「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

Moreover, the solid-state imaging device is manufactured by having a process of depositing the silicon nitride film 14 by a reduced pressure CVD (chemical vapor deposition) method by connecting with the transfer electrode or the buffer layer 11d and a process of depositing the refractory metal layer 13 on that to form the shunt wiring layer 7d.例文帳に追加

また、転送電極又は緩衝層１１ｄに接続して、減圧ＣＶＤ（化学的気相成長）法により窒化珪素膜１４を成膜する工程と、その上に高融点金属層１３を成膜してシャント配線層７ｄを形成する工程とを有して前記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁

Since this reproducing treatment of the W alloy scrap eliminates a complicated chemical or metallurgical process such as the treating method which has heretofore been executed and can simplify the reproducing treatment process, pulverization of high quality can easily and efficiently be attained, and low cost by industrial mass-production can be realized.例文帳に追加

本Ｗ系合金スクラップの再生処理は、従来実施されていた処理法のような複雑な化学的、あるいは冶金的プロセスを無くし、再生処理プロセスを単純化できるため、容易に且つ効率的に高品質の微粉末化が達成でき、工業的量産による低コストが実現可能となる。 - 特許庁

To rapidly and accurately confirm the effects of a papermaking chemical such as a yield improving agent, drainage improving agent, coagulant, pitch controlling agent which are added to water in a papermaking process, such as raw material slurry for paper or slurry in an inlet of the papermaking process, and properly controlling injection rate of the papermaking chemicals based on the monitoring result.例文帳に追加

抄紙工程において紙の原料スラリーやインレット内スラリー等の抄紙工程水に添加される歩留向上剤、濾水性向上剤、凝結剤、ピッチコントロール剤等の製紙用薬剤の効果を迅速かつ確実に確認し、この監視結果に基づいて製紙用薬剤の注入量を的確に制御する。 - 特許庁

To provide an apparatus for carring out a plasma chemical vapor deposition (PCVD) process, in which leakage of high frequency energy is small even when a high frequency output level of about 2.5 kW is used so as to enhance the vapor deposition speed in PCVD process for vapor depositing a doped or undoped layer onto the interior of a glass substrate tube.例文帳に追加

ドープされているか又はされていない層をガラス基材チューブの内側に蒸着させるプラズマ化学蒸着処理（PCVD処理）において、蒸着速度を上げるために約2.5kW以上の高周波出力レベルを用いた場合であっても、高周波エネルギーの漏洩の少ないPCVD蒸着処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a refining method for diluent for an organic solvent which reduces chemical oxygen demand value (COD) causative agents contained in the organic solvent and suppresses the increase of COD in the wastewater discharged from the process, in the process of refining metal by using an organic solvent containing alkylnaphthalene-based diluent.例文帳に追加

アルキルナフタレン系希釈剤を含有する有機溶媒を用いて金属を製錬するプロセスおいて、有機溶媒に含有される化学的酸素要求量値（ＣＯＤ）原因物質を削減し、プロセスから排出される排水中のＣＯＤの増加を抑制する有機溶媒用希釈剤の精製方法を提供。 - 特許庁

In this method, the adhesive property between an inorganic film and the organic thin film is improved by keeping the surface of a base film in a hydrophobic surface having a contact angle of ≥50° with water, after a base film forming process performed before the organic thin film is formed by the chemical vapor growth method or before an organic thin film forming process.例文帳に追加

有機物薄膜を化学的気相成長法により形成する前の下地膜形成工程の後処理あるいは有機薄膜成膜工程の前処理にて、その下地膜表面が水との接触角を５０°以上の疎水性の表面にしておくことで無機膜と有機物薄膜との密着性を向上させる。 - 特許庁

This production method is composed of a process fixing a using group of the material product and the chemical product, and a process removing a harmful element or material from a raw material containing a used plastic to a usable range as the using group of both the recycle products according to the using group of both the fixed recycle products.例文帳に追加

素材リサイクルを行なう前に、素材リサイクル品及びケミカルリサイクル品の用途群を確定する工程と、確定した両リサイクル品の用途群に基づいて、両リサイクル品の用途群に使用可能な範囲まで使用済みプラスチック含有原料から有害な元素又は物質を除去する工程とを含んでいる。 - 特許庁

In the glass manufacturing method, after a sodium concentration decrease process is carried out for lowering the sodium concentration of a glass surface more than the sodium concentration of a glass center, and a process of chemical reinforcement treatment is carried out for immersing the glass in a molten salt containing a potassium ion to substitute a portion of the sodium ion in the glass with the potassium ion.例文帳に追加

ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。 - 特許庁

To provide a frosted glass product in which the problem of appearance is improved by enhancing the resistance to friction of the surface of a glass product, by applying a sand blasting process excellent in an aspect of safety, environment or sanitation in comparison with a chemical frosting process; and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

ケミカルフロスト加工法よりも安全面、環境・衛生面において優れたサンドブラスト加工法を適用し、当該サンドブラスト加工法を施したガラス製品の表面の摩擦に対する耐性を高めて美観上の問題点の改良を図ったフロストガラス製品並びにフロストガラス製品の製法を提供する。 - 特許庁

The method for processing the substrate includes a step of forming an interlayer 4 between a chemical amplification type resist film 3 and an antistatic film 5, a step of exposing a desired pattern to a substrate specimen 1; a step of performing a thermal process to the substrate specimen 1 after the exposure; and a step of performing a development process to the substrate specimen 1 after the heat treatment.例文帳に追加

化学増幅型のレジスト膜３と帯電防止膜５との間に中間膜４を形成する工程と、基板試料１に所望のパターンを露光する工程と、露光後の基板試料１に対し加熱処理を施す工程と、加熱処理の後に基板試料１に現像処理を施す工程とを有する。 - 特許庁

To provide a development method and a developing device for a planographic printing plate which enable the amount of use of a process chemical in development of a planographic printing plate to be significantly reduced and the amount of washing water used after development to be suppressed without degrading the quality of the planographic printing plate obtained after the process.例文帳に追加

処理後に得られる平板印刷板の品質を下げることなく、平版印刷版の現像処理における処理薬品の使用を大幅に削減し又、現像後に使用される水洗水の量を抑制することができる平版印刷版の処理方法及び現像装置を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the circuit board using the laminate of the metal layer and the polyimide film has a process for cleaning and removing, after a treatment with a chemical etching agent, an altered layer generated by the chemical etching agent and performing treatment with an acid aqueous solution when the polyimide film is subjected to an etching processing.例文帳に追加

金属層とポリイミドフィルムとの積層体を使用しての回路基板の製造方法において、ポリイミドフィルムをエッチング加工する際に、化学エッチング剤での処理後に化学エッチング剤による変性層を洗浄除去し、さらに酸性水溶液で処理するプロセスを有する回路基板の製造方法とこの方法によって得られる回路基板。 - 特許庁

A process of converting a carbon dioxide gas into a liquefied carbon dioxide gas by utilizing the cold of liquefied natural gas, then delivering the liquefied carbon dioxide gas to the chemical plant, and utilizing the cold generated in converting the liquefied carbon dioxide gas into the carbon dioxide gas, as a cold source, is incorporated in this cold supply system using a propylene compressor represented by an ethylene plant of the chemical plant.例文帳に追加

液化天然ガスの冷熱を利用し、炭酸ガスを液化炭酸ガスに変換した後、液化炭酸ガスを化学プラントへ送液し、液化炭酸ガスを炭酸ガスに変換する際に発生する冷熱を冷熱源として利用する工程を、化学プラントのエチレンプラントに代表されるプロピレン圧縮機を用いた冷熱供給システムに組み込んだ。 - 特許庁

To provide a membrane evaluating method and a quality evaluating/process monitoring system of a chemical membrane for objectively, quantitatively and inexpensively evaluating the quality of the crystalline chemical membrane such as a zinc phosphate membrane by using an actual product without the use of a processed specimen.例文帳に追加

リン酸亜鉛系皮膜などの結晶性の化成皮膜について、処理試験片を使用することなく実際の製品を使用して皮膜品質を評価することが可能であり、さらには、客観的且つ定量的な皮膜品質評価を安価に行うことが可能な皮膜評価方法及び化成皮膜の品質評価／工程監視システムを提供する。 - 特許庁

A process using a chemical substance X produced with the use of the transformant A does not utilize properties and functions particular to a transformant A, and providing a transformant A does not have a close relationship with using a chemical substance X. Therefore they do not have special technical features. 例文帳に追加

形質転換体Aにより生産された化学物質Xの使用方法は、形質転換体Aに由来する特有な性質・機能を利用するものではなく、形質転換体Aを提供することと、化学物質Xを使用することは、技術上の意義が密接に関連していないので、同一の又は対応する特別な技術的特徴を有していない。 - 特許庁

The metal oxide nano particles are formed by applying a shearing stress and a centrifugal force on a reactant in a rotating reactor and by using reaction to promote chemical reaction, and further, by adding shearing stress and centrifugal force on the reactant in the reactor in the process of chemical reaction; and the carbon is dispersed, by adding the shearing stress and centrifugal force in the reactor.例文帳に追加

