「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

It further comprises, when a thicker insulating film is required, a process of forming a second insulating film (20) on the first insulating film (18) with a chemical vapor phase deposition method having a high film deposition speed.例文帳に追加

さらに、より厚い絶縁膜を形成する必要がある場合には、上記第１の絶縁膜（１８）上に、成膜速度の大きい化学的気相堆積法によって第２の絶縁膜（２０）を形成する工程を有する。 - 特許庁

The process from the step of cleaning with the first chemical liquid through the step of applying the application liquid is performed in the same processing room such that the workpiece maintains the state in which the liquids are held on the pattern.例文帳に追加

前記第１の薬液による洗浄から前記塗布液の塗布までを、前記被加工物が前記パターン間で液体を保持した状態を維持するように同一の処理室内で実施することを特徴とする。 - 特許庁

The method includes the process in which, after forming a fluid polymerized film into a gap by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method, an in-situ treatment to convert the film to a dielectric material is performed.例文帳に追加

間隙に流動性重合膜をプラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）法によって形成した後で、当該膜を誘電材料に変換するためのインサイチュ（ｉｎ−ｓｉｔｕ）処理を実行することを含む。 - 特許庁

This light-emitting device has the fluorescent substance 21 of which the surface is covered with a covering material 22 having quality different from that of the fluorescent material by a chemical vapor-phase reaction process, wherein any one of a metal oxide, a metal nitride, and a metal oxynitride is used as the covering material.例文帳に追加

蛍光体２１の表面を、化学気相反応法によって蛍光体と材質の異なる被覆材２２で被覆し、被覆材は金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかである。 - 特許庁

To obtain an inexpensive plastic molding product satisfying fixed strength conditions of plastic molding product, not eluting an exogenous internal secretion disturbance chemical substance in a degradation process, readily degradable under a natural environment.例文帳に追加

プラスチック成形品の所定の強度条件を満足し、かつ安価で、分解過程で外因性内分泌攪乱化学物質を溶出することがなく、自然環境下で容易に分解するプラスチック成形品を提供する。 - 特許庁

To provide a wafer with a tapered edge of an improved manufacturing yield for film forming in a semiconductor manufacturing process, by chemical vapor deposition (CVD), impurity diffusion, annealing, epitaxial growth, or other processes.例文帳に追加

半導体製造工程に於いてウェーハに化学的気相成長（ＣＶＤ）、不純物拡散、アニール、エピタキシャル成長、その他の処理を成膜する場合、製造歩留まりを向上させるエッジがテーパー状のウェーハを提供する。 - 特許庁

Because a factor for adjusting the position exposed to the liquid chemical sprayed on the substrate is increased by one, the conditions in the production process of a large-sized substrate are fixed in a short time and the uniform treatment is attained.例文帳に追加

基板に対してスプレーした薬液の当たる位置を調節するファクターが一つ増えるので、特に大型基板の製造工程における条件出しを短時間で行え、且つ均一な処理が可能になる。 - 特許庁

To provide an analysis technology for nondestructively and noncontactly analyzing a changing process of various chemical reactions progressing in a test object, and identifying a property of the test object based on an analysis result.例文帳に追加

被検体中で進行している各種化学反応の変化過程を非破壊、非接触で分析することができ、その分析結果に基づいて被検体の性質を特定することができる分析技術を提供する。 - 特許庁

In the base material production process, the base material 2 comprising the aluminum alloy having surface roughness Ra of 0.001-0.05 μm is produced by one of transfer by rolling, chemical polishing, electrolytic polishing and mechanical polishing.例文帳に追加

基材作製工程においては、圧延による転写、化学研磨、電解研磨、又は機械研磨のいずれかにより、表面粗さＲａが０．００１〜０．０５μｍのアルミニウム合金からなる基材２を作製する。 - 特許庁

In the cycle purge process, the parts of a gas supply system 35 and residual moisture inside piping are removed, and the chemical reaction of digital cellular system(DCS) gas and furnace throat part metal part 41 which increase corrosiveness at reaction with moisture.例文帳に追加

サイクルパージ工程では、ガス供給系３５の部品及び配管内部の残留水分を除去し、水分との反応で腐食性を増すＤＣＳガスと炉口部金属部品４１との化学反応を抑制する。 - 特許庁

The environmental influence of a product is evaluated under the condition that the chemical substance in the product is all discharged to the environment in its disposing process.例文帳に追加

