「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To judge the time limit at a glance by displaying the time limit for best of perishable foods and the effective limit of medicines not only by small characters and symbols, but by change of color or change of density due to chemical change or the process of progressing reaction by distance or area.例文帳に追加

生鮮食料品の賞味期限や医薬品などの有効期限を、小さな文字や記号のみではなく、化学変化による色の変化や濃度の変化、或いは反応の進行する過程を距離や面積で表示し、期限を一目で判断できることを得る。 - 特許庁

To provide a polyvinyl alcohol fiber having low-temperature water- solubility and heat-adhesiveness, not causing cemented fiber trouble in a nonwoven fabric-production process and a spinning, knitting and weaving proc ess, and to provide a method capable of producing e.g. a base fabric for a chemical lace at a high efficiency.例文帳に追加

低温易水溶性と熱接着性を兼備し、硬着のなく、不織布化工程や紡績、編織工程でトラブルことのないポリビニルアルコール系繊維を得ることを目的とするものであり、例えばケミカルレース基布などの高効率製造を可能にする。 - 特許庁

The relief printing part- forming process A comprises trimming with the drill of a cutting polishing apparatus the periphery of the surface of the plate member for embossing comprising e.g. chemical wood, an ABS resin, an acrylic resin leaving the characters/patterns so as to form the relief printing parts of the characters/patterns.例文帳に追加

凸版面部作成工程Ａは、ケミカルウッド・ＡＢＳ樹脂・アクリル樹脂等から成る型押用板部材の表面を切削研磨装置のドリルによって文字・図柄部分を残して周囲を削り取ることにより当該文字・図柄等の凸版面部を形成する。 - 特許庁

To make a set of metallic deposits layer having a structure and a pattern of a distinctive size (75 μm or less), which cannot be produced by a conventional screen printing method, by the use of a composition which cannot be used by the conventional screen printing method without performing a wet chemical process.例文帳に追加

従来技術のスクリーン印刷法では使用し得なかった組成物を用いて、従来技術のスクリーン印刷法では成し得なかった特徴サイズ（75μm以下）の構造およびパターンを有する金属析出層を、湿式化学的工程を経ずに作成する。 - 特許庁

The fine crystal sintered alumina-based abrasive grains are manufactured by a chemical process started from unclear species of aluminum oxide of sub-micro grain to become abrasive trains through drying, crushing and sintering processed, so thousands of millions of high purity particulartes exist in a single piece of abrasive grains.例文帳に追加

微結晶性焼結アルミナ質砥粒はサブミクロン粒子の酸化アルミニウムの核種から始まり乾燥粉砕焼結工程をへて砥粒とする化学プロセスにより製造されるので、一個の砥粒中には数十億個の高純度微粒子が存在する。 - 特許庁

To provide a method for producing hollow fiber membrane, capable of producing the hollow fiber membrane having high strength and high water permeability through the process that scarcely gives environmental loads, is operated at a low cost, and scarcely causes problems of safety, by using a polyvinylidene fluoride resin having high chemical resistance.例文帳に追加

耐薬品性が高いポリフッ化ビニリデン系樹脂を用いて、高強度で高透水性能を有する中空糸膜を、環境負荷が小さく、低コストで安全上問題のない製法で製造することが可能になる中空糸膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-curable resin composition which is excellent in transparency, chemical resistance, alkali resistance, heat resistance and water resistance, and also has a high compressive strength, thus gives a patterned transparent film and is excellent in process margin, photographic sensitivity and developability.例文帳に追加

透明性、耐薬品性、耐アルカリ性、耐熱性、耐水性に優れ、かつ高い圧縮強度を併せ持ち、表示素子に用いられるパターン化された透明膜を与える、プロセスマージン、感度、現像性に優れた光硬化性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a reversible-information-visible information sheet with a noncontact IC that is usable as an admission ticket or a sticker for a frozen food container, industrial product, every type of chemical container or the like, or for physical distribution management, manufacturing process management, document management or the like.例文帳に追加

入出チケット、冷凍食品用容器、工業製品、各種薬品容器等のステッカー、物流管理用途、製造工程管理、文書管理用途などに使用可能であり、可逆性の情報の視認可能な非接触式ＩＣ付き情報シートを提供する。 - 特許庁