旋回する反応器内で反応物にずり応力と遠心力を加えて、化学反応を促進させる反応を用い、化学反応の過程で、反応器内で反応物にずり応力と遠心力を加えて生成した金属酸化物ナノ粒子と、反応器内でずり応力と遠心力を加えて分散したカーボンとからなる。 - 特許庁

In the method for deodorization of a waste gas containing malodorous components and generated in organic wastewater and sludge treatment process by a biological deodorization equipment 101 and a tower 102 for washing with a chemical liquid, a part or all of a circulated liquid used in the biological deodorization equipment 101 is utilized as a washing liquid for the tower 102 for washing with a chemical liquid.例文帳に追加

有機性汚水・汚泥の処理過程で発生する臭気成分を含む排ガスを生物脱臭装置及び薬液洗浄塔を用いて脱臭処理する方法において、生物脱臭装置で使用した循環液の一部または全量を薬液洗浄塔で洗浄液として利用することを特徴とするガスの脱臭方法。 - 特許庁

The liquid treatment apparatus for applying a predetermined liquid treatment on a substrate, for example, a semiconductor wafer cleaning apparatus 1 comprises a rotor 34 for holding wafers W, a chamber 70 for applying a liquid treatment for the wafers W held by the rotor 34 feeding a predetermined process liquid, and a chemical feed unit 5 for feeding a predetermined chemical to the chamber 70.例文帳に追加

基板に所定の液処理を施す液処理装置、例えば、半導体ウエハの洗浄処理装置１は、ウエハＷを保持するロータ３４と、ロータ３４に保持されたウエハＷに所定の処理液を供給して液処理を行うチャンバ７０と、チャンバ７０へ所定の薬液を供給する薬液供給ユニット５とを具備する。 - 特許庁

To provide a process for producing a tin-plated steel plate which can suppress the deterioration of the appearance caused by oxidation in a tin-plated surface without using Cr, and further, can be inexpensively subjected to chemical conversion treatment, and to provide a tin-plated steel plate.例文帳に追加

Crを用いず、錫めっき表面の酸化に起因する外観の劣化や塗料密着性の低下を抑制でき、しかも安価に化成処理が可能な錫めっき鋼板の製造方法および錫めっき鋼板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pure opaque quartz glass article by which the possibility of contamination in the manufacture process is reduced, and to provide the pure opaque quartz glass article characterized by the resistance against the change of temperature, strength and chemical durability.例文帳に追加

製造工程中での汚染のおそれが減少した不透明石英ガラスの製造方法、及び温度変化に対する抵抗性、強度及び化学的耐久性を特徴とする純粋不透明石英ガラス物品を提供する。 - 特許庁

A cyclic chemical vapor deposition process using a silicon source substance and a nitrogen source gas is performed to form a silicon nitride film 20 containing a silicon-rich nitride (Si_xN_y, a value of x/y is 0.7 to 1.5) on the first oxide film 15.例文帳に追加

シリコンソース物質と窒素ソースガスを用いたサイクリック化学気相蒸着工程を実施し、第１酸化膜１５上にシリコンリッチ窒化物（ＳｉｘＮｙ、ｘ／ｙの値が０．７〜１．５である）を含むシリコン窒化膜２０を形成する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a colloidal dispersion of superfine particles of copper oxide in which fine particles are finely dispersed and impurities are reduced by a chemical method without requiring expensive production facilities by an easy process.例文帳に追加

高価な製造設備を必要としない化学的方法によって、微粒子が微分散し、かつ分散液中に不純物が少ない酸化銅超微粒子のコロイド分散液を、容易なプロセスによって製造する製造技術の提供。 - 特許庁

The film composed of the carbon-containing silicon oxide is produced through plasma excitation chemical vapor deposition process by using an organosilicon compound as a base material which has a structure in which alkoxyalkyl is directly bonded to a silicon atom, as shown below in formulae 1 and 4 for examples.例文帳に追加

アルコキシアルキルがケイ素原子に直結した構造を有する有機ケイ素化合物、例えば下式１、４を原料として用い、プラズマ励起化学気相成長法により炭素含有酸化ケイ素からなる膜を形成する。 - 特許庁

To provide a polishing method capable of providing a high polishing rate and high surface smoothness and preventing the occurrence of a scratch in a process for smoothing a surface of an optical member by chemical machinery polishing for removing a protruding part and an adhered foreign matter of the surface thereof.例文帳に追加

