「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which the characteristics can be enhanced by planarizing a crystalline semiconductor film when mechanical chemical polishing is performed on the surface of the crystalline semiconductor film having an unsettled crystal orientation, and to provide an integrated circuit, an electrooptical apparatus and electronic apparatus fabricated by that process.例文帳に追加

結晶方位が一定でない結晶性半導体膜表面に機械的化学的研磨を行った際、結晶性半導体膜を平坦化し、半導体装置の特性を向上させることを可能とする、半導体装置の製造方法、そしてこの製造方法により得られた集積回路、電気光学装置、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate washing device and a method for carrying out chemical treatment, washing treatment and drying treatment in this order while rotating a substrate, and for suppressing the generation of mist by setting a fixed period from a washing treatment process to a drying treatment process, and controlling the rotating speed of the substrate in this period.例文帳に追加

基板を回転させながら、薬液処理→洗浄処理→乾燥処理の順で処理を行う基板洗浄装置における、洗浄処理工程から乾燥処理工程の間に一定の期間を設け、この期間における基板の回転速度を制御することでミストの発生を抑える基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing drum cans capable of enhancing production efficiency and reducing manufacturing cost, by substituting a conventional metal surface conversion treatment process carried out by two treatments, that is, zinc phosphate conversion treatment and iron phosphate conversion treatment with a metal surface conversion treatment process superior in both of corrosion resistance and chemical resistance, also excellent in coated film adhesion and low in cost.例文帳に追加

優れた耐食性・耐薬品性と優れた塗膜密着性が両立した、コストが安い金属表面化成処理工程で、従来のリン酸亜鉛化成処理とリン酸鉄化成処理の２本立てであった金属表面化成処理工程を置き換えて、生産効率を向上させ、製造コストが低減できるドラム缶製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a composite fiber structure which has satisfactory filtering capabilities, excels in the workability of the laminating process, is free of fluctuations in the filtering performances, and can suitably be used for filters, sheets and the like to remove harmful chemical substances.例文帳に追加

充分なフィルター性能を有し、且つ積層工程の作業性に優れ、しかも濾過性能のバラツキのない、有害化学物質を除去するフィルターやシートなどに好適に使用することができる複合繊維構造体を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition not only excellent in performances such as sensitivity, insulating property and chemical resistance but in particular, significantly improved in transmittance and storage stability, and suitable for forming an interlayer insulating film in the process of manufacturing a LCD.例文帳に追加

感度、絶縁性、耐化学性などの性能に優れているだけでなく、特に透過度および貯蔵安定性を顕著に向上させて、ＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜を形成することに適合した感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The process of manufacturing such a high quality Al_xGa_yIn_zN wafer may include processes of lapping, mechanical polishing, and reducing internal stress of the wafer by thermal annealing or chemical etching for further enhancement of its surface quality.例文帳に追加

このような高品質Ａｌ_ｘＧａ_ｙＩｎ_ｚＮウェーハの製造方法はラッピング工程、機械研磨工程、およびその表面品質を更に高めるための熱アニールまたは化学エッチングによるウェーハの内部応力を低下させる工程を含んでよい。 - 特許庁

Thereafter, an SiN film 27 is formed in order to prevent generation of copper hillock, acquire the SiN film 27 in the uniform thickness, prevent break of the SiN film 27 in the process, and suppress the physical and chemical damage for the first wiring 25 to the minimum degree.例文帳に追加

その後、ＳｉＮ膜２７を形成することにより、銅ヒロックの発生を防ぎ、ＳｉＮ膜２７の均一な膜厚を確保し、工程中のＳｉＮ膜２７破れを防ぎ、第１配線２５に対する物理的化学的ダメージを最低限に抑制する。 - 特許庁

A jig 10, designed to support an airfoil 16 during electro-chemical peeling process, is equipped with a parts holder 14 to accommodate the airfoil 16, and the parts holder 14 has a slot 24 designed to position the serration 22 of the airfoil 16.例文帳に追加

電気化学的剥離工程中にエアフォイル１６を支持するための治具１０は、エアフォイル１６を受容するための部品ホルダ１４を有しており、部品ホルダ１４はエアフォイル１６のセレーション２２を位置させるための第１のスロット２４を有する。 - 特許庁

To provide a substrate pre-process method for forming a gate insulating film, superior in electric characteristics by eliminating water mark in principle and forming a chemical oxide film with no organism and other contaminant sticking to a wafer surface.例文帳に追加