本発明の有害性評価手法では、製品中の化学物質は、該製品の廃棄処分プロセスにおいて、そのまま全量が環境中に放出されるという条件のもとに、該製品の環境影響評価を実施する。 - 特許庁

The polishing solution for the metal is used for chemical mechanical polishing in a semiconductor device manufacturing process, and contains a compound indicated by general formula (1), an oxidant, a complex ring compound, and organic acid.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨に用いられ、下記一般式（１）で表される化合物、酸化剤、複素芳香環化合物、および、有機酸を含有することを特徴とする金属用研磨液。 - 特許庁

To provide an optical antireflection film with a silicon oxide film which ensures adhesion to a synthetic resin substrate, environmental resistance, wear and chemical resistances and has suitable optical characteristics, and to provide a process for forming the same.例文帳に追加

合成樹脂から成る基材との密着性，耐環境性，耐磨耗性，耐薬品性を確保し、且つ、好適な光学特性を有するケイ素酸化物の膜を有する光学用反射防止膜、及びその成膜方法の提供。 - 特許庁

To provide thread for insulating coating, capable of restraining chemical reaction between an oxide wire rod and an insulating layer in a heat treatment process, and an oxide superconductive wire rod and an oxide superconductive coil coated using the yarn.例文帳に追加

熱処理プロセスにおける酸化物線材と絶縁層との化学反応を抑制できる絶縁被覆用糸、並びにそれを用いて被覆された酸化物超電導線材及び酸化物超電導コイルを提供する。 - 特許庁

After growing a silicon carbide single crystal 40 on a seed crystal 13 fixed to a seed crystal holding member 22 used in a sublimation method, the seed crystal holding member 22 is removed by using a chemical process.例文帳に追加

昇華法において用いる種結晶保持部材２２に固着された種結晶１３に炭化珪素単結晶４０を成長させた後、化学的方法を用いて種結晶保持部材２２を除去する。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition having improved flowability and measuring stability during a molding process and gives a product showing improved impact resistance, heat resistance, chemical resistance, fatigue property and anisotropy and to provide a formed item thereof.例文帳に追加

成形時の流動性、計量安定性および成形品の耐衝撃特性、耐熱特性、耐薬品性、疲労特性、異方性が改良された熱可塑性樹脂組成物およびその成形品取得を課題とする。 - 特許庁

To provide a new composite polymer having mixed structures in molecular level by taking in a plurality of kinds of polymers having different chemical structures as target materials with a process using a radio frequency sputtering method.例文帳に追加

異なる化学構造を持つ複数種類のポリマーをターゲット材料とすることで、高周波スパッタ法による一つのプロセスによって、分子レベルで構造が混合された新たな複合ポリマー材料を提供する。 - 特許庁

To provide a stable three-dimensional microfabrication method in the precision of a nanometer order without using a complicated chemical machining process such as lithography and also without being accompanied with the generation of heat as shown in conventional laser beam machining.例文帳に追加

リソグラフィーのような複雑で化学的な加工プロセスを使用することなく、且つ従来のレーザー加工に見られた熱の発生を伴わないナノメートルオーダー精度の、かつ安定した３次元微細加工方法を提供する。 - 特許庁

In the case of a novel individual compound with a specified structure, the structural formula proven (determined) with known methods, physico-chemical constants and a description of the process of creation of the compound shall be provided. 例文帳に追加

特定の構造を有する新規の単体の化合物の場合は，既知の手法により証明(確認)された構造式，当該化合物の物理化学的定数及び生成の方法の記述を記載するものとする。 - 特許庁

To provide a tube-type circulation reactor or a chemical reaction process, wherein the contact area between reaction substrates immediately after unification is increased and a decrease in the yield of a reaction product due to uneven concentrations is suppressed.例文帳に追加

合流直後の反応基質間の接触面積を増やし、且つ濃度不均一による反応生成物の収率低下が抑制された管型流通式反応装置または化学反応プロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a preformed material (roughly formed material) having excellent cutting workability while keeping various properties such as heat- resistance, chemical resistance and electrical characteristics comparable or superior to those of fluororesin and provide a process for producing a cut- worked product.例文帳に追加

フッ素樹脂と同程度以上の耐熱性、耐薬品性、電気特性などの諸特性を有しながら、特に切削加工性に優れた予備成形体（粗成形品）および切削加工品の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a case of performing a process of coating the glass substrate G with chemical including a solvent, a rate of diffusion of the solvent to an upper part is decreased by the cleaned air supplied toward the substantially horizontal direction.例文帳に追加

