「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive resist composition which is enhanced in resolving power, reduced in residue on development and improved in process admissibility such as a margin for exposure and a focal depth in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication and a positive chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、現像残査が低減し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

By the reagent for organic synthesis, not only facilitating process development, but also, for instance, enabling to promote research and development of medicines and the like by compound library synthesis and the like, as a result, enabling to contribute to the technical innovation in biochemical industry and chemical industry.例文帳に追加

本発明の有機合成用試薬によれば、プロセス開発を容易とするばかりでなく、例えば、化合物ライブラリー合成等による医薬品等の研究開発を促進することが可能となり、ひいては生化学工業や化学工業における技術革新に寄与することができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive heat-resistant resin composition for electronic components which minimizes contamination of metal by organic materials, also minimizes the increase of the electric resistance of a metallic electrode of a semiconductor device, and has such satisfactory chemical resistance and adhesiveness to metal that it withstands a subsequent process.例文帳に追加

金属上の有機物による汚染を最小限にとどめ、半導体素子の金属電極の電気抵抗の増加を最小限にすると同時に、その後の工程にも耐える十分な耐薬品性、金属との接着性を有する電子部品用感光性耐熱性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a device for polishing a substrate by the use of a chemical polishing end-point detection technology capable of rapidly detecting generation of a strong toxic gas accompanying the polishing and effectively avoiding the risk, and can be applied to the actual polishing process and polishing device.例文帳に追加

研磨に伴う毒性の高いガスの発生を速やかに検知し危険性に対して、有効な回避策を実施でき、現実の研磨プロセス並びに研磨装置に適用できる化学的研磨終点検知技術を用いて研磨する研磨方法、及び研磨装置を提供すること。 - 特許庁

A method for producing the elastic base material includes a process of sticking the network 2 consisting of the thermoplastic elastomer material that softens by heating at predetermined temperature and the fabric 3 or the knitted fabric consisting of the chemical fiber that has heat resistance at the predetermined temperature by heat fusion at the predetermined temperature.例文帳に追加

伸縮性基材の製造方法は、所定温度で加熱軟化する熱可塑性のエラストマ材料からなる網状体２と、前記所定温度で耐熱性を備えた、化学繊維からなる織物３または編物と、を前記所定温度で熱融着によって貼り合わす工程を含んでいる。 - 特許庁

Recovered monomers having high purity can be produced in high efficiency by crushing waste polyesters to give crushed products having different bulk density (apparent density), supplying the crushed product to a granulator while controlling the supplying rate to keep the operation load within a prescribed range and supplying the produced granules to a chemical recycling process.例文帳に追加

ポリエステル廃棄物を破砕した嵩比重（見掛け比重）の異なる破砕物を、運転負荷が一定範囲となるように制御しつつ造粒機へ供給して造粒物を形成した後、該造粒物をケミカルリサイクル工程へ供給することにより高純度の回収モノマーを効率よく得る。 - 特許庁

To provide an abrasive composition for CMP (chemical mechanical polishing) work having a high selectivity, that is, high in abrasion rate of copper but low in that of tantalum, and also excellent in the smoothness of the copper film surface, in the CMP work process of a semiconductor device having a copper film and a tantalum compound.例文帳に追加

銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅の研磨レートは大きいがタンタル化合物の研磨レートが小さいという選択性の高い研磨用組成物であり、銅膜表面の平滑性にも優れたＣＭＰ加工用の研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

To minimize a build-up of a chemical by-product accumulated on a laser window 32 having the surface of which is exposed to a process chamber with a circular circumstance, mounted inside of a frame, in an apparatus for forming a three-dimensional body every layer from a powder material by a laser sintering.例文帳に追加

レーザ焼結により粉末材料から三次元物体を層毎に形成するための装置において、プロセス・チャンバに露出される表面を有し、周囲が円形形状であり、フレーム内に取り付けられたレーザ窓３２に蓄積する化学副生成物を最小にする。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal oxide film having excellent film deposition properties in a method of producing a metal oxide film on an object for film deposition using metal complex gas and water vapor by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