To obtain an organic thin membrane, not requiring a heating pre- treatment process under a high temperature for a long period of time, etc., excellent in productivity, and also in heat resistance and chemical stability, and a liquid crystal-orienting membrane having a good liquid crystal-orienting capability by a small amount of light irradiation.例文帳に追加

高温、長時間の加熱前処理工程等が不用であり、生産性に優れるとともに耐熱性、化学的安定性に優れる有機薄膜および少ない光照射量で良好な液晶配向能を有する液晶配向膜を提供する。 - 特許庁

Upon this process, the solution inside the mixing flow channel 146 is irradiated with microwaves from a microwave generator 160, so as to increase the diffusion speed of the molecules of the solutions inside the mixing channel 146 to efficiently promote the mixture and the chemical reaction accompanying the mixture.例文帳に追加

このとき、マイクロ波発生器１６０からのマイクロ波がミキシング流路１４６内の溶液に照射されるので、ミキシング流路１４６内における溶液の分子の拡散速度を増大させて混合及び混合に伴う化学反応を効率的に促進できる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in such performances as sensitivity, transmittance, insulation, chemical resistance, flatness and coating property, having improved adhesiveness particularly to an inorganic material, and suitable for forming an interlayer dielectric in an LCD manufacturing process.例文帳に追加

感度、透過率、絶縁性、耐化学性、平坦性、コーティング性などの性能に優れているだけでなく、特に無機質材料との接着性が顕著に向上して、ＬＣＤ製造工程の層間絶縁膜を形成するのに適合する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the printed circuit board in which metal layers are laminated via insulating layers and a via-hole is provided to connect the metal layers, the metal layers in the front surface side of the via-hole are reduced in thickness by the chemical etching process after resin is supplied into the via-hole.例文帳に追加

絶縁層を介して金属層を積層し、金属層間を接続するビアホールを設けるプリント配線板の製造方法にあって、前記ビアホール内に樹脂を注入後、化学エッチングで前記ビアホールの表面側の前記金属層を薄くする。 - 特許庁

To provide a method for significantly reducing, and in most instances eliminating, the dishing of copper during chemical mechanical polishing(CMP) process by the use of electroplated alloys of copper where alloying metal forms a continuous solid solution with the copper.例文帳に追加

金属を合金化することにより銅とともに一連の均一な固溶体を形成する、電気めっきされた銅合金を使用することにより、化学・機械的研磨（ＣＭＰ）中における銅のディッシングを著しく低減し、場合によっては除去する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a waste treatment method capable of reducing the consumption of an insolubilization agent in the process of insolubilizing chemical substances and heavy metals contained in waste sand including spill sand and collected dust which are waste generated from a casting line in a foundry.例文帳に追加

鋳物工場の鋳造ラインから発生する廃棄物であるこぼれ砂および集塵ダストを含む廃棄砂に含まれる化学物質や重金属を不溶化処理する工程において、不溶化剤の消費量を低減できる廃棄物処理方法を提供する。 - 特許庁

The polishing solution being used for chemical mechanical polishing in a process for planarizing a semiconductor integrated circuit having a barrier layer contains (A) colloidal silica particles, (B) hydrophilic benzotriazol derivative, (C) hydrophobic benzotriazol derivative, and (D) an oxidant.例文帳に追加

本発明の研磨液は、バリア層を有する半導体集積回路の平坦化工程において化学的機械的研磨に用いる研磨液であって、（Ａ）コロイダルシリカ粒子、（Ｂ）親水性のベンゾトリアゾール誘導体、（Ｃ）疎水性のベンゾトリアゾール誘導体、及び（Ｄ）酸化剤、を含有する。 - 特許庁

The elements are formed, by forming two layers sandwiching a sacrificial layer between them, the sacrificial layer having a thickness related to the final resonator dimensions, and using chemical (e.g., water) or a process based on plasma to remove the sacrificial layer.例文帳に追加

素子は、最終の共振器寸法と関係がある層厚を有している犠牲層と犠牲層をそれら間にてサンドウィッチする２つの層を形成し、化学薬品（例えば、水）を使い又はプラズマに基づいた処理を行い犠牲層を除去することによって形成される。 - 特許庁