またガラス基板Ｇに溶剤を含んだ薬液を塗布する工程が行われた場合には、ほぼ水平方向に向けて供給した清浄空気によって上部に溶剤が拡散する割合を減少する。 - 特許庁

Thereby, the provided method for granulating matte can overcome a bursting phenomenon in the water-hardening step, prevents a chemical reaction in the water-hardening step, reduces noise, and besides, can be easily operated in a simple process.例文帳に追加

これによって水焼入れ工程中の爆破現象を克服でき、水焼入れ過程中の化学反応を阻止し、騒音が低減されて、しかもプロセスが簡単で、容易に操作できるマット粒状化方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method for preparing an organosilicon compound, capable of simplifying the chemical reaction and process to be applied, capable of controlling a branching coefficient of the compound, and capable of minimizing a urethane group content therein when an organosilicon prepolymer having reactive silicon-alkoxyl end groups is prepared.例文帳に追加

反応性ケイ素-アルコキシ末端基を有する有機ケイ素プレポリマーの調製方法において、化学反応や工程の単純化、枝分かれ度の制御、ウレタン基含有量最小化を達成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a polyimide containing an aliphatic moiety which inhibits the viscosity increase during chemical imidization and is suitable for mass production.例文帳に追加

脂肪族を含有する可溶性ポリイミドを化学的イミド化によって得る際に、均一な光学特性を有する脂肪族含有ポリイミド溶液およびポリイミド樹脂を、特殊な製造装置を用いることなく量産することができる。 - 特許庁

To provide a production method of black type sintered quarts, without becoming discolored at firing and/or by the exposure at high temperature and with good feature in chemical resistance, which enables to ease process control at lower production cost.例文帳に追加

焼成においても、また高温の環境に曝されても変色せず、耐薬品性に優れているばかりでなく、低い製造コストでプロセス管理を容易とすることのできる黒色系焼結石英を提供する。 - 特許庁

To provide a polyphenylsulfone porous membrane excellent in a pure water permeation performance, a fractioning performance, strength, heat resistance, a low water absorption property and chemical resistance and further excellent in a process controlling property, a cost efficiency and a pore formation property, and to provide its production method.例文帳に追加

純水透過性能や分画性能、強度、耐熱性、低吸水性、耐薬品性に優れ、さらに工程制御性、コスト性、孔形成性に優れたポリフェニルスルホン多孔膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The polishing solution for metal used for chemical mechanical polishing in the wiring process of a semiconductor device contains (A) an oxidizing agent, (B) an organic acid, (C) abrasive grains and (D) a trivalent iron compound in the range of 0.1 ppb-50 ppm.例文帳に追加

（Ａ）酸化剤、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）砥粒、及び（Ｄ）三価の鉄化合物を０．１ｐｐｂから５０ｐｐｍの範囲で含む、半導体デバイスの配線工程における化学的機械的研磨に用いられる金属用研磨液。 - 特許庁

To provide an equipment and a method for cleaning process chemical substance pipelines, containers and associated equipments which eliminate the need for customers to handle solvents and eliminate the need for the customers to use solvent disposal facilities.例文帳に追加

顧客が溶剤を取り扱う必要がなく、且つ顧客が溶剤廃棄設備を使う必要をなくす、プロセス化学物質配給管路、容器及び関連装置をクリーニングするための装置と方法を提供すること。 - 特許庁

The process comprises hydrogenation of the β-ketoester represented by chemical formula (1) in the presence of hydrogen gas of <40X10^5 Pa, a halide and a ruthenium hydrogenation catalyst containing a chiral substituted biphenyl phosphorous ligand.例文帳に追加

約４０（×１０^5Ｐａ）又はそれ未満の圧力の水素ガス，並びにハライド，及びキラル置換ビフェニル亜リンリガンドを含むルテニウム水素化触媒の存在下に、式（１）で示されるβ−ケトエステルを水素化する方法。 - 特許庁

To provide a method for pretreating a special copper alloy material in which smut generated by chemical polishing or an Ag coating stripped from Cu base can be removed surely in the solder plating process of semiconductor.例文帳に追加