本発明の課題は、金属錯体ガスと水蒸気を用いて、化学気相蒸着法により、成膜対象物上に金属酸化膜を製造する方法において、上記問題点を解決し、優れた成膜性を有する金属酸化膜の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method of grasping residual quantity of hydrogen one after another every moment in a process of gradually discharging hydrogen stored in a hydrogen storage material by chemical bonding, physical trap or the like, and to enable confirmation of the time possible to continuously use a hydrogen energy utilization system after the present time.例文帳に追加

水素貯蔵材料に化学結合や物理的トラップ等で吸蔵されている水素が徐々に放出されていく過程で、時々刻々の水素残量を逐次把握する方法を提供し、水素エネルギー利用システムの現時点以降の使用継続可能時間を確認可能とすること - 特許庁

This method for cleaning in the paper making and screening process, an aqueous dispersion liquid consisting essentially of D-limonene and caustic soda is added to a screening system and circulated to remove impurities derived from each chemical consisting essentially of the sizing agent.例文帳に追加

抄紙精選工程における洗浄方法において、精選系に主としてＤ−リモネンおよび苛性ソーダからなる水性分散液を添加し、回流させてサイズ剤を主体とした各薬品に由来する不純物を除去することを特徴とする抄紙精選工程における洗浄方法。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board in which adhesion with an insulating resin layer laminated on a metal wiring layer can be improved by forming recesses and projections on the metal wiring layer inexpensively without performing a roughening process by treatment with chemical, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

薬液処理による粗化工程を行わずに低コストで金属配線層に凹凸を形成して、金属配線層上に積層する絶縁樹脂層との密着性を向上させることができる多層プリント配線板及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge capable of protecting the surface of a body to be charged from chemical deterioration ascribable to AC application discharge in a system of charging the body to be charged by utilizing the above discharge by a charging member disposed in contact with or in close vicinity to the body.例文帳に追加

接触又は近接させて配置した帯電部材による交流印加放電を利用して被帯電体を帯電させる方式において、上記放電による被帯電体表面の化学的劣化を防止することができる画像形成装置、プロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

To provide a contamination control device for preventing diffusion of contaminants leaking from a connecting part provided in a pipeline for transporting process gas or chemical, a contamination control system including the contamination control device, and a contamination control method of a clean room using the contamination control device.例文帳に追加

工程ガス又はケミカルを輸送するための配管に設けられた連結部から漏洩する汚染物の拡散を防止するための汚染制御装置と、その汚染制御装置を備える汚染管理システムと、汚染制御装置を用いた、クリーンルームの汚染制御方法とを提供する。 - 特許庁

A state with a mold pattern 121 formed is provided by processing a silicon carbide film 102 formed by the chemical vapor deposition process.例文帳に追加

ＣＶＤ法で形成された炭化珪素膜１０２を加工してモールドパターン１２１が形成された状態とし、次に、シリコン基板１３１の主表面にモールドパターン１２１が当接された状態とし、この状態で、支持体基板１０１とシリコン基板１３１との間に電圧が印加された状態とする。 - 特許庁

The plasma chemical deposition apparatus is equipped with a process chamber comprising upper and lower chambers 40 and 42, a reaction gas discharge ring 44 for discharging a reaction gas, a susceptor 52 that has a heater at the inside and fixes a wafer 56 for rotating, a plasma correction ring 54, a vacuum pump 60, and a power supply.例文帳に追加

プラズマ化学蒸着装置は、上部チャンバ４０と下部チャンバ４２からなる工程チャンバ、反応ガスを放出する反応ガス放出リング４４、ヒーターが内設され、ウェーハ５６を固定して回転させるサセプタ５２、プラズマ補正リング５４、真空ポンプ６０及び電源を備える。 - 特許庁

After finishing washing and rinsing, a dewatering process is started without draining an outer tank, and when a load is 5 kg or more (S11) and the quality of clothing is mainly chemical fabric (S12), the rotating speed of a drum is increased without driving a drainage pump for detecting an eccentricity (S15, S16).例文帳に追加