To provide a plastic substrate for a display element which is excellent in heat resistance, chemical resistance and steam barrier properties, low in average coefficient of linear expansion and is furthermore high in bending strength, and by which bending, deformation, or cracks due to wiring in a thin-film device forming process are hard to be generated.例文帳に追加

耐熱性、耐薬品性、水蒸気バリア性に優れ、平均線膨張係数が低く、かつ、曲げ強度が高く、薄膜デバイス形成工程で反りや変形、配線の亀裂が生じにくいことを特徴とする表示素子用プラスチック基板を提供する。 - 特許庁

To conduct selection, extraction, and evaluation of cells having specific characteristics, without producing physical nor chemical effects on the cells, when the cells are subjected to separation/fractionation on a disposable chip given at a low cost and then transported to a following process at a high speed.例文帳に追加

特異な特性を有する細胞を選別して抽出し、細胞を評価するために、使い捨て可能な安価なチップ上で細胞分離・分取し、更に後続の工程に細胞を高速に輸送する際、細胞に物理的、化学的影響を与えず行う。 - 特許庁

To provide a high temperature mechano-chemical polishing method and a device, mechano-chemically polishing a work piece at a high temperature in an open atmosphere, facilitating approach to a work piece in the process of polishing, a polishing plate and abrasive grains, having high workability, and remarkably heightening the machining efficiency.例文帳に追加

開放雰囲気においてワークを高温でメカノケミカル研磨することができ、研磨中のワーク、研磨プレート、および砥粒へのアプローチが容易であり、作業性が高く、加工能率を大幅に高めることができる高温メカノケミカル研磨方法と装置を提供する。 - 特許庁

In the reaction stage to delignify and to bleach pulp having 4-9 Kappa number under alkali conditions in the chemical pulp multistage bleaching process, sodium hydroxide and a specific pH buffer are added to the pulp and the pulp is adjusted to pH 10.0-12.0 at the end of the reaction.例文帳に追加

ケミカルパルプ多段漂白工程中のカッパー価４〜９のパルプを、アルカリ性条件下で脱リグニン及び漂白処理する反応段において、水酸化ナトリウムと特定のｐＨ緩衝剤を添加し、反応終了時のｐＨを１０．０〜１２．０の範囲に調整する。 - 特許庁

To provide a method for forming a substrate, in which a desired fine uneven structure having a comparatively large area can be formed on a surface of the substrate, by paying attention to mask formation by a nano-inprint process allowing a mask having a comparatively large area to be obtained and chemical etching allowing a large area to be processed.例文帳に追加

比較的大面積化が可能なナノインプリントプロセスによるマスクの形成と、大面積の処理が可能な化学エッチングとに着目することで，基板の表面に比較的大面積の所望の微細凹凸構造を形成可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid carrying device which is capable of increasing the copper vapor deposition speed, and realizing the reproducibility when a copper layer is vapor deposited by a metal-organic chemical phase vapor deposition method using a raw liquid copper in the manufacturing process of a semi- conductor element.例文帳に追加

半導体素子の製造工程中、銅液体原料を用いて金属−有機化学気相蒸着法で銅層を蒸着する時、銅の蒸着速度を増大させるとともに、再現性を具現することのできる液体運送装置を提供すること。 - 特許庁

The process comprises the steps; 1) a step to supply a starting substance as the vanadyl/vanadous sulfate solution having a specific chemical composition, 2) a step to obtain the crystal by heating the solution and 3) a step to obtain a clear solution having practically same chemical composition as the starting substance by dissolving the crystal again adding a specific volume of deionized water with continuous agitation, if necessary with heat.例文帳に追加

このプロセスは、１）特定の化学組成を有するバナジル／バナダスサルフェート溶液の形態として出発材料を供用するステップ、２）加熱により前記溶液を蒸発させ結晶化させるステップ、および３）絶えず攪拌しながら、特定の体積の脱イオン水を加え、必要であれば加熱して結晶を再溶解させて、実質的に出発材料と同一の化学組成を有する透明溶液とするステップを含む。 - 特許庁

The method is characterized in that it includes processes of: forming a film to be etched having a layer containing a nitrogen atom as a structural atom as at least the uppermost layer on a substrate; subjecting the film to be etched to a thermal oxidation process to form an oxidized layer on the surface; forming a chemical amplification resist film on the film to be etched; and selectively exposing and developing the chemical amplification resist film.例文帳に追加

