−ビニルアルコール系共重合体を９０質量％以上含む層および融点が１６０℃以上である樹脂からなる層をそれぞれ少なくとも１層有する樹脂層と、繊維層とが積層され、メタノールに対する破過時間が１２０分以上である、複合材料を接合して製造される耐薬品性防護衣料。 - 特許庁

The method for producing the polyester comprises bringing the polyester mainly comprising terephthalic acid component and glycol component as the repeating unit obtained by polycondensation in the presence of an amorphous germanium dioxide as the condensation catalyst, into chipping process in which the resin is cooled by using cooling water with 2.0mg/l of COD (Chemical Oxygen Demand).例文帳に追加

非晶性二酸化ゲルマニウムを重縮合触媒として用いて重縮合させて得られた、エチレンテレフタレートを主たる繰返し単位とするポリエステル樹脂の溶融重縮合ポリマーを、化学的酸素要求量（ＣＯＤ）が２．０ｍｇ／ｌ以下の冷却水を用いて冷却しながらチップ化することを特徴とするポリエステル樹脂の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of producing a positive type photosensitive planographic printing plate satisfying stable performance without seasonal variations and the shortening of production process at the same time for the object of forming a positive type photosensitive composition film suitable for direct recording with a semiconductor laser, YAG laser or the like and having high sensitivity, good preservability, chemical resistance and resistance to printing wear.例文帳に追加

半導体レーザーやＹＡＧレーザー等による直接記録に適した高感度で保存性及び耐薬品性並びに耐刷性の良好なポジ型感光性組成膜を形成する目的に対し、季節変動のない安定した性能と製造工程の短縮を同時に満たすポジ型感光性平版印刷版を製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of removing the substrate structure includes a step of forming a plurality of peeler-shape bodies on the substrate by a photolithography etching process; a step of growing a group-III nitride semiconductor layer on a plurality of peeler-bodies; a step of chemical-etching a plurality of peeler-bodies; and a step of separating the group-III nitride semiconductor layer from the substrate.例文帳に追加

本発明の基板構造体を除去する方法は、基板上にフォトリソグラフィーエッチング方式で複数の柱状体を製作し、前記複数の柱状体上にＩＩＩ族窒化物半導体層を成長させ、化学エッチング方式で複数の柱状体をエッチングし、前記ＩＩＩ族窒化物半導体層と前記基板を分離する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in performances, such as transmissivity, insulation, flatness, and chemical resistance, and also made suitable to use as an interlayer insulation film in a LCD manufacturing process securing the reliability in the following processes by minimizing the gas leakage especially through the high heat resistant interlayer insulation films.例文帳に追加

透過率、絶縁性、平坦性、耐化学性などの性能に優れるだけでなく、特に高耐熱特性を通した層間絶縁膜で発生されるガス抜けを最少化させて、後工程の信頼性を確保することによってＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜として使用するのに適した感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor comprises the steps of forming (etching to cut-surface chemical conversion, carbonization process) a capacitor element having an anode body with an anode oxide film formed on its surface, impregnating an oxide reagent to the capacitor element by immerging the capacitor element in an oxide reagent solution, and then impregnating a monomer to the capacitor element by immerging the capacitor element in a monomer soluion.例文帳に追加

表面に陽極酸化皮膜が形成された陽極体を有するコンデンサ素子を形成し（エッチング〜切り口化成・炭化処理）、該コンデンサ素子を酸化剤溶液に浸漬することによって、該コンデンサ素子に酸化剤を含浸させ（酸化剤含浸）、その後、該コンデンサ素子をモノマー溶液に浸漬することによって、該コンデンサ素子にモノマーを含浸させる（モノマー含浸）。 - 特許庁

By using aqueous solution reaction (ASR) process (sol-gel, xerogel, coprecipitation, hot water, glycine nitrate soft oxidizing method, precursor complexation method)(all kinds of carboxylic acids are a complexation factor), material having chemical formula LiVMoO_5.5 of lithium, vadium, and molybdenum having brannerite structure (laminated shape) showing both of low porosity submicron and nano-scale level particles is mass produced.例文帳に追加

