「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pretreating method for oxygen delignification process of a digested unbleached chemical pulp for promoting the delignification of the pulp and decrease the consumption of chemicals in the following bleaching step.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、蒸解後の未漂白化学パルプを酸素脱リグニン処理する工程において、パルプの脱リグニンを促進し、後続の漂白段の薬品使用量を低減させるための酸素脱リグニン前処理法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polyamide resin composition as a material for an automobile radiator that satisfies mechanical characteristics and also has excellent heat resistance and improved chemical resistance to calcium chloride, ethylene glycol or the like, to provide a process for producing the polyamide resin composition and to provide an automobile radiator tank.例文帳に追加

機械的特性を満足しつつ、耐熱性が優れ、塩化カルシウムやエチレングリコールなどに対する耐薬品性が向上した自動車ラジエーター素材としてのポリアミド樹脂組成物、その製造方法、および自動車ラジエータータンクを提供する。 - 特許庁

In the process for producing an amorphous silicon thin film by chemical vapor growth using a gas containing silicon and a halogenated hydrogen gas, i.e.例文帳に追加

ケイ素含有ガスとＨＦ、ＨＢｒまたはＨＩであるハロゲン化水素ガスとを用いる化学気相成長法により非晶質シリコン薄膜を製造する方法であって、非晶質シリコン薄膜の光学バンドギャップが２．０ｅＶ以下である非晶質シリコン薄膜の製造方法。 - 特許庁

So, a high chemical reaction of ozone is utilized to highly clean the pBN crucible in a short process time, and the cleaned crucible is used to grow a compound semiconductor crystal of high quality.例文帳に追加

このように、オゾンの高い化学的反応性を利用することによって、短い処理時間でｐＢＮ坩堝を高度に清浄化することができ、その清浄化された坩堝を用いて高品質の化合物半導体結晶を育成することができる。 - 特許庁

To provide a chemical agent which is used in an electronic material manufacturing process, has a low alkali metal content and a low content of unreacted active hydrogen atoms, and contains a polyalkylene glycol-added type nonionic surfactant excellent in rinsing property.例文帳に追加

アルカリ金属原子含量および未反応の活性水素原子含有化合物含量が少ない、リンス性に優れたポリアルキレングリコール付加型非イオン性界面活性剤を含有してなるエレクトロニクス材料製造工程用薬剤を提供する。 - 特許庁

Critical to the process of interpreting and integrating the source material is the care that must be taken to avoid defining regionalities of particular ecoregion components such as fish or macroinvertebrate characteristics, or patterns in a single, or a set of, chemical parameters.例文帳に追加

資料の解釈・統合過程できわめて重要なのは，魚類または大型無脊椎動物の特性や，単一または一連の化学的パラメータといった特定の生態系構成要素で地域性を画定するのを避けるよう配慮すべきことである。 - 英語論文検索例文集

Critical to the process of interpreting and integrating the source material is the care that must be taken to avoid defining regionalities of particular ecoregion components such as fish or macroinvertebrate characteristics, or patterns in a single, or a set of, chemical parameters.例文帳に追加

資料の解釈・統合過程できわめて重要なのは，魚類または大型無脊椎動物の特性や，単一または一連の化学的パラメータといった特定の生態系構成要素で地域性を画定するのを避けるよう配慮すべきことである。 - 英語論文検索例文集

To provide a method for manufacturing a UO-formed steel pipe, which method can prevent low temperature cracks caused in a weld metal in the seam welding portion of the UO-formed steel pipe without imposing any restrictions on the chemical composition of the weld metal, and further without lowering the efficiency of a manufacturing process.例文帳に追加

溶接金属の化学組成には何ら制限を加えず、しかも製造工程の効率を下げることなく、ＵＯ鋼管のシーム溶接部の溶接金属に発生する低温割れを防止するＵＯ鋼管の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive particle which is used for a chemical mechanical polishimg method and contains a resin, the state of a polished surface polished with which is easily observable, and a polishing flaw on the polished surface is easily findable and the end point of polishing process is easily detectable.例文帳に追加

化学的機械研磨方法に用いられる樹脂を含有する研磨用粒子であって、被研磨面の研磨状況を観察し易く、研磨傷の発見や研磨工程の終点を容易に検知することができる研磨用粒子を提供する。 - 特許庁

The process of fabricating such high quality Al_xGa_yIn_zN wafer may include steps of lapping, mechanical polishing, and reducing internal stress of such wafer by thermal annealing or chemical etching for further enhancement of its surface quality.例文帳に追加