少なくとも最上層に窒素原子を構成原子とする膜を有する被エッチング膜を基板上に形成する工程と、前記被エッチング膜を熱酸化処理を施してその表面に酸化層を形成する工程と、前記被エッチング膜上に化学増幅レジスト膜を形成する工程、前記化学増幅レジスト膜を選択的に露光し、現像する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the spray pressure control process, the spray quantity is controlled so that, if the detected vehicle speed is lower then the low speed standard value, the chemical spray is stopped or continued while keeping the lowest standard spray pressure, and if the detected vehicle speed is higher than the high speed standard value, the chemical spray is stopped or continued while keeping the maximum standard pressure.例文帳に追加

このような噴霧圧力制御過程において、検出車速が低速基準値より低い場合には、薬剤散布を停止するか、あるいは、最低基準噴霧圧力を保持して薬剤散布を継続する制御がなされ、また、検出車速が高速基準値より高い場合には、薬剤散布を停止するか、あるいは、所定の最大基準圧力を保持して薬剤散布を継続する制御がなされる。 - 特許庁

Regarding the method for producing a metal-containing thin film using a ruthenium-containing thin film as a lower layer metal film, an organic ruthenium complex is subjected to a chemical vapor deposition process, so as to produce a ruthenium-containing thin film, and then, an organic metal complex is formed on the ruthenium-containing thin film by a CVD process, so as to deposit a metal-containing thin film.例文帳に追加

本発明の課題は、有機ルテニウム錯体を化学気相蒸着法によりルテニウム含有薄膜を製造させた後、次いで、そのルテニウム含有薄膜の上に、有機金属錯体をＣＶＤ法により金属含有の薄膜を形成させることを特徴とする、ルテニウム含有薄膜を下層金属膜とした金属含有薄膜の製造法によって解決される。 - 特許庁

In the cleaning method, it is preferable to include a process of discharging the water molecule cluster being the water containing the metal components into an air environment and a process of oxidizing and/or decomposing the gaseous harmful chemical substances in the air environment in a gas phase by the catalyst action of the metal components contained in the discharged water molecule cluster.例文帳に追加

かかる清浄化方法としては、金属成分を含む水が、水分子クラスターであり、水分子クラスターを空気環境中に放出する工程と、放出した水分子クラスター中に含まれる金属成分の触媒作用により、空気環境中の気体状の有害化学物質を気相で酸化および／または分解する工程とを備える態様が好ましい。 - 特許庁

The cleaning agent for the copper wiring semiconductor is used in a process succeeding to chemical mechanical polishing in a semiconductor manufacturing process for forming the wiring of copper or a copper alloy, and contains, as essential components, a cyclic polyamine (A), a polyphenol-based reductant (B) containing 2 to 5 hydroxy groups, a quaternary ammonium hydroxide (C), an ascorbic acid (D), and water.例文帳に追加

銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨の後に続く工程において使用される洗浄剤であって環状ポリアミン（Ａ）、水酸基を２〜５個含むポリフェノール系還元剤（Ｂ）、第４級アンモニウムヒドロキシド（Ｃ）、アスコルビン酸（Ｄ）、および水を必須成分とすることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 - 特許庁

In order to execute such the method so as to monitor a sinter process even in a combustion kiln in a temperature radiation equilibrium state, a radiation ray 14 having a radiation spectrum different from a surface radiation ray 13 is radiated from a radiation source 15 onto the surface 10 and is measured by the measurement instrument 16 during the physical and/or chemical process 12.例文帳に追加

温度放射平衡の状態にある燃焼窯内においても焼結プロセスが監視可能になるようこの種の方法を実行するために、物理および／または化学プロセス（１２）中に表面放射線（１３）とは異なった放射スペクトルを有する放射線（１４）を放射源（１５）から表面（１０）上に放射させ測定装置（１６）によって測定する。 - 特許庁

In the method of producing component members of a game machine, there are a dewatering process in which a molding die is filled with a fiber-mixed dispersion solution with at least paper fibers and chemical fibers mixed and dispersed in water and the fiber-mixed dispersion solution is dewatered by pressing to obtain a dewatered press molded product and a drying process to dry the dewatered press molded products.例文帳に追加