半導体の半田メッキ工程において、化学研磨処理により発生したスマットやＣｕ素地から剥離したＡｇ被膜を確実に除去することの出来る特殊銅合金材の前処理方法を提供する。 - 特許庁

The substrate chemical processing sections 31-34 supply the processing liquid to the substrate W directing the surface downward under horizontal attitude from below and process the circumferential edge part on the lower surface (surface) and upper surface (rear surface) selectively.例文帳に追加

基板薬液処理部３１〜３４は、表面を下方に向けた水平姿勢の基板Ｗに対して、下方から処理液を供給し、その下面（表面）および上面（裏面）の周縁部を選択的に処理する。 - 特許庁

To efficiently and economically perform detoxicating decomposing treatment to a warhead member or the surrounding soil contaminated by an arsenic-containing harmful compound or a harmful organic compound for chemical weapons by a simple process in a non-exhausted state.例文帳に追加

砒素を含む有害化合物もしくは化学兵器用有害有機化合物で汚染された弾頭部材や周囲の土壌を効率的にかつ簡素なプロセスで経済的に無排気で無害化分解処理する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an aluminum nitride thin film improved in surface flatness and chemical and electrical properties within a thin film even at low process temperatures by applying nitrogen plasma treatment to an aluminum nitride thin film.例文帳に追加

窒化アルミニウム薄膜を窒素プラズマ処理して、低い工程温度でも表面平坦度と薄膜内の化学的、電気的特性が大きく向上された窒化アルミニウム薄膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁

NUCLEIC ACID AMPLIFICATION REACTION APPARATUS, CHEMICAL CHAIN REACTION APPARATUS, APPARATUS FOR SIMULTANEOUSLY CARRYING OUT NUCLEIC ACID AMPLIFICATION REACTION INCLUDING DENATURATION, ANNEALING AND EXTENSION PROCESS AND METHOD FOR CARRYING OUT NUCLEIC ACID AMPLIFICATION REACTION例文帳に追加

核酸増幅反応を実施する装置、化学連鎖反応を実施する装置、変性、アニーリングおよびエクステンションプロセスを包含する核酸増幅反応を同時に実施する装置、ならびに核酸増幅反応を実施する方法 - 特許庁

To provide active oxygen erasing agent or aldose reductase inhibitor free from troubles such as tachyphylaxis or various side effects or the like observed in the case of medicines synthesized in conventional chemical process.例文帳に追加

従来の化学的手段により合成された薬剤の場合にみられたタキフィラキシーや種々の副作用等の問題のない、活性酸素消去作用剤またはアルドースリダクターゼ阻害作用剤を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a magnetic recording disk capable of preventing ripples from being generated on the liquid surface of a liquid chemical when performing an immersion process to a substrate for the magnetic recording disk, and an immersion device for manufacturing the magnetic recording disk.例文帳に追加

磁気記録ディスク用基板に浸漬工程を行う際、薬液の液面に波紋が発生するのを防止可能な磁気記録ディスクの製造方法、および磁気記録ディスク製造用浸漬装置を提案すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the silicon carbide monocrystalline substrate includes: a process (A) of preparing a silicon carbide monocrystalline substrate having a main surface that is mechanically polished; a process (B) of chemically mechanically polishing the main surface of the silicon carbide monocrystalline substrate; and a process (C) of evaluating an alteration layer that is formed by the chemical mechanical polishing by spectral ellipsometry.例文帳に追加

本発明の炭化珪素単結晶基板の製造方法は、機械研磨が施された主面を有する炭化珪素単結晶基板を用意する工程（Ａ）と、前記炭化珪素単結晶基板の前記主面に化学機械研磨を施す工程（Ｂ）と、前記化学機械研磨によって形成される変質層を、分光エリプソメトリによって評価する工程（Ｃ）と、を包含する。 - 特許庁

The soil purifying method includes a first process for performing the decomposition treatment of the oil component by chemical oxidation or microbial metabolism with respect to a target polluted region including soil polluted with the oil component and a second process for performing the inclusion treatment of the residual oil component using a treatment liquid containing an inclusion agent with respect to the target pollution region after the first process.例文帳に追加

本発明の土壌の浄化方法は、油分により汚染された土壌を含む対象汚染領域について、化学酸化又は微生物の代謝により油分の分解処理を行う第１工程と、第１工程後の対象汚染領域について、包接剤を含有する処理液により残存油分の包接処理を行う第２工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a new microorganism having an excellent solubilizing ability to solubilize various kinds of organic solid materials such as biological sludge, e.g. raw sludge and excessive sludge discharged from a sewage treatment process of a sewage treatment plant, a night soil treatment plant, etc., or organic sludge discharged from a production process or a wastewater treatment process of a food factory, a chemical factory, etc.例文帳に追加