ＡＳＲ法（ゾル−ゲル、キセロゲルおよび共沈、熱水、グリシン硝酸塩ソフト酸化法、前駆体錯化法（総ての種類のカルボン酸はアルコキシドと同様の錯化因子である））を用いて、孔の少ないサブミクロンおよびナノスケールレベルの粒子の両方を示すブランネル構造（積層状）を有するリチウム・バナジウム・モリブデンの化学式ＬｉＶＭｏＯ_５．５を大量に生成することができる。 - 特許庁

In a method comprising arranging a raw material polycrystal 2 in a growth chamber 1 and growing the group II-VI compound semiconductor crystal on a seed crystal 4 by a sublimation method or a halogen chemical transport method, the temperature at the seed crystal 4 side is kept at a higher temperature than that at the grown crystal 3 side in a cooling process after growth of the crystal.例文帳に追加

成長室１中に原料多結晶２を配置し、昇華法またはハロゲン化学輸送法で種結晶４上にＩＩ−ＶＩ族化合物半導体結晶を成長させる方法において、結晶成長後の冷却過程において、種結晶４側の温度を、成長結晶３側の温度より高温に保持する。 - 特許庁

To provide a particle-agglomerated type monolithic organic porous article suitable for use in an absorbent which is chemically stable, exhibits a reduced pressure loss for liquid permeation and has a large absorption capacity and an ion exchanger which is chemically stable, exhibits a reduced pressure loss for liquid permeation and a large ion exchange capacity, its manufacturing process, a monolithic organic porous ion exchanger and a chemical filter.例文帳に追加

化学的に安定で、流体透過時の圧力損失が低く、吸着容量の大きな吸着剤、化学的に安定で、流体透過時の圧力損失が低く、イオン交換容量の大きなイオン交換体として好適なモノリス状有機多孔質体、その製造方法、モノリス状有機多孔質イオン交換体及びケミカルフィルターを提供すること。 - 特許庁

A method of selectively forming a germanium structure within semiconductor manufacturing processes removes the native oxide in a chemical oxide removal (COR) process and then exposes the heated nitride surface and a oxide surface to a heated germanium containing gas to selectively form germanium only on the nitride surface but not the oxide surface.例文帳に追加

半導体製造プロセス中でゲルマニウム構造体を選択的に形成する方法は、化学的酸化物除去（ＣＯＲ）プロセスにおいて自然酸化物を除去し、次いで、加熱された窒化物及び酸化物表面を加熱されたゲルマニウム含有ガスに曝して、ゲルマニウムを選択的に窒化物表面上にだけ形成し、酸化物表面上には形成しない。 - 特許庁

The polishing liquid used for chemical mechanical polishing in a planarization process of a semiconductor integrated circuit contains a quaternary ammonium cation, an organic acid, an inorganic particle, and at least one of a compound expressed by general formula (I) and a polymer including a structure unit shown by the general formula (I), and has a pH of 1 to 7.例文帳に追加

半導体集積回路の平坦化工程において化学的機械的研磨に用いられる研磨液であって、四級アンモニウムカチオン、有機酸、無機粒子、並びに、下記一般式（Ｉ）で示される化合物及び下記一般式（Ｉ）で示される構造単位を含む高分子の少なくとも一方を含み、ｐＨが１〜７の範囲である研磨液である。 - 特許庁

In the semiconductor device in which a plurality of semiconductor chips are stacked on a thickness direction are mounted, an interposer between the semiconductor chips has sufficient planarity and dimension stability even on conditions that a polyimide film 1 to be formed has a curling degree of 10% or less at 300°C and it has been subjected to mechanical, thermal and chemical stresses in a circuit pattern forming process.例文帳に追加

複数の半導体チップが厚さ方向に積層・搭載された半導体装置であって、これら半導体チップ間のインターポーザが、構成されるポリイミドフィルム１の３００℃でのカール度１０％以下で、回路パターン制作過程に於いて機械的、熱的、化学的ストレスを経ても、十分な平面性と寸法安定性を有している。 - 特許庁