ウォータマークの発生を原理的になくし、且つウェハー表面に付着する有機物、その他の汚染物質をなく化学酸化膜を形成し、それによって電気的特性に優れたゲート絶縁膜を形成することが可能な基板前処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of modifying a timber capable of injecting efficiently a treatment chemical uniformly into the timber by a simple process without executing treatment causing the lowering of the strength of the timber and the generating deviation in structure.例文帳に追加

木材に強度低下や構造上の狂いが生じるような処理を施すことなく、また、簡潔な工程により、木材の内部にまで均一で効率よく処理薬剤を注入できるようにする木材の改質方法を提供する。 - 特許庁

According to the method of manufacturing the gold bronze for the adornment, the gold bronze is infiltrated in an aqueous solution without including a chemical component as a pretreatment of a coloring treatment into the gold bronze in the process of manufacturing the gold bronze of an alloy of copper including gold.例文帳に追加

銅に金を含有した合金である赤銅の製造工程において、赤銅に対する色上げ処理の前処理として、化学成分を含まない水溶液に浸潤させることを特徴とする装身具用赤銅の製造方法。 - 特許庁

To provide a device for an endpoint detecting method based on ammonia gas in a proceeding CMP cycle using acid CMP slurry and for a CMP process producing no ammnonia gas, in order to detect the endpoint of chemical mechanical polishing (CMP).例文帳に追加

化学機械研磨（ＣＭＰ）の終点検知を行うために、酸性のＣＭＰスラリを使用する進行中のＣＭＰサイクルにおいてアンモニアガスに基づいた終点検出方法、およびアンモニアガスを生成しないＣＭＰプロセスの為の装置を提供する。 - 特許庁

A plasma process in which a gas including fluorine and oxygen gas are introduced is performed to a conductive metal film embedded in the cracks between the wirings or such conductive metal film is dissolved and removed by oxidation thereof with an oxidation agent solution and then using chemical solutions for selectively removing the oxide.例文帳に追加

配線間の亀裂に埋め込まれた導電性金属膜をフッ素含有ガスおよび酸素ガスを導入したプラズマ処理、若しくは酸化剤溶液により酸化し、酸化物を選択的に除去する薬液を用いて、溶解除去を行う。 - 特許庁

When carrying out delignification treatment of a chemical pulp after digestion with oxygen and carrying out bleaching by ECF bleaching or TCF bleaching process containing at least one ozone bleaching step, Kappa value of pulp after being bleached in initial step (Z_1) of ozone is set to 2.0-5.0.例文帳に追加

蒸解後のケミカルパルプを酸素脱リグニン処理し、少なくとも１つのオゾン漂白段を含むＥＣＦ漂白またはＴＣＦ漂白工程で漂白を行うに際して、オゾンの初段（Ｚ_１）漂白終了後のパルプのカッパー価を２．０〜５．０とする。 - 特許庁

To provide a method for easily and stably producing a metal powder with high melting point at a low cost from a used target material of a high melting point metal without employing a costly method such as a chemical method and a refining process using thermal plasma.例文帳に追加

化学的方法や熱プラズマによる溶融精錬といった高価な方法を利用することなく、使用済みの高融点金属系ターゲット材から、高融点金属系粉末を容易にかつ安価に安定して製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a planting sheet on which moss can be seeded homogeneously with a specified density, and which can carry out homogeneous budding and seedling-raising, and to provide a method for manufacturing moss-planting sheet by using no chemical nor heat drying process.例文帳に追加

蘚苔類植物を所定の密度で均一に播種することができ、むらの無い発芽・育苗が可能な植生シートおよび化学薬品の使用や加熱による乾燥工程を必要としない蘚苔類植物植生シート製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a semi-aromatic polyamide based porous membrane excellent in a pure water permeation performance, a fractioning performance, strength, heat resistance, a low water absorption property and chemical resistance and further excellent in a process controlling property, a cost efficiency and a pore formation property, and to provide its production method.例文帳に追加

純水透過性能や分画性能、強度のほかに、耐熱性、低吸水性、耐薬品性に優れ、さらに工程制御性、コスト性、孔形成性に優れた半芳香族ポリアミド系多孔膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polysulfone-based porous membrane excellent in a pure water a permeation performance, a fractioning performance, strength, heat resistance, a low water absorption property, chemical resistance, a process controlling property, a cost efficiency and a pore formation property using a heat induction phase separation method, and to provide its production method.例文帳に追加