洗いやすすぎ終了後、外槽内の水を排水せずに脱水行程を開始し、負荷量が５ｋｇ以上であって（Ｓ１１）布質が化学繊維中心である（Ｓ１２）場合には、排水ポンプを駆動することなしにドラムの回転速度を上昇させて偏心量を検知する（Ｓ１５、Ｓ１６）。 - 特許庁

To provide a resin composition that can form a hard coat film having low-reflection function suited for optical parts and having scratch resistance, mar resistance, chemical resistance or the like sufficient to protect a base material in a simple and convenient process with enhanced productivity, enhanced yield of product or the like.例文帳に追加

光学部品に適した低反射機能と、基材を十分に保護し得る耐引っ掻き性、耐擦り傷性、耐薬品性などを備えたハードコート膜を形成するにおいて、簡便な工程で生産性、製品歩留まりなどを向上させることができる技術を提供する。 - 特許庁

The water-repellent and oil-repellent pigment subjected to surface treatment with a perfluoroacrylate copolymer represented by chemical structural formula (1) is obtained through a process for dissolving the perfluoroacrylate copolymer in an organic solvent and mixing the solution with pigment powder by a mixing disperser.例文帳に追加

下記化学構造式（１）にて示されるパーフルオロアクリレート共重合体を有機系溶剤に溶解させた溶液と、顔料粉体とを混合分散機により混合する工程を経て、前記パーフルオロアクリレート共重合体が表面処理された撥水撥油性顔料を得る。 - 特許庁

This method for producing a saccharide is characterized by collecting a reject by-produced in a process for refining pulp, when a lignocellulose material is digested to produce the chemical pulp, and then adding cellulase to the reject to hydrolyze the reject.例文帳に追加

上記課題に基づいて鋭意研究を行った結果、リグノセルロース材料を蒸解して得られる化学パルプの製造時に、パルプの精選工程において発生するリジェクトを採取し、これにセルラーゼを加えて加水分解を行う糖類の製造方法が、上記の課題を解決することを見出した。 - 特許庁

To provide a lubricant applying unit which exhibits the lubricity of the lubricant to the full at all times by stably supplying the lubricant onto a photoreceptor in contrast with the factor that the lubricant cannot exhibit the lubricity any more due to the chemical deterioration in a charging process.例文帳に追加

潤滑剤が帯電プロセスにおける化学的劣化により潤滑性を発揮できなくなることに対して、安定に潤滑剤を感光体上に供給することにより、常に、その潤滑性を最大限発揮する潤滑剤塗布装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

Process temperature for the atmosphere is controlled in accordance with the pressure in the atmosphere, and partial pressures of the hydrogen gas and that of the water vapor in the atmosphere are controlled and the separation performance of the hydrogen isotope from the hydrogen gas through the hydrogen-water chemical exchange reaction is controlled.例文帳に追加

次いで、前記雰囲気内の圧力に応じて前記雰囲気に対するプロセス温度を制御し、前記雰囲気内における前記水素ガスの分圧及び前記水蒸気の分圧を制御し、水素−水化学交換反応を通じた前記水素ガスからの前記水素同位体の分離性能を制御する。 - 特許庁

To provide technology which raises the efficiency of a reaction stage to delignify and to bleach pulp having 4-9 Kappa number under alkali conditions and reduces load of the subsequent bleaching reaction stages in a chemical pulp multistage bleaching process.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、ケミカルパルプ多段漂白工程中において、カッパー価が４〜９のパルプを、アルカリ性条件下で脱リグニン及び漂白処理する反応段の効率を高めると同時に、後続の漂白反応段の負荷を軽減できる技術を提供することにある。 - 特許庁

To provide a styrene polymer which allows introduction of a reactive functional group at an end of a styrene polymer having a syndiotactic structure, shows an excellent heat resistance and chemical resistance and has a good reactivity and compatibility with other resins; its preparation process; and a resin composition containing the polymer.例文帳に追加

シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体の末端に反応性を有する官能基を導入可能で、耐熱性，耐薬品性に優れ、他の樹脂との反応性や相溶性が良好であるスチレン系重合体、その製造方法及びそれを含有する樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This invention concretely provides the method for forming the semiconductor structure including a plurality of fin FET devices, and provides a method for using a mask getting across it together with a chemical oxide removing (COR) process when a rectangular pattern is formed to demarcate a relatively fine fin.例文帳に追加

具体的には本発明は、複数のフィンＦＥＴデバイスを含む半導体構造を形成する方法であって、長方形のパターンを形成して相対的に細いフィンを画定する際に、これを横切るマスクを、化学的酸化物除去（ＣＯＲ）プロセスとともに使用する方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the clogging of filter cloths of a dehydrator without operation for separating and removing a chemical admixture for concrete in the pretreatment means of a dehydration process using the dehydrator for obtaining a cake in a solid state from sludge water containing a cement component.例文帳に追加

本発明はセメント分を含んだスラッジ水から硬質状態のケーキを得るための脱水機による脱水工程の前処理手段において、コンクリート用化学混和剤を分離除去する操作を経ることなく、脱水機の濾布の目詰まりを防止することを目的とする。 - 特許庁

An invention of an organic compound does not have an inventive step if chemical structure or properties of a claimed invention is similar to that of cited invention, regardless of its different method of manufacturing organic compound. A patentability of material invention is assessed by its properties, not by its manufacturing process. 例文帳に追加

請求項に係る発明の化学構造又は特性が引用発明と類似する場合、有機化合物の製造方法が異なっていても、有機化合物の発明は進歩性を有しない。物質発明の特許性は、製造過程ではなく、その特性によって判断される。 - 特許庁

The control unit 57 changes the number of reciprocative SPM scanning times, decided by a recipe to the number of the reciprocating SPM scanning times corresponding to the data given from the data comparator 63, and controls the process performed by means of a chemical cleaner 13 in accordance with the recipe after being changed.例文帳に追加

洗浄制御部５７は、レシピで定められているＳＰＭ往復スキャン回数を、データ比較部６３から与えられたデータに応じたＳＰＭ往復スキャン回数に変更し、その変更後のレシピに従って、薬液洗浄部１３における処理のための制御を行う。 - 特許庁

In the chemical mechanical polishing method in a manufacturing process of a semiconductor device, the object to be polished with an embedded interconnection formed in the low relative permittivity insulation film via the barrier metal is polished, by using a polishing solution containing colloidal silica, with a part of the surface covered with aluminum atoms.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨方法であって、低比誘電率の絶縁膜にバリアメタル層を介して埋め込み配線を形成してなる被研磨体を、表面の一部がアルミニウム原子で覆われたコロイダルシリカを含有する研磨液を用いて研磨する。 - 特許庁

The piezoelectric element plate whose surface process layer is removed through chemical etching and whose frequency is adjusted with precision, a media whose main component is amorphous alumina, chrome oxide as an abrasive, and a surface active agent are put in a cylindrical plastic container and this container is filled with water.例文帳に追加

円筒形プラスチック容器に、化学的エッチングによって圧電素板片の表面加工層が除去され、かつ周波数が精度良く調整された圧電素板片と不定形のアルミナを主体とするメディアと、研磨材として酸化クロム、及び界面活性剤を容器に投入し、水で容器を満たす。 - 特許庁

The N-alkoxycarbonylamino acid crystal with a chemical purity of at least 99.8% is produced by adding a basic compound to an aqueous N-alkoxycarbonylamino acid solution before the recovery process, thereby holding the pH of the solution at higher than that of the solution before the addition and at lower than 14.例文帳に追加

回収工程前のＮ−アルコキシカルボニルアミノ酸水溶液に塩基性化合物を加えて、該水溶液のｐＨよりも高く、且つｐＨ１４未満に保持してＮ−アルコキシカルボニルアミノ酸結晶を製造し、化学純度が９９．８％以上であるＮ−アルコキシカルボニルアミノ酸結晶を得る。 - 特許庁