To provide a holding substrate for an LED light emitting device suitable as a high output LED, which has a small difference in a coefficient of linear thermal expansion, as compared with a III-V group semiconductor crystal, which constitutes LED, is excellent in thermal conductivity, and further is superior in chemical resistance against an acid and alkali solution which are used in a manufacturing process.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、ＬＥＤを構成するIII−Ｖ族半導体結晶と線熱膨張率の差が小さく、かつ熱伝導性に優れ、更に製造時に使用される酸及びアルカリ溶液に対する耐薬品性に優れた高出力ＬＥＤ用として好適なＬＥＤ発光素子用保持基板を提供することである。 - 特許庁

There is formed a metal polishing liquid that is used for chemical mechanical polishing in a semiconductor device manufacturing process and characterized by containing an amino acid derivative represented by general formula (I), a heteroaromatic ring compound, an abrasive grain, an oxidizing agent, and a metal chelating agent.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨に用いられ、下記一般式（Ｉ）で表されるアミノ酸誘導体、複素芳香環化合物、砥粒、酸化剤、及び金属キレート剤を含有することを特徴とする金属用研磨液［一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜３のアルキレン基を表す。 - 特許庁

To provide a rayon fiber having functions imparted by a tea-originated component and excellent durability of the imparted function by allowing the tea-originated component having inferior chemical resistance to alkalis and/or acids to be contained therein without causing deactivation and/or deterioration of the activities even if being exposed to alkalis and/or the acids in a viscose rayon production process.例文帳に追加

ビスコースレーヨン製造工程中にアルカリ及び／又は酸などに曝されても失活及び／又は低下を生じさせずに、アルカリ及び／又は酸に対する耐薬品性の劣る茶由来成分を含有させ、茶由成分により付与される機能性を有し、かつ付与した機能性の耐久性に優れるレーヨン繊維及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a phenol compound having a simple process route, and not depending on a method related to aromatic compounds, such as a cumene method, a toluene raw material oxidative decarboxylation reaction method, a benzene chlorination hydrolysis method, a benzenesulfonic acid alkali fusion method, concerning phenol and alkylphenol compounds which are very important compounds as various synthetic resins, pharmaceuticals or chemical products.例文帳に追加

様々な合成樹脂、医薬品、化成品として非常に重要な化合物であるフェノール及びアルキルフェノール化合物について、プロセスルートが簡潔で、クメン法、トルエン原料酸化的脱炭酸反応法、ベンゼン塩素化加水分解法、ベンゼンスルホン酸アルカリ溶融法等の芳香族化合物に依存しないフェノール化合物の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process for producing an electronic component, an Sn-Bi alloy plating layer constituting a connection conductive layer 8 formed on the surface of a lead 2 is melted by immersing it, for a very short time of 0.2-5 sec, into a fluorine based inactive chemical liquid heated at 220-280°C which is higher than the melting point of the Sn-Bi alloy plating layer.例文帳に追加

開示される電子部品の製造方法は、リード２の表面に形成した接続用導電層８を構成するＳｎ−Ｂｉ合金めっき層を、Ｓｎ−Ｂｉ合金めっき層の融点以上である２２０〜２８０℃に加熱したフッ素系不活性化学液内に０．２〜５秒間のごく短時間浸漬することで溶融させる。 - 特許庁

For example, when a chemical substance is described merely by its name or its chemical formula in a publication and the description does not show the manufacturing process clearly enough that a person skilled in the art is able to manufacture the substance on the basis of the common general knowledge as of the filing, the chemical substance is not included in "cited inventions"(Note that this does not mean that the claim violates the enablement requirement under Article 36(4)(i) where the publication is a patent application claiming the chemical substance as one of the alternatives described in the Markush form). Even though the prior art constitutes an incomplete expression or there is a defect in some of the prior art, it can be cited in assessing the novelty and the inventive step, when the person skilled in the art can readily understand the technical features of the claimed invention based on common technical knowledge or empirical rules. 例文帳に追加

したがって、例えば、刊行物に化学物質名又は化学構造式によりその化学物質が示されている場合において、当業者が本願出願時の技術常識を参酌しても、当該化学物質を製造できることが明らかであるように記載されていないときは、当該化学物質は「引用発明」とはならない（なお、これは、当該刊行物が当該化学物質を選択肢の一部とするマーカッシュ形式の請求項を有する特許文献であるとした場合に、その請求項が第36条第4項第1号の実施先行技術に不完全な表現が含まれるか又は一部の先行技術に瑕疵があったとしても、当業者が技術常識や経験則に基づき容易に発明の技術的特徴を理解することができる場合は、新規性及び進歩性を判断する際に引用することが可能である)。 - 特許庁