熱誘起相分離法を用いて、純水透過性能や分画性能、強度、耐熱性、低吸水性、耐薬品性、さらに工程制御性、コスト性、孔形成性に優れたポリスルホン系多孔膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an improving method in field cleaning of deposition by-products in a low-temperature plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) chamber where the thermal budgets of a process require the minimization of the temperature rise of a susceptor and in the hardware in the chamber.例文帳に追加

プロセスの熱割当量がサセプタの温度上昇の最小化を必要とする低温プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）チャンバ及び該チャンバ内のハードウェア内の堆積副生物の現場クリーニングにおける改善方法を提供する。 - 特許庁

To stop and start high speed discharge of a variety of powder fluids of such as an adhesive, a clean solder, a phosphor, grease, a coating, a hot melt adhesive, a chemical, food and the like without compacting or breaking the powder in production process in a field of electronic parts and domestic electric products.例文帳に追加

電子部品、家電製品などの分野における生産工程において、接着剤、クリーンハンダ、蛍光体、グリース、ペイント、ホットメルト、薬品、食品などの各種粉流体を、粉体の圧搾・破壊なく、高速で吐出遮蔽・開始ができる。 - 特許庁

To obtain a coating composition for producing an electrical insulating thin film, capable of producing such a porous silica thin film that is low in relative dielectric constant, has mechanical strength sufficiently endurable to a CMP (chemical-mechanical polishing) operation in a copper wiring process for a semiconductor device, and scarcely generates gas when viae are formed.例文帳に追加

多孔性シリカ薄膜の比誘電率が低く、半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える機械的強度を有し、かつビア形成時のガス発生の少ない多孔性シリカ薄膜を提供する。 - 特許庁

To obtain a coating composition for producing an electrical insulating thin film, capable of producing such a porous silica thin film that is low in relative dielectric constant, has mechanical strength sufficiently endurable to a CMP (chemical-mechanical polishing) operation in a copper wiring process for a semiconductor device, and scarcely generates contaminant gas when viae are formed.例文帳に追加

多孔性シリカ薄膜の比誘電率が低く、半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える機械的強度を有し、かつビア形成時の汚染ガス発生量の少ない、多孔性シリカ薄膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing deinked pulp having the same whiteness degree as that by treatment with an alkali chemical by neutralizing the pH condition of a soaking process in production of deinked pulp, reducing load of waste water and simultaneously improving releasability of ink.例文帳に追加

脱インキパルプの製造におけるソーキング工程ｐＨ条件を中性化して、排水負荷を軽減し、同時にインキの剥離性を改善し、アルカリ性薬品の処理の場合と同等の白色度を有する脱インキパルプの製造方法の提供。 - 特許庁

The surface treatment method of a semiconductor-mounting conductive base material includes a roughening process of forming a roughened shape on a surface by bringing a chemical roughening liquid containing a corrosion suppression agent into contact with the semiconductor-mounting conductive base material.例文帳に追加

本発明は、半導体実装用導電基材に腐食抑制剤を含有する化学粗化液を接触させて表面に粗化形状を形成する粗化工程を有する半導体実装用導電基材の表面処理方法である。 - 特許庁

Further, an environment-friendly recycle process of waste batteries can be provided without using additional chemical substances for neutralization correctitude and impurity removal since manganese sulfate and zinc sulfate are recovered by leaching waste battery powder.例文帳に追加

また、廃電池粉末を浸出させて硫酸マンガン及び硫酸亜鉛を回収するので、中和適正や不純物除去をするための付加的な化学物質を使うことなく親環境的の廃電池のリサイクル工程を提供することができる。 - 特許庁

To provide a heat-resistant nonwoven fabric that is produced by an easy production process and comprises a filament of an aromatic polyether ketone having excellent physical properties such as dimensional stability and strength, while retaining excellent chemical resistance, flame retardance and heat resistance of an aromatic polyether ketone.例文帳に追加

製造工程が容易で、芳香族ポリエーテルケトンの持つ優れた耐薬品性、難燃性、耐熱性を保持しつつ、寸法安定性、強度などの物理的特性に優れた芳香族ポリエーテルケトンの長繊維からなる耐熱性不織布を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing electrolessly plated articles by providing electroless plating having high adhesive strength on molded articles of a thermoplastic resin composition composed of a high hardness thermoplastic resin composition and an inorganic filler without effecting chemical etching treatment.例文帳に追加