遊技機の構成部材を製造する方法において、少なくとも紙繊維と化学繊維が水に混合分散した混合繊維分散液を成形型内に充填し、該充填した混合繊維分散液をプレスすることにより脱水して脱水プレス成形品を得る脱水プレス工程と、前記脱水プレス成形品を乾燥させる乾燥工程とを備える。 - 特許庁

In a manufacturing method, a process for inspecting leakage current is installed after a process for sealing a capacitor element by an armor material, at the manufacturing of the solid electrolytic capacitor holding chemical polymerized conductive polymer between the electrode foils of the anode and the cathode of the capacitor element, where the anode foil and the cathode foil, in which dielectric oxidation films are formed, are wound through a separator.例文帳に追加

誘電体酸化皮膜を形成した陽極箔と陰極箔とをセパレータを介して巻回したコンデンサ素子の陽極と陰極の電極箔間に化学重合性導電性高分子を保持する固体電解コンデンサを製造する際に、コンデンサ素子を外装材で封止する工程の後に、漏れ電流の検査を行う工程を設けた製造方法としたものである。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having superior photosensitive characteristics and shelf stability, high resolution and good process stability, a sensitive material having high resolution and good process stability, a method for producing a relief pattern capable of giving a polymide pattern, etc., of a good shape having superior heat resistance, adhesion and chemical resistance and a method for producing a polyimide pattern.例文帳に追加

本発明は、優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物、高解像度でプロセス安定性の良好な感光材料、優れた耐熱性、密着性及び耐薬品性を示し形状の良好なポリイミドパターン等を与えうるレリーフパターンの製造法及びなポリイミドパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a material that can be easily formed by a computer-aided milling process and a computer-aided trimming process, then can be subsequently converted into a high-strength dental product which displays high chemical durability and excellent optical properties, exhibits drastically reduced shrinkage during the above final conversion, and achieves all these properties without the need for ZnO.例文帳に追加

コンピュータ支援ミリングプロセスおよびコンピュータ支援トリミングプロセスによって容易に成形され得、その後、高い化学的耐性と優れた光学特性とを示す高強度の歯科用製品へと変換され得、そして上記最終変換の間に示す収縮がかなり小さく、そしてこれらの特性全てが、ＺｎＯを必要とせずに達成される材料を提供すること。 - 特許庁

On the printed board 4, the circuit patterns are formed in the expected pattern width by alternating a process of blowing an etchant from an etching nozzle (liquid chemical nozzle) 1 onto the printed board 4 which is being carried and a process of blowing air from an air nozzle 11 onto the printed board 4 so that the etchant is removed from on the printed board 4.例文帳に追加

搬送状態にあるプリント基板４上にエッチングノズル（薬液ノズル）１よりエッチング液を吹き付ける工程と、該エッチング液がプリント基板４上から除去されるべく、プリント基板４上にエアーノズル１１より気体を吹き付ける工程とが交互に繰返されるようにして、プリント基板４上に回路パターンが所期のパターン幅として形成されるようにしたものである。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor device includes steps of conducting an etching process to a film formed on a semiconductor substrate and peeling the deposits on the film by supplying a chemical solution, after the etching process, to the semiconductor substrate in a state where the substrate is rotated in the number of rotations lower than the predetermined number of rotations and then rotating the semiconductor substrate in the number of rotations larger than the predetermined number of rotations.例文帳に追加

半導体製造方法は、半導体基板上に形成された膜にエッチングを施す工程と、エッチングの後に、膜上の堆積物を剥離する薬液を所定の回転数よりも回転数が小さい状態の半導体基板に供給し、その後、半導体基板を所定の回転数よりも大きい高回転数で回転する剥離工程とを含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having superior photosensitive characteristics and storage stability, high resolution and good process stability and a photosensitive material having high resolution and good process stability and to provide a method for producing a relief pattern and a method for producing a polyimide pattern by which a polyimide pattern of a good shape having superior heat resistance, adhesion and chemical resistance can be given.例文帳に追加