The scrubber-less operation method in a metal strip cleaning process includes: a chemical cleaning step of immersing a metal strip into an alkali aqueous solution in a short period of time and performing degreasing; an electrolytic cleaning step of separating particle metal powder and oil by electrolysis after the chemical cleaning step; and a CVJ step of jetting warm water dissolved with air under pressure to the metal strip to clean the surface of the metal strip after the electrolytic cleaning step.例文帳に追加

金属帯をアルカリ水溶液に短時間浸して脱脂する化学洗浄工程と、該化学洗浄工程後に、電気分解により微粒金属粉や油分を分離する電解洗浄工程と、該電解洗浄工程後に、空気を加圧溶解した温水を金属帯に噴射して金属帯表面を洗浄するCVJ工程とを有する、金属帯洗浄工程のスクラバーレス操業方法であって、化学洗浄および電解洗浄の各工程において使用される電清添加剤濃度と、CVJ工程においてスプレーノズルから噴射されるCVJ圧力が下記式で規定される値以上である。 - 特許庁

The production or use, under the provisions of the previous legislation, of substances, materials or products obtained by chemical means or processes, and alimentary or chemical-pharmaceutical substances, materials, mixtures, or products, and medications of any kind, as well as the relevant processes for obtaining or modifying them, even if protected by a product or process patent in another country, under a treaty or convention in force in Brazil, may continue under the same conditions as prevailed prior to the approval of this Law. 例文帳に追加

化学的手段又は方法によって取得される物質，材料又は製品，及び食用又は医薬用の物質，材料，混合物又は製品，及び全ての種類の医薬，並びに関連する取得又は変性の方法に関し，旧法制の規定に基づいて行われている生産又は使用は，それらのものが，ブラジルに対して効力を有する条約又は協定に基づいて，他国における製品特許又は方法特許によって保護されている場合であっても，本法承認前に存在していたのと同一の条件に基づいて継続することができる。 - 特許庁

However, in the process of manufacturing or processing a food, if an agricultural chemical whose ingredients have food standards based on Paragraph 1, Article 11 of was used for other purposes than agricultural production and if its use has resulted in residue of the ingredients in the food (e.g., A substance was used for sterilizing an equipment in the production facility of a food, and the use has resulted in a residue in the food due to contact with equipment.), the food may be subject to Paragraph 3, Article 11, since it is very difficult to determine whether the chemical was used for an agricultural production or non-agricultural production purpose.例文帳に追加

ただし、食品の製造・加工の工程等において法第１１条第１項の食品規格が定められている農薬等の成分である物質が、農薬等以外の用途で使用され食品に残留する場合（施設内で設備等の消毒目的で使用された物質について、食品が設備等と接触することにより残留する場合などが考えられる。）、農薬等を使用することにより当該物質が残留する場合との区別がつかないため、当該場合においては同条の規制の対象となること。 - 厚生労働省

The manufacturing method of the group III nitride compound semiconductor light-emitting element includes a first process for forming a dielectric film on a SiC substrate or the group III nitride compound semiconductor in a pattern shape and a second process for causing the group III nitride semiconductor layer to selectively grow on the SiC substrate or the group III nitride compound semiconductor by an organic metal chemical vapor growth method, after a reactor is substituted for hydrogen atmosphere.例文帳に追加

本発明のＩＩＩ族窒化物系半化合物半導体発光素子の製造方法は、ＳｉＣ基板上またはＩＩＩ族窒化物系化合物半導体上に誘電体膜をパターン状に形成する第１工程と、リアクターを水素雰囲気に置換した後、有機金属化学的気相成長法により上記ＳｉＣ基板または上記ＩＩＩ族窒化物系化合物半導体の上にＩＩＩ族窒化物系半導体層を選択成長する第２工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a hydrophilic fluroresin particle which has a significantly improved surface wettability at no expense of the chemical stability, low friction, weather resistance, etc. inherent in a fluroresin and does not adversely affect the subsequent processes and the moldings and a process by which the hydrophilic fluroresin particle is efficiently and reliably manufactured.例文帳に追加