To provide a derivative of an SAMe methyl donor or of the other methyl donor, and to obtain the salification necessary in the case of SAMe to guarantee chemical stability to a product without using any xenobiotic counter-ions by means of an inexpensive process that is easy to carry out.例文帳に追加

ＳＡＭｅメチル供与体の誘導体又は上記の他のメチル供与体の誘導体を提供することであって、ＳＡＭｅの場合、生成物の化学的安定性を保証する必要のある塩形成を、生体異物であるカウンターイオンを用いずに、実施しやすい安価なプロセスによって得ること。 - 特許庁

Liquid is in turn sprayed and injected from each of nozzles 1 (1a1f), 2 (2a-2b) disposed in a treatment room 30 onto the specimen 9, while fixing the specimen 9 at a mechanism for holding specimen 11, thereby carrying out the surface treating process including the chemical treating for the specimen 9.例文帳に追加

試料保持機構１１に試料９を固定したまま、処理室３０に設けられたそれぞれのノズル１（１ａ〜１ｆ）、２（２ａ〜２ｂ）から試料９に対して液体を順次噴霧又は噴射することによって、試料９に化学処理を含む表面処理を行なう。 - 特許庁

To provide a low-cost, and safe and sure feeding and managing method for preventing a wrong feeding and double feeding in a work for feeding the same materials to at least biserial devices in a manufacturing process using a chemical reaction or the like, and to provide a device therefor.例文帳に追加

本発明は化学反応等を用いた製造工程の少なくとも二系列の装置に同一原料の仕込みを行う作業において、勘違い仕込みや二重仕込みを防止するための低コストで、かつ安全確実な仕込管理方法とその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

By repeatedly performing the process for a plurality of times (S_9), CVD (Chemical Vapor Deposition) reaction occurs between the former gas adsorbed on the surface of the substrate and the other gas introduced later, thus a barrier film grows inside a contact hole in a conformal way, and the barrier film having a satisfactory step coverage can be obtained.例文帳に追加

この工程を複数回繰り返して行うと(Ｓ_9)、基板表面に吸着された一方のガスと、後から導入された他方のガスとの間でＣＶＤ反応が生じるので、コンタクトホール内にバリア膜がコンフォーマルに成長し、ステップカバレージのよいバリア膜を得ることができる。 - 特許庁

To provide a crystalline organic thin film obtained using particular compounds showing solubility suitable for production of elements in a solution process and also showing excellent semiconductor characteristic with higher chemical stability and semiconductor operation stability after formation of film and also provide a producing method of the crystalline organic thin film.例文帳に追加

溶液プロセスでの素子作製に適した溶解性を有しながら、成膜後に化学的安定性および半導体動作安定性が高く良好な半導体特性を示す、特定の化合物を用いて得られる結晶性有機薄膜、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cutting tool insert coated by the chemical vapor deposition method and equipped with a TiC_xN_y layer having a low tensile stress of 10 to 300 MPa and an αAl_2O_3 layer having a high surface smoothness of 0.1 μm or less when measured in the inter-atomic force microscopic process.例文帳に追加

本発明は、１０〜３００ＭＰａの低引張応力を備えたＴｉＣ_ｘＮ_ｙ層と、原子間力顕微鏡技法によって測定したときに０．１μｍ以下の高表面平滑度を備えたαＡｌ_２Ｏ_３層と、を有する化学蒸着法で被覆した切削工具インサートに関する。 - 特許庁

This invention relates to a device for chemical and mechanical polishing of the boundary of a semiconductor device, including a protruding residual topography in a peripheral region of a substrate resulting from a layer transfer process based on an ion implantation step, a bonding step and a detachment step, such as a Smart-Cut (R) method.例文帳に追加

本発明は、スマート・カット（登録商標）法のようなイオン注入ステップ、ボンディング・ステップ及び剥離ステップに基づく層転写プロセスによって生じる基板の周辺領域に隆起残余トポグラフィーを備える半導体装置の境界の化学的機械的研磨装置に関する。 - 特許庁