本発明は、優れた感光特性及び保存安定性を示し、かつ高解像度でプロセス安定性の良好な感光性組成物、高解像度でプロセス安定性の良好な感光材料、優れた耐熱性、密着性及び耐薬品性を示し形状の良好なポリイミドパターン等を与えうるレリーフパターンの製造法及びポリイミドパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for Mg or Mg alloy which makes the rust prevention of the Mg or Mg alloy possible by a simple process step after performing a chemical conversion treatment of the Mg or Mg alloy and is capable of maintaining good conductivity according to the purposes and applications of materials.例文帳に追加

Ｍｇ又はＭｇ合金の化成処理を行った後に、簡単な工程によってＭｇ又はＭｇ合金の防錆が可能で、しかも、材料の目的・用途に応じて良好な伝導性を保持することができるＭｇ又はＭｇ合金の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum suction stage avoiding problems due to the remaining of water, steam and chemical, which are used in a wet process, on the wafer rear face and the surface of the vacuum suction stage, and to provide a semiconductor manufacturing method that uses the stage.例文帳に追加

本発明は、ウェット工程で用いられる水、水蒸気（蒸気）、薬液などがウェーハ裏面又は真空吸着ステージ表面に残留することによる諸問題を回避できる真空吸着ステージおよびそれを用いた半導体製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition method for a silicon oxide film by a chemical vapor deposition (CVD) method, which can form a silicon oxide containing fewer OH groups without performing extra modification process such as thermal treatment or chlorine processing after the deposition of the silicon oxide film.例文帳に追加

ＣＶＤ法によるシリコン酸化膜の成膜方法であって、シリコン酸化膜成膜後に熱処理または塩素処理などの別の改質工程を行わずとも、ＯＨ基の含有量が抑えられたシリコン酸化膜を成膜することができるシリコン酸化膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacture method of an array substrate for a liquid crystal display device, when the gate line and the data line are formed on the array substrate, metal material having high chemical corrosion resistance and low electrical resistance is used and, thereby, the process is simplified.例文帳に追加

本発明は液晶表示装置用アレイ基板の製造方法に係り、アレイ基板にゲート配線及びデータ配線を形成する時に、化学的に耐蝕性が強く、抵抗値が小さい金属物質を用いることによって、工程を単純化する方法に関するものである。 - 特許庁

To provide a collecting apparatus for collecting reusable polishing materials from discharged water produced in polishing process including polishing material discharged from CMP(Chemical Mechanical Polishing) used in a semiconductor manufacturing plant and the like by effectively collecting polishing particle through highly concentrated operation.例文帳に追加

半導体製造工場などで使用されるＣＭＰ（化学的機械研磨：ＣｈｅｍｉｃａｌＭｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）工程から排出される研磨材を含有する研磨工程排水から、高濃縮運転を行って研磨材粒子を効率的に回収し、再利用することができる研磨材の回収装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wet deposition process such as misted chemical deposition with a shutter driven in one axis direction in order to produce a thin film or powder array various in composition on a wafer or in a reactor having apertures as many as the number of samples to be produced.例文帳に追加

ウエハ上、または製造しようとするサンプルの個数ほどの穴が穿孔されている反応器内に、様々な組成の薄膜や粉末アレイを製造するために、一軸方向に駆動される移動シャッターが装着されている、噴霧化学蒸着などの湿式蒸着工程を提供すること。 - 特許庁

To provide a recovery process by which active liquid chemical components in washing water resulted from metal surface treatment of a metal formed body by liquid chemicals, can efficiently be recovered by subjecting the water washings to reverse osmosis membrane treatment and also, permeate water having excellent water quality can stably be obtained over a long period.例文帳に追加

金属成型物に対して薬液により金属表面処理を行う場合に、ここで生じる水洗水に対し、逆浸透膜処理を用いて効率よく有効成分を回収し、かつ優れた水質の透過液を長期に亘って安定して得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultrahigh molecular weight polyolefin composition capable of imparting a molded product excellent in weather resistance, chemical resistance and thermal stability and also excellent in tensile strength and tensile elastic modulus even when produced in a production method having an extraction process of a diluent.例文帳に追加

本発明は、希釈剤の抽出工程を有する製法で製造しても、耐候性、耐薬品性、耐熱安定性に優れ、引張強度や引張弾性率に優れた超高分子量ポリオレフィン成形体が得られるような超高分子量ポリオレフィン組成物を提供することを課題としている。 - 特許庁