硬度の高い熱可塑性樹脂組成物と無機充填材からなる熱可塑性樹脂組成物の成形品に化学エッチング処理することなく密着強度の大きな無電解メッキを施す無電解メッキ品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a catalyst composition for use in forming a multi-block copolymer, the copolymer containing therein two or more segments or blocks differing in chemical or physical properties, and to provide a polymerization process using the same.例文帳に追加

マルチブロックコポリマーの形成に使用される触媒組成物であって、得られるコポリマーが化学的性質又は物理的性質が異なる２つ以上のセグメント又はブロックを含有することとなる当該組成物、それを使用した重合方法の提供。 - 特許庁

To provide a simple and effective production process of an acrylonitrile derivative which is useful as the raw materials of various chemical products such as a synthetic fiber, a synthetic rubber, a synthetic resin, paint, or as the electrooptical materials.例文帳に追加

本発明の目的は、合成繊維、合成ゴム、合成樹脂あるいは塗料等の種々の化学製品の原料あるいは電気光学材料として有用であるアクリロニトリル誘導体の簡便かつ効率的な製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a polyamide resin composition which exhibits an improved heat resistant aging characteristic and a controlled copper deposition at no expense of the mechanical properties, heat resistance and chemical resistance inherent in the existing polyamide resins and its manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、従来のポリアミド樹脂の機械的特性、耐熱性、耐薬品性を損なうことなく、更に耐熱エージング性の向上及び銅析出が抑制されたポリアミド樹脂組成物及びその製造方を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a water treatment apparatus for treating surfactant-containing raw water being a treatment target produced from the process of producing toner for developing an electrostatic image and reducing a suspended substance (SS) and chemical oxygen demand (COD) in the obtained treated water.例文帳に追加

静電荷像現像用トナーの製造工程から発生する、界面活性剤を含む原水を処理対象とし、処理水中の浮遊物質量（ＳＳ）および化学的酸素要求量（ＣＯＤ）を低減する水処理装置を提供する。 - 特許庁

A decomposition reaction process is constituted so that at least one kind of a substance to be decomposed selected from a nitrogen-containing organic chemical substance, hydrocarbons and an organochlorine compound is added to the first reaction field and subsequently subjected to decomposition reaction being the second reaction.例文帳に追加

含窒素有機化学物質、炭化水素類、有機塩素化合物から選ばれる分解対象物質の１種又は２種以上を、第一の反応の場に添加し、次いで、第二の反応である分解反応を行う分解反応プロセス。 - 特許庁

To provide a biodegradable multilayer sheet excellent in adhesiveness between respective layers, and combining with a biodegradable function and transparency, further flexibility, impact resistance, heat resistance, and chemical resistance, its manufacturing process, and a molded product using the biodegradable multilayer sheet.例文帳に追加

各層間の接着性に優れ、生分解機能と透明性、さらには柔軟性、耐衝撃性、耐熱性および耐薬品性とを兼ね備えた生分解性多層シート、その製造方法および生分解性多層シートを用いた成形品を提供すること。 - 特許庁

The processing method for the inner layer circuit board used for the multilayer printed board includes a process of roughing by blast the surface of a copper circuit formed on the inner layer circuit board, and consecutively roughing by immersion the surface of a copper circuit using a chemical roughing solution.例文帳に追加

多層プリント配線板に用いられる内層回路基板の処理方法において、内層回路基板に形成された銅回路表面をブラスト粗化、続いて化学粗化液により浸漬粗化する工程を有する内層回路基板の処理方法。 - 特許庁

The elements are formed, by forming two layers sandwiching a sacrificial layer between them, the sacrificial layer having a thickness related to the final resonator dimensions, and using chemical (e.g., water) or a process based on plasma to remove the sacrificial layer.例文帳に追加

素子は、最終の共振器寸法と関係がある層厚を有している犠牲層と、犠牲層をサンドウィッチする２つの層を形成し、化学薬品（例えば、水）を使い又はプラズマに基づいた処理を行い、犠牲層を除去することによって形成される。 - 特許庁

To provide a recycling method, reusing resin packaging material in a used product as it is, and using material smaller than proper particle size obtained in the process of recycling the resin packaging material, as blasting media as well as chemical recycle material.例文帳に追加

使用済み製品の樹脂製外装材をそのまま再使用でき、樹脂製外装材のリサイクルの過程で得られた適正粒径未満のものを、ケミカルリサイクル材料以外にブラスト用メディアとして用いることができるリサイクル方法を提供する。 - 特許庁