The cover glass for flat panel displays is obtained by chemically strengthening glass obtained by a fusion process, in which the glass before chemical strengthening does not contain defects having a particle size of ≥40 μm, and the cover glass has internal tensile stress of ≥30 MPa and a thickness of ≤1.5 mm.例文帳に追加

フュージョン法により得られたガラスを化学強化して得られるフラットパネルディスプレイ用カバーガラスであって、化学強化前のガラスにおける粒子径が４０μｍ以上の欠点を含まず、内部引張り応力が３０ＭＰａ以上、且つ厚さが１．５ｍｍ以下であるフラットパネルディスプレイ用カバーガラス。 - 特許庁

To provide a device for processing a substrate having a plurality of processing units for processing a substrate to be processed with the use of a processing liquid capable of supplying the processing liquid with a chemical included in an appropriate concentration corresponding to the process of the substrate to be processed in the processing units.例文帳に追加

処理液を用いて被処理基板を処理する複数の処理ユニットを備えた基板処理装置であって、各処理ユニットへ、当該処理ユニットにおける被処理基板の処理に応じた適切な濃度で一つの薬液種が含まれた処理液が供給され得る基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solar cell, by which contact resistance of a light-receiving surface-side electrode to a semiconductor substrate reliably reduced without performing a complex process such as a chemical treatment using an acid and without causing damage of the internal structure of the solar cell.例文帳に追加

酸による化学処理などの煩雑な工程を実施することなく、かつ太陽電池セルの内部構造の損傷を引き起こすことなく、受光面側電極の半導体基板に対する接触抵抗を確実に低めることを可能とする太陽電池セルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress chemical cost when carrying out the dewatering treatment of sludge generated in a biological treatment process and the like of various kinds of industrial wastewater using an electroosmotic dewatering device, and to carry out efficient electroosmosis dewatering treatment without requiring additional equipment, such as a dissolving tank and heating equipment, and additional energy.例文帳に追加

各種産業排水の生物処理過程等で発生する汚泥を電気浸透脱水装置により脱水処理するに当たり、薬剤コストを抑え、また、溶解槽や加温設備等の付加設備や付加エネルギーを必要とすることなく、効率的な電気浸透脱水処理を行う。 - 特許庁

To provide a recycling treatment apparatus and a recycling treatment method which permit pyrolysis of malodorous components or chemical substances harmful to men and beasts emitted from organic waste materials containing a large volume of organic materials in a process for re-burning a dry distillation gas obtained by dry-distilling waste materials or the like.例文帳に追加

廃材等を乾留して得られる乾留ガスを再燃焼させる過程で、有機物を多量に含む有機廃材から放たれる悪臭成分、又は人畜有害な化学物質の熱分解を行える再生化処理装置、及び再生化処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal polishing liquid capable of obtaining a high polishing speed when polishing a polishing target (wafer) in a semiconductor device manufacturing process and capable of suppressing variation in the polishing speed of the metal polishing liquid resulting from the lapse of time and to provide a chemical mechanical polishing method using the metal polishing liquid.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程において、被研磨体（ウエハ）を研磨する際に、高い研磨速度が得られ、且つ、金属用研磨液の経時による研磨速度の変動が抑制された金属用研磨液、及びそれを用いた化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁

The steel sheet having such characteristics is produced by plating the steel sheet with a plating bath having a desired chemical composition, rapidly cooling with a cooling speed of 10 to 50°C/s or subjecting the plated steel sheet to a process for spraying a zinc powder onto the plated layer, and subjecting to a post heat treatment comprising keeping at 130 to 350°C for at least 10 s.例文帳に追加

この鋼板は、所望の化学組成のめっき浴で溶融めっきした後、１０〜５０℃／秒で急速冷却するかハーティ処理を施して冷却した後、１３０〜３５０℃で１０秒以上保持する後熱処理を施すことで容易に製造できる。 - 特許庁