このような高品質Ａｌ_ｘＧａ_ｙＩｎ_ｚＮウェーハの製造方法はラッピング工程、機械研磨工程、およびその表面品質を更に高めるための熱アニールまたは化学エッチングによるウェーハの内部応力を低下させる工程を含んでよい。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which attains enhancement in resolving power and improvement in process tolerability such as exposure margin and focal depth in lithography using a short-wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The luminescent glass produced by the luminescent glass production method having a 1st process for adsorbing rare earth atoms on a porous glass and a 2nd process for firing the rare earth atom-adsorbing porous glass obtained in the 1st process in the air or reducing atmosphere has excellent heat resistance, chemical durability and mechanical strength and shows strong luminescence by the irradiation with ultraviolet ray or the like.例文帳に追加

多孔質ガラスに希土類原子を吸着させる第１工程と、上記第１工程により得られた希土類原子含有吸着多孔質ガラスを大気中あるいは還元雰囲気中にて焼成させる第２工程とを有する発光ガラス生産方法により、生産された発光ガラスは、耐熱性、化学的耐久性、および機械的強度が優れているとともに、紫外線等の照射により強い発光を呈することができる。 - 特許庁

This biological and continuously long term administration method of carbon dioxide consists of: a process for discharging an acidic aq. solution from a storage vessel by chemical reaction with a gas pressure generating means; a process for dropping the acidic aq. solution to carbonate compounds or hydrogencarbonate compounds of solid and/or liquid; and a process for feeding carbon dioxide generated in a medium to be biologically used.例文帳に追加

生物学用長期連続型二酸化炭素投与方法であって、１）化学反応によるガス圧発生手段により貯蔵容器から酸水溶液を放出する工程と、２）固体および／または液体の炭酸塩化合物または炭酸水素塩化合物に上記酸水溶液を滴下する工程と、３）生物学的に使用するための媒体に発生した二酸化炭素を供給する工程とから成ることを特徴とする二酸化炭素投与方法。 - 特許庁

A method for inspecting a semiconductor wafer which has a film to form device structures, including device patterns and may have crystal defects, comprises a process of exposing the crystal surface of the semiconductor wafer, by removing the device structure film with a chemical solution, a process of making apparent any crystal defects by selectively removing the surface layer of the semiconductor wafer through selective etching, and a process of quantitatively evaluating the crystal defects.例文帳に追加

デバイスパターンを含むデバイス構造を構成する膜を備え、結晶欠陥を有することがある半導体ウェーハを検査する方法において、上記デバイス構造膜を薬液で除去して半導体ウェーハの結晶表面を露出させる工程と、選択エッチングにより半導体ウェーハの表面層を選択的に除去して上記結晶欠陥を顕在化する工程と、上記結晶欠陥を定量的に評価する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a new substrate rust prevention method having high economic efficiency and environmental conservation by exhibiting excellent coating film adhesiveness and corrosion resistance equal to or more than the conventional process by providing a multilayer coating film deposition method for successively depositing a pretreatment coating and an electrodeposition coating film of an extremely small amount as compared to the conventional pretreatment process using a chemical liquid and electrodeposition coating material and cationic electrodeposition coating process.例文帳に追加

本発明により、従来の化成液および電着塗料による前処理工程およびカチオン電着塗装工程と比較して、極少量の前処理皮膜と電着塗膜を順次形成させる複層塗膜形成方法を提供することで、従来工程と同等以上の優れた塗膜密着性と耐食性を発現させることによって、経済性と環境保全性の高い新規な下地防錆方法を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive composition for the CMP (chemical mechanical polishing) process which improves the problem of causing defects by damaging the surface of a material to be processed and leaving the abrasive and an abrasive residue on the surface of the processed material even after washing and to improve the filtering characteristics of the recovered composition.例文帳に追加

被加工物の表面に傷を生じたり、洗浄後も被加工物表面に研磨材や研磨屑が残存し、欠陥の原因となる問題の改良及び回収組成物の濾過性を改良するＣＭＰプロセス用研磨組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a metalworking lubricant which is an organic-solvent-based one-component type capable of being formed into a film by a simple process and is capable of forming a solid film equivalent to a chemical conversion film and to provide a method for simply forming a solid lubricant film by using the same.例文帳に追加

皮膜形成プロセスが簡易である有機溶剤ベースの一液処理型であって、化成処理皮膜と同等の固形膜を形成できる金属加工用潤滑剤と、これを用いて固形潤滑膜を簡易に形成する方法とを提供する。 - 特許庁