光学部材の表面の突出した部分や付着異物を化学機械研磨によって表面を滑らかにするプロセスにおいて、研磨レートが高く、表面平滑性が高く、スクラッチが入りにくい研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inclusion management device suitable for when a substance contained in raw materials received from suppliers changes by a chemical reaction, etc. and are changed into other substance with different nature in process of manufacturing a product.例文帳に追加

仕入先から納入した原料に含まれる物質が製品を製造する過程で化学反応などにより変化して、性質の異なる他の物質に代わるような場合に好適な、含有物質管理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the number of equipment and tanks from increasing in the case where a biological deodorization system is employed for deodorization of a gas and to lower the consumption of chemical agent in the deodorization process in a high deodorization efficiency without making the structure of the equipment complicated.例文帳に追加

ガスの脱臭に生物脱臭装置を用いた場合に機器及びタンクの数が多くなる欠点を解消し、装置の構造を複雑にすることなく高い脱臭効率で脱臭工程での薬品使用量を低減する。 - 特許庁

In a process for manufacturing a stamper, as a conductive layer, the composition ratio of a buffer agent to a conductive material is reduced from an original disk side to the thickness direction and the conductive layer having an irregular pattern is formed by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

スタンパの製造工程において、導電層として、導電物質に対する緩衝剤の組成比が原盤側から厚さ方向に減少し、かつ凹凸パターンを有する導電層を、化学気相成長法を用いて形成する。 - 特許庁

To provide a resist material having high resolution and process adaptability, attaining proper pattern shape after exposure, and decreasing line edge roughness, in particular, to provide a chemical amplification positive resist material, and to provide a pattern forming method which uses the same.例文帳に追加

高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Chemical substances can be efficiently decomposed into nontoxic substance under much milder conditions (at 400 to 600°C) than those of conventional processing techniques without discharging any harmful compounds into the environment during the process.例文帳に追加

従来の処理技術よりももっと穏やかな条件（４００〜６００℃）の下で、しかも処理の過程で有害な化合物を一切環境中に排出することなしに、化学物質を無毒な物質にまで効率的に分解することができる。 - 特許庁

In such a case, a reaction-proofing layer mainly composed of a monocrystal is formed so that the chemical reaction of the wafer and the group III nitride compound semiconductor on the upper layer caused by stress and heat can not occur in a production process.例文帳に追加

ここに主として単結晶から成る反応防止層を形成し、製造工程中に応力と熱による基板と上層のIII族窒化物系化合物半導体との化学反応を起こさないようにすることができる。 - 特許庁

To provide a coating agent for grains using grain starch as a raw material, not using a dangerous chemical also in production process and free from binding between grains even when stored for a long period.例文帳に追加

穀類澱粉を原料とし、製造工程においても危険な薬剤を使用することなく、かつ、長期間保存した場合であっても穀粒同士が結着することがない穀類用の被覆剤を提供することを技術的課題とする。 - 特許庁

To provide a pH controlling apparatus in a water purification plant with reduced cost of the whole water purifying process by optimizing an injection ratio of a pH controlling chemical according to variation in raw water qualities, and supplying a stable water quality.例文帳に追加

原水水質の変動に応じてｐＨ調整用薬品の注入率を最適化することで浄水プロセス全体のコストを低減し、安定した水質を提供する浄水場におけるｐＨ制御装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a catalyst-aided chemical processing method, by which hard-to-process materials, especially SiC, GaN, or the like, whose importance as electronic device materials increases these days, can be processed with high processing efficiency and high precision even for a space wavelength range of not less than several tens of μm.例文帳に追加

難加工物、特に近年電子デバイスの材料として重要性が高まっているＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ数十μｍ以上の空間波長領域にわたって精度が高く加工する。 - 特許庁

The cupper film polishing method comprises a step of forming a copper film on a substrate, and a step of polishing the copper film in a chemical mechanical polishing (CMP) process using a slurry allowing a copper film polishing speed of at least 10,000 Å/min or higher.例文帳に追加

基板上に銅膜を形成する段階と、前記銅膜を銅膜の研磨速度が少なくとも１００００Å／分以上になるようなスラリを用いた化学的機械的研磨（ＣＭＰ）工程にて研磨する段階とを含む。 - 特許庁

In this micro chemical chip manufacturing method of the present invention, molds 150,160 having portions for forming the flow passages, a well and the optical element are prepared to form the optical element, the flow passages and the like in the same molding process.例文帳に追加