下水処理場、屎尿処理場などの下水処理プロセスから排出される生汚泥及び余剰汚泥等の生物性汚泥、或いは食品工場、化学工場などの製造プロセスまたは排水処理プロセスから排出される有機性汚泥等の各種の有機性固形物を可溶化する優れた可溶化能を有する新規微生物を提供することを課題とする。 - 特許庁

(3) Where the subject matter of a patent is a process to obtain a chemical or pharmaceutical substance protected by a patent in force and provided that the patent for the process represents considerable technical progress in comparison with the earlier patent, both the owner of the patent for the process and the owner of the patent for the product shall have the right to obtain a compulsory license for the patent of the other party.例文帳に追加

(3) 特許の主題が，現在有効な特許で保護されている化学又は医薬物質の製法である場合で，かつ，当該製法特許が先の特許と比較して著しい技術進歩をもたらす場合は，当該製法の特許権者及び製品の特許権者の双方は，相手方当事者の特許について強制ライセンスを取得する権利を有する。 - 特許庁

The simple and economical method of obtaining the recovered monomer with high purity comprises adding a reaction process provided with a process to remove impurities by a physical and chemical method, after a pretreatment process of removing fiber wastes judged other than polyester fibers by examination using a judging device and then improving handleability by applying pulverization and granulation to fiber wastes which pass several tests.例文帳に追加

判別装置による検査によりポリエステル以外の繊維屑と判定された繊維屑を排除し、該検査を通過した繊維屑に粉砕、造粒操作を施してハンドリング性を向上させる前処理工程の後に、物理的・化学的な手法により不純物を除去する工程を備えた反応工程を組み込むことで高純度の回収モノマーを簡便かつ経済的な方法で得る。 - 特許庁

The diamond film 2 is produced on the substrate 1 by a chemical vapor phase synthetic method after a process for preparing diamond powder containing cubic diamond and hexagonal diamond, a process for stirring the diamond powder in a liquid solvent and a process for seeding treatment of diamond on the surface of the substrate 1 in the diamond dispersed liquid in which diamond powder is stirred.例文帳に追加

ダイヤモンド膜２は、立方晶ダイヤモンドと六方晶ダイヤモンドとを含むダイヤモンド粉末を用意する工程と、ダイヤモンド粉末を液体溶媒中で撹拌する工程と、ダイヤモンド粉末を撹拌したダイヤモンド分散液中で基材１表面にダイヤモンドを種付け処理する工程とを備え、しかる後に基材１上に化学的気相合成法により製造される。 - 特許庁

The present invention provides a manufacturing method comprising: a film formation process which forms vapor phase synthesized diamond film 2 on a main surface of a silicon substrate 1 by a vapor phase deposition method; a routing process which forms a pattern on the vapor phase synthesized diamond film 2 using a laser; and a protrusion process which forms a protrusion on the routed vapor phase synthesized diamond film 2 by a reactive chemical dry etching.例文帳に追加

本発明は、シリコン基板１主面部に気相合成法によって気相合成ダイヤモンド膜２を成膜する成膜工程と、該気相合成ダイヤモンド膜２をレーザーによって外形を切り出す外形工程と、切り出した気相合成ダイヤモンド膜２に反応性化学ドライエッチングによって突起を形成する突起工程を経ることを特徴とするダイヤモンドプローブの製造方法である。 - 特許庁

The stopping method of a fuel cell, guiding hydrogen and air to an anode and a cathode, respectively, and generating power by chemical reaction of hydrogen and oxygen, comprises a process S12 of stopping supply of hydrogen to the anode, a process S20 of connecting the anode and the cathode and enabling them to conduct electricity through a load, and a process S24 of guiding the air to the anode.例文帳に追加

水素をアノードへ、空気をカソードへ導入することで水素と酸素との電気化学反応によって発電する燃料電池の停止方法であって、アノードへの水素供給を停止する工程Ｓ１２と、アノードとカソードとを負荷を介して接続し通電可能にする工程Ｓ２０と、アノードへ空気を導入する工程Ｓ２４とを有することを特徴とする。 - 特許庁