To achieve both the high efficiency in storage and transportation of a glass substrate package, particularly a glass substrate package used for a liquid crystal display and the like and the abbreviation of a chemical washing process of the glass substrate using a detergent or the like after unpacking the glass substrate and before fabricating it.例文帳に追加

ガラス基板包装体、特に液晶ディスプレイ等に使用されるガラス基板の包装体において、高い保存・輸送効率の実現と、ガラス基板の開梱後加工前における洗剤等を使用した化学的洗浄工程の省略を、同時に可能とする。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as an improved margin for exposure and an improved depth of a focus in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultramicro-fabrication and a positive type chemical amplification type resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion element for chemical mechanical polishing which suppresses generation of polishing scratches without decelerating polishing speed, and to provide a method for removing extra insulation film in a minute element separation process.例文帳に追加

研磨速度を低下させることなく、研磨傷の発生が抑制された化学機械研磨用水系分散体及び当該水系分散体を用いて微細化素子分離工程における余分の絶縁膜の除去を行う化学機械研磨方法を提供すること。 - 特許庁

An amorphous silicon thin film is formed on the surface of a substrate 4 in a vacuum atmosphere by a CVD (chemical vapor deposition) process, thereafter, while placing the substrate 4 in the vacuum atmosphere, the temperature is raised to the one at which the amorphous silicon thin film is formed or above, and dehydrogenation treatment is performed.例文帳に追加

真空雰囲気中で基板４表面にＣＶＤ法によってアモルファスシリコン薄膜を形成した後、その基板４を真空雰囲気中に置いたまま、アモルファスシリコン薄膜を形成したときの温度以上に昇温させ、脱水素処理を行う。 - 特許庁

A chemical and mechanical polishing method is constituted of a process to travel a tape T having voids on its surface by pushhing it on a surface of a glass substrate D while supplying a coolant L to which a solution having a hydroxyl group is added to the surface of the glass substrate D.例文帳に追加

水酸基を有する溶液を添加したクーラントＬをガラス基板Ｄの表面に供給しつつ、表面に空隙を有するテープＴをガラス基板Ｄの表面に押し付けて走行させる工程、から構成される化学的機械的研磨加工方法。 - 特許庁

To form a novel preparation process of levofloxacin which is a chiral fluorinated carboxyquinolone of which the chemical name is (S)-9-fluoro-2,3-dihydro-3-methyl-10-(4-methyl-1-piperazinyl)-7-oxo-7H-pyrido[1,2,3-de][1,4]-benzoxazine- 6-carboxylic acid.例文帳に追加

キラルなフッ素化カルボキシキノロンであり、化学名が（Ｓ）−９−フルオロ−２，３−ジヒドロ−３−メチル−１０−（４−メチル−１−ピペラジニル）−７−オキソ−７Ｈ−ピリド［１，２，３−ｄｅ］［１，４］ベンズオキサジン−６−カルボン酸であるレボフロキサシンの新規な調製方法の提供。 - 特許庁

The rim cross section of a substrate cell is segmented into a first part where a cut line physically formed along the rim of the substrate cell is smoothened by a subsequent chemical polishing process and a second part that continues from the first part in the thickness direction to form a glass cut face.例文帳に追加

基板セルの周縁断面は、基板セルの周縁に沿って物理的に形成された切断線がその後の化学研磨処理によって滑面化された第１部と、第１部から板厚方向に連続してガラス割断面を形成する第２部とに区分される。 - 特許庁

In the one bath process for developing and fixing the silver halide light-sensitive material immersed in one single bath at the same time, the method uses a one bath developing and fixing liquid which includes at least one kind of compounds expressed by chemical formulas 3 or 4, and processes the material.例文帳に追加

現像−定着を単一浴で同時に行う一浴処理に於いて、化３または化４で表される化合物の少なくとも一種類を含む一浴現像定着液でハロゲン化銀感光材料を処理する事を特徴とする処理方法。 - 特許庁

The elements are made by forming a sandwich of two layers and a sacrificial layer between them, the sacrificial layer having a thickness related to the final resonator dimension, and using chemical (e.g., water) or a process based on plasma to remove the sacrificial layer.例文帳に追加

素子は、最終の共振器寸法と関係がある層厚を有している犠牲層と犠牲層をそれら間にてサンドウィッチする２つの層を形成し、化学薬品（例えば、水）を使い又はプラズマに基づいた処理を行い犠牲層を除去することによって形成される。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as an improved margin for exposure and an improved depth of a focus in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication, and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemical reaction apparatus wherein a thin film heater used in a microreactor and a protective film covering heater wiring are well flattened, and a manufacturing method capable of enhancing the surface flatness of a substrate in a protective film forming process.例文帳に追加