また、本は発明にかかるマイクロ化学チップの製造方法によれば、流路、ウェル、光学素子を形成するための部分を有する金型１５０、１６０を準備して光学素子と流路等を同一の成形プロセスで形成する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic toner which is less in the change rate of charging by environmental changes even in the process of manufacturing the toner by a chemical method such as an emulsion aggregation method, and is high in chargeable amount, and to provide a method of manufacturing the electrophotographic toner.例文帳に追加

乳化凝集法などのケミカル法によりトナーを製造する際においても環境変動による帯電変化率が少なく、帯電量の高い電子写真用トナー、及び該電子写真用トナーの製造方法、を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the toner particles obtained with the suspension polymerization method, a colorant is diffused into or dissolved from a specific metal chemical compound in a predetermined process, thereby controlling viscosity of a polymerizable monomer composition to be within a constant range.例文帳に追加

懸濁重合法で得られるトナー粒子の製造方法において、特定の金属化合物と着色剤を所定の工程で分散若しくは溶解し、重合性単量体組成物の粘度を一定の範囲内に制御する。 - 特許庁

A secondary chemical mechanical polishing process is performed on an oxide layer 18b remaining on a nitride layer 14 until the surface of the nitride layer 14 is exposed, so that the oxide layer is embedded only in a trench region 16.例文帳に追加

窒化物層１４の表面が露出されるまで、窒化物層１４上に残留する酸化物層１８ｂに対して２次化学的機械研磨工程を遂行し、トレンチ領域１６内にだけ酸化物層が埋められるようにする。 - 特許庁

A semen or sperm cell process system is for maintaining or enhancing the biological, chemical, physical, physiological, or functional attributes of sperm cells within the context of various collecting, handling, storage, transportation, separation, or insemination procedures.例文帳に追加

種々の収集、操作、保存、輸送、分離または受精手順の状況において精子細胞の生物学的、化学的、物理的、生理学的もしくは機能的性質を維持または高めるための精液または精子細胞処理システム。 - 特許庁

In the chemical addition backwashing process, sodium hydrogensulfite (an acid) is first used and then sodium hypochlorite (an alkali) is used, and respective waste liquids are drained to a neutralization-reduction tank 11 and mixed to be neutralized and reduced.例文帳に追加

薬品添加逆洗工程では、先に重亜硫酸ソーダ（酸）を使用し、その後に次亜塩素酸ナトリウム（アルカリ）を使用すると共に、それぞれの廃液を中和還元処理槽１１へ排水して混合し、中和還元する。 - 特許庁

To provide a preparation process of polyimidebenzoxazole having physical and/or chemical properties suitable for fibers and films for electronic industries (tensile modulus, tensile strength, breaking elongation, thermal expansion coefficient, and the like) and to provide its film and coating.例文帳に追加

電子工業用繊維及びフイルムに適した物理的及び／又は化学的特性（引張弾性率、引張強さ、破断点伸び及び熱膨張係数など）を有したポリイミドベンゾオキサゾールの製法及びそのフイルム及び被膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a specified structure which serves to reduce the acceleration resistance of a landing bearing as much as possible and also provide sufficient durability to chemical corrosion by process gas and plasma used in the manufacturing of a semiconductor.例文帳に追加

ランディングベアリングの加速抵抗を可能な限り低減し、同時に、半導体製造で使用されるプロセス気体およびプラズマによる化学的侵食に対する十分な耐久性を提供する働きをする特定の構造を提供する。 - 特許庁

To provide polishing solution containing solid abrasive grains and being used for chemical mechanical polishing in a process for planarizing a semiconductor integrated circuit having a barrier layer while suppressing occurrence of dishing and erosion, and to provide a polishing method.例文帳に追加

バリア層を有する半導体集積回路の平坦化工程において、化学的機械的研磨に用いる固体砥粒を含む研磨液であって、ディッシング及びエロージョンの発生を抑える研磨液および研磨方法を提供する。 - 特許庁

Even if penetration defects occur in each film in a film formation process, the base material covering the protective film is not exposed if the first and second film defects do not overlap, thus preventing chemical attack of the base material.例文帳に追加

成膜工程において各膜に貫通欠陥が発生しても、第１の膜、第２の膜の欠陥が重ならないと、前記保護膜に被覆された基材が露出しないので、その基材の化学的侵食を防ぐことができる。 - 特許庁

The cleaning solution is used after a chemical mechanical polishing process in production of a semiconductor device, and contains a compound represented by a general formula (I) and an organic acid.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄液であって、下記一般式（Ｉ）で表される化合物と有機酸とを含有することを特徴とする半導体デバイス用基板の洗浄液である。 - 特許庁