フッ素樹脂が本来有している化学的安定性、低摩擦性、耐候性等を損なうことなく、かつ、後工程や成型品に対する悪影響を惹起することなく表面の濡れ性の十分な向上が達成された親水性フッ素樹脂粒子、並びにそのような親水性フッ素樹脂粒子を効率良くかつ確実に製造することを可能とする方法を提供すること。 - 特許庁

A doping step and a step in which a sharp shape is formed are saved and a manufacturing process can be shortened to reduce a manufacturing cost and improve efficiency, and since a silicide nanowire can be grown by using all of a physical deposition and a chemical deposition method, an application range can be expanded.例文帳に追加

本発明は、ドーピング過程と尖った形状を作るための過程を省略して、生産工程の短縮で生産費を節減することができ、少ない電圧で放出電流を増大させることができて性能の向上を図り、物理的蒸着と化学的蒸着方法すべてを適用してシリサイドナノワイヤーを成長させることができるので、適用範囲を拡張させることができる。 - 特許庁

To obtain a glass for the substrate of a liquid crystal display having a coefft. of linear expansion close to that of an So film, a distortion point which makes the glass usable as the substrate of a TFT system liquid crystal display, good chemical resistance to hydrofluoric acid and nitric acid largely used in a TFT producing process, practical meltability and practical moldability and contg. no harmful substance.例文帳に追加

Ｓｉ膜の線膨張係数と近似する線膨張係数を有し、かつ、ＴＦＴ方式の液晶ディスプレイの基板として使用可能な歪点、ＴＦＴの製造工程で多用されるフッ酸および硝酸に対する良好な耐薬品性、実用的な熔融性、および実用的な成形性を有するとともに、有害物質を含まない液晶ディスプレイ基板用ガラスを提供する。 - 特許庁

The bulky printng paper having the above-mentiond advantages is obtained by the following process: Uncalendered paper obtained by papermaking of broadleaf mechanical pulp produced by chemical treatment and/or base paper essentially compounded with a paper bulking agent is treated with a shoe calender equipped with a metallic roll and a shoe roll having an elastic resin endless belt.例文帳に追加

化学薬品処理を施して製造される広葉樹機械パルプおよび／または紙用嵩高剤を少なくとも配合した紙料を抄紙して得られるカレンダー未処理紙を、金属ロールと弾性樹脂製のエンドレスベルトを有するシューロールを備えたシューカレンダーで処理することにより、極めて低密度でかつ平滑性と表面強度が高く印刷適性に優れた嵩高印刷用紙を得ることができる。 - 特許庁

Flowable chips are a polycrystalline silicon piece group which comprises polycrystalline silicon pieces prepared by a chemical vapor deposition process and having bulk impurities at a level not exceeding 0.03 ppma and surface impurities at a level not exceeding 15 ppba, and which moreover has a controlled particle size distribution and generally has nonspherical morphology.例文帳に追加

本発明の流動性チップは、化学的気相成長法で製造されかつ０．０３ｐｐｍａを超えないレベルのバルク不純物と１５ｐｐｂａを超えないレベルの表面不純物とを有する多結晶シリコン片で構成される多結晶シリコン片群であって、しかも制御された粒度分布を有しかつ概して非球状モルフォロジィを有する多結晶シリコン片群から成る。 - 特許庁

To produce a molded object having a pellet size from a powdery inorg. substance changed in its chemical compsn. by water absorption advantageously from an aspect of a process and cost so as to keep the water absorbing capacity (reactivity with water) thereof equal to that of a powdery or granular object to provide strength not collapsed even if water absorbing capacity is exhausted to the molded object.例文帳に追加

吸水により化学組成が変化する粉体状の無機物質から工程的およびコスト的に有利にペレット大の成形物を製造すること、しかもその成形物の吸水能力（水との反応性）は粉体状や顆粒状のものと同等に保たれ、かつその吸水能力を使い尽くしても崩壊しない強度を有するようにすることを目的とする。 - 特許庁