マイクロリアクタに用いる薄膜ヒータ及びヒータ配線を被覆する保護膜が良好に平坦化された化学反応装置を提供するとともに、該保護膜の形成工程において、基板表面の平坦性を向上させることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

At the time of removing a part of the silicon film 8 contacted with one of both side surface of the gate electrode 3, the parts of the film 8 other than the part to be removed are covered with a resist mask 11 and then subjected to a chemical dry etching process.例文帳に追加

多結晶シリコン膜８のうち、ゲート電極３の両側面のうちの一方の側面に接触する部分を除去する際、多結晶シリコン膜８の除去すべき部分以外の部分をレジストマスク１１で覆い、ケミカルドライエッチングによるエッチングを行う。 - 特許庁

To provide a process for producing an Si-rich cold-rolled steel sheet having good chemical conversion processability without so controlling as to increase the dew point in the reductive atmosphere or the hydrogen partial pressure in water vapor in a soaking pit even when Si is contained in an amount of 0.6% or more.例文帳に追加

Ｓｉを０．６％以上含有しても、均熱炉の還元性雰囲気の露点あるいは水蒸気水素分圧比を高めるような制御をすることなく、良好な化成処理性を有する高Ｓｉ冷延鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The amidomalonate N,O-Pt complex having the chemical structure shown in the figure is provided, which is essentially purely obtained by a process including the step of bringing the corresponding amidomalonate O,O'-Pt complex or a mixture of amidomalonate O,O'-Pt and N,O-Pt complex into contact with an aqueous solution of pH 6.0-10.0.例文帳に追加

対応するアミドマロネートO,O'-Pt錯体またはアミドマロネートO,O'-PtおよびN,O-Pt錯体の混合物をpH 6.0〜10.0の水溶液に接触させる段階を含むプロセスによって本質的に純粋に得られる、以下の化学構造を有するアミドマロネートN,O-Pt錯体を用いる。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing monomer which is used as a raw material to produce a base resin for a material, such as a functional material, a medical drug, and an agricultural chemical, especially a radiation-sensitive resist material, and to provide a process of manufacturing the fluorine-containing monomer very easily and at a low cost.例文帳に追加

機能性材料、医薬・農薬等の原料として、中でも感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための含フッ素単量体、及び、該含フッ素単量体を極めて容易にかつ安価に製造可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate holding member for eliminating the attaching/detaching work of a back plate in a film forming process, facilitating uniform raising of the temperature of the plane of a substrate, and permitting efficient chemical vapor deposition of thin films, and provide a method for manufacturing thin films.例文帳に追加

成膜工程における背板の着脱作業を解消し、基板の面の温度を均一に昇温することが容易であり、効率のよい薄膜の化学蒸着を可能にすることができる基板保持部材及び薄膜の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an improved process for preparing 3,4-diyhdroxybutanoic acid applicable to prepare 3,4-dihydroxybutanoic acid-γ-lactone and 2(5H) furanone, particularly, stereoisomers thereof, which are useful as chemical intermediates to naturally occurring fatty acids.例文帳に追加

天然に存在する脂肪酸への化学的中間体として有用な３，４−ジヒドロキシブタン酸−ガンマ−ラクトンおよび２（５Ｈ）フラノン、特にこれらの化合物の立体異性体を製造するために用いられる３，４−ジヒドロキシブタン酸の改良製造方法を開発する。 - 特許庁

According to this method, the came portion is subjected to electrodeposition then to a stepwise curing process step, by which the problems during coating of the beveled glass composed of brass, glass and lead in collaboration can be solved while the light resistance, chemical resistance, durability, etc., are improved.例文帳に追加

本発明の方法によれば、ケーム部分を電着させた後、段階的硬化工程を経ることにより、耐光性・耐薬品性・耐朽性などが良いながらも、真鍮とガラス、そして鉛で共同構成されたベベルドのコーテイング時の問題点を解決することができる。 - 特許庁

And, the recovered soot having been let out from the primary storage tank 6 by the let-out device 7 is kneaded with the use of a chemical in a kneading apparatus 9 (in the case of fuel oil A, and this process being omitted in the case of fuel oil C), and granulated in a granulator 12 to obtain fuel pellets (fuel granules).例文帳に追加

そして、一次貯溜槽６から切り出し装置７で切り出した回収すすを混練装置９で薬液を用いて混練し（Ａ重油の場合、Ｃ重油では省略）、造粒装置１２で造粒して燃料ペレット（燃料造粒物）を得る。 - 特許庁