Next, a Ti film 108 is deposited by a physical vapor phase growth method, a TiCN film 109 is deposited by a chemical vapor phase growth process, and the surface of the film 109 is exposed to N2 plasma to form a TiN film 110.例文帳に追加

次に物理的気層成長法によりＴｉ膜１０８を、続いて化学的気層成長法によりＴｉＣＮ膜１０９を堆積し、ＴｉＣＮ膜１０９の表面をＮ_2 プラズマに暴露することによりＴｉＮ膜１１０を形成する。 - 特許庁

To obtain a resist composition which retains high sensitivity and high resolution peculiar to a chemical amplification type resist, has stability through a pattern forming process and gives a fine resist pattern having a rectangular cross-section and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

本発明は、化学増幅型レジストとして特有の高感度、高解像性能を保持し、パターン形成プロセスを通して安定であり、微細な断面矩形のレジストパターンを供することのできるレジスト組成物及びパターン形成方法を用いる。 - 特許庁

To discharge and provide intermittent and fixed amount of various liquids such as adhesive, clean solder, phosphor, electrode material, grease, paint, hot melt, chemical and foodstuff at a high speed and with high precision in a production process in the field such as an electronic part, household appliances, and a display.例文帳に追加

電子部品、家電製品、ディスプレイなどの分野における生産工程において、接着剤、クリーンハンダ、蛍光体、電極材料、グリース、ペイント、ホットメルト、薬品、食品などの各種液体を、高速かつ高精度に間欠定量吐出・供給する。 - 特許庁

After the deposition process, the inside of the reaction chamber is kept at a prescribed temperature, and ClF3 gas introduced into the reaction chamber for starting chemical reaction, to remove and clean the deposited film formed on the quartz member or the metal member in the reaction chamber.例文帳に追加

そこで成膜工程後に、反応室内を所定温度に維持し、反応室内にＣｌＦ_3ガスを導入して化学反応を起こさせ、反応室内の石英製部材または金属製部材に堆積した生成膜を除去してクリーニングする。 - 特許庁

A fixed chemical vapor sterilization process is improved by controlling the temperature of a particular diffusion path between a particular vaporizer and a sterilization chamber so as to condense and then re-vaporize at least part of the vapor.例文帳に追加

一定の化学的な蒸気滅菌処理が一定の気化装置と滅菌チャンバーとの間における一定の拡散通路の温度を調整して蒸気の少なくとも一部分を液化し、さらに、その後に、これを再気化することにより改善されている。 - 特許庁

In a process for manufacturing a polyester comprising treating polyester chips with water in a treating vessel, the water treatment is effected by introducing water having a chemical oxygen demand(COD) of 0.1-2.5 mg/l from the outside of the system.例文帳に追加

ポリエステルチップを処理槽中で水処理するポリエステルの製造方法において、化学的酸素要求量（ＣＯＤ）が０．１〜２．５ｍｇ／ｌである水を系外から導入することにより水処理することを特徴とするポリエステルの製造方法。 - 特許庁

Consequently, a short-circuit between the gate electrode portion 10 and the capacity contact plug 25 can be prevented when a contact plug 22 is formed by a CMP(Chemical Mechanical Polishing) process and then a capacity contact hole 24 is opened by etching to form the capacity contact plug 25.例文帳に追加

これにより、ＣＭＰ処理を経てコンタクトプラグ２２を形成し、さらに、エッチングにより容量コンタクトホール２４を開口して容量コンタクトプラグ２５を形成した場合に、ゲート電極部１０と容量コンタクトプラグ２５とのショートを防止することができる。 - 特許庁

To enable to obtain a ferulic acid bonding type saccharide with a high yield, which ferulic acid bonding type saccharide is difficult in industrial utilization because enzyme reaction technology and a chemical treatment method cause ferulic acid disengagement and oligosaccharide molecular weight decrease and are heavy in process load.例文帳に追加

酵素反応技術や化学薬品処理による方法では、フェルラ酸の離脱やオリゴ糖の分子量低下を招き、工程上の負荷が大きく産業利用が困難であったフェルラ酸結合型糖質を高収率で得ることを可能にする。 - 特許庁

To provide a method for acquiring sufficient polishing speed and not shortening a life of a polishing pad even if a concentration of an abrasive grain in a polishing agent is low or a non-foamed type polishing pad is used in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

化学機械研磨工程の際、研磨剤中の砥粒濃度が低い場合、あるいは無発泡型研磨パッドを使う場合においても、充分な研磨速度を実現でき、かつ研磨パッドの寿命が短縮されない方法を提供する。 - 特許庁