To provide a coated metal material which has excellent corrosion resistance and adhesion after the coating of a coating material and the pasting of a laminate film, and has performance equal to or above that of the material subjected to chromate-phosphate chemical conversion process, and to provide a nonchromium metal surface treatment method.例文帳に追加

塗料の塗装後及びラミネートフィルム貼付け後における耐食性及び密着性に優れ、リン酸クロメート化成処理を施したものと同等以上の性能を有する被覆金属材料、及び、ノンクロム金属表面処理方法を提供する。 - 特許庁

Before a metallic film is deposited on the surface of silicon used for forming the silicide film in a supersonic semiconductor device using cobalt silicide or nickel silicide, a chemical oxide film is formed on the surface of the silicon after a natural oxide film is removed from the surface of the silicon by performing a wet etching process.例文帳に追加

コバルトシリサイドあるいはニッケルシリサイドを使う超高速半導体装置において、シリサイド膜形成のためシリコン表面に金属膜を堆積する前に、シリコン表面から自然酸化膜をウェットエッチングプロセスで除去した後、化学酸化膜を形成する。 - 特許庁

In a washing process, washing of a washing step 1 and a washing step 2 carried out thereafter fully uses the chemical force of the detergent to prevent a drop in washing force or uneven washing due to a drop in mechanical force at rated load.例文帳に追加

また、洗濯工程において、洗濯ステップ１の後に洗濯ステップ２の工程を実行して洗濯を行うことにより、洗剤の化学力を十分に活用して洗浄し、定格負荷時における機械力の低下による洗浄力の低下や洗いむらを防止する。 - 特許庁

To provide a slurry for chemical mechanical polishing capable of extremely reducing a step between an insulating film formed by silicon oxide or the like and a stopper film formed by silicon nitride or the like in a shallow-trench isolation process, and to provide a method of polishing and manufacturing a substrate.例文帳に追加

シャロー・トレンチ分離工程において、酸化ケイ素等から形成される絶縁膜と、窒化ケイ素等から形成されるストッパ膜との段差を極めて小さくすることができる化学的機械的研磨用スラリー、並びに基板の研磨及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for blue or magenta formable of a color pixel that exhibits good luminance and hue and is excellent in heat resistance and chemical resistance and applicable to a thermosetting process.例文帳に追加

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、良好な輝度・色相を示し、耐熱性および耐薬品性に優れた色画素を形成することができ、熱硬化プロセスに対応可能な、青色またはマゼンタ用の硬化性組成物を提供することにある。 - 特許庁

At least one module having an interior capable of being interconnected with another module interior and each module's interior includes one or more components to perform at least one specific task of a biological, chemical, and/or pharmaceutical manufacturing process.例文帳に追加

少なくとも１つのモジュールは、別のモジュールインテリアと相互接続可能なインテリアを有し、そして、各モジュールインテリアは、生物学的、化学的、および／または、薬学的な製造プロセスの少なくとも１つの特定のタスクを実行するための１つ以上の構成要素を備える。 - 特許庁

The manufacturing method uses a low-cost process step and a wet chemical etching step at a mainframe, and the SPM sensor which is provided with the rectangular cantilever having the tip protruding or not protruding from the free end part is manufactured from a single object.例文帳に追加

本製造法は費用のかからないプロセスステップ、大体において湿式化学エッチングステップを利用し、その結果自由端部より突出しまたは突出しないチップを持つ矩形片持ちばりを備えたＳＰＭセンサーを単一物から製造することを可能にする。 - 特許庁

The method for depositing the ruthenium film on the substrate via liquid source chemical vapor deposition, comprises the source material which is liquid at room temperature, and utilizing process conditions such that deposition of the ruthenium films occurs at a temperature in the kinetic-limited temperature regime.例文帳に追加

液体供給源の化学気相堆積によりルテニウム膜を基板に堆積する方法では、供給源材料が室温で液体であり、ルテニウム膜の堆積が動力学的に限定された温度領域の温度で行われるように処理条件を利用する。 - 特許庁

To provide a method for producing deinked waste paper pulp having whiteness equivalent to the case treated with an alkaline chemical by neutralizing pH condition of immersing process in production of deinked pulp, reducing load in water discharge and simultaneousl keeping releasing property of ink.例文帳に追加

脱インキパルプ製造における浸漬工程のｐＨ条件を中性化して、排水負荷を軽減すると同時にインキの剥離性を維持した、アルカリ性薬品の処理の場合と同等の白色度を有する脱インキ古紙パルプを製造する方法を提供する。 - 特許庁