1153万例文収録!

「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Chemical Processの意味・解説 > Chemical Processに関連した英語例文

セーフサーチ:オフ

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

Chemical Processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1445



例文

The chemical substance decomposition method comprises a pretreatment process for immersing the substrate made of the light transmitting material in a first solvent containing the crosslinking agent, and a post-treatment process for immersing the substrate in a second solvent containing fullerene or the fullerene derivative.例文帳に追加

また、この製造方法は、架橋剤を含有する第1溶媒中に透光材料からなる基材を浸漬する前処理工程と、フラーレンまたはフラーレン誘導体を含有する第2溶媒中に前記基材を浸漬する後処理工程とを有する。 - 特許庁

The washing method of a filter membrane includes processes of: alkali treating of supplying an alkaline chemical 24 to raw water 11 for a given time and passing the raw water 11 supplied with the alkaline chemical 24 to the filter membrane 15 during the filtering operation; and neutralizing of supplying an acidic chemical 26 to the raw water 11 for a given time after the alkali treating process and passing the raw water 11 supplied with the acidic chemical 26 to the filter membrane 15.例文帳に追加

本発明の濾過膜の洗浄方法は、濾過処理運転中において、所定時間の間原水11にアルカリ性薬剤24を供給し、アルカリ性薬剤24が供給された原水11を濾過膜15に通水させるアルカリ処理工程と、アルカリ処理工程を行った後、所定時間の間原水11に酸性薬剤26を供給し、酸性薬剤26が供給された原水11を濾過膜15に通水させる中和処理工程とを備える。 - 特許庁

In the composition of the tin oxide particles by using a conventional inorganic salt chemical process, since the carbon particles are mixed prior to heat-treatment such as a drying process 20 and a calcination process 22 or the like, the formation of coarse secondary particles by binding of tin hydroxide particles each other is occurred, but is suitably restricted by the carbon particles.例文帳に追加

そのため、従来の無機塩化学プロセスを用いた酸化錫微粒子の合成において、乾燥工程20および仮焼工程22等の加熱処理に先立ってカーボン微粒子が混合されることから、水酸化錫微粒子が相互に結合させられて粗大な二次粒子を構成することがそのカーボン微粒子によって好適に抑制される。 - 特許庁

In a manufacturing method of glass substrate for magnetic disk including a process to produce a glass disk by cutting a cylindrical glass base material 3 vertically toward a central axis of the glass base material 3, cutting process is performed after carrying out polishing or mirror processing of a side face of the glass base material 3, and chemical reinforcement process of the side face of the glass base material 3.例文帳に追加

円柱状のガラス母材3をこのガラス母材3の中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス母材3の側面の研磨、または、鏡面加工を行い、ガラス母材3の側面の化学強化処理を行ってから、切断処理を行う。 - 特許庁

例文

The treatment method of the waste water containing the sulfur-based COD component includes: a non chemical feed type solid-liquid separation process of separating the waste water into a solid content and first treated water before oxidation treatment; and an oxidation treatment process of performing the oxidation treatment to the first treated water obtained by the solid-liquid separation process and attaining second treated water.例文帳に追加

本発明の硫黄系COD成分を含有する廃水の処理方法は、酸化処理の前に、前記廃水を固形分と第1処理水とに分離する無薬注方式の固液分離工程と、該固液分離工程により得られた第1処理水に前記酸化処理を行って第2処理水とする酸化処理工程とを具えることを特徴とする。 - 特許庁


例文

When a dielectric thin film is formed on a substrate by a chemical vapor growth method, a method of manufacturing a semiconductor device comprises the process for depositing a part of the dielectric thin film on the substrate, the process for heat-treating this dielectric thin film and moreover, the process for depositing the dielectric thin film at a deposition rate higher than that of the dielectric thin film.例文帳に追加

基板上に、化学気相成長法により誘電体薄膜を形成するときに、基板上に誘電体薄膜の一部を堆積する工程と、この誘電体薄膜を熱処理する工程と、さらに上記誘電体薄膜の堆積速度より速い堆積速度で、誘電体薄膜の堆積を行う工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multi-layered thin film structure having different physical properties on a base material using a plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process.例文帳に追加

プラズマ化学気相成長(Plasma−Enhanced Chemical Vapor Deposition:PECVD)工程で基材上に相異なる物性の多層薄膜構造を製造する方法を提供する。 - 特許庁

At the above process, the chemical added in the softened water reacts on the feed water line 12, the stem boiler 31, and the condensate piping 7 to suppress corrosion thereof and the occurrence of scales.例文帳に追加

軟水中に添加された薬剤は、以上の過程において給水路12、蒸気ボイラ3a等および復水配管7に作用し、これらの腐食を抑制すると共にスケールの発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a cover pad used for covering plural reaction wells which open toward upward and are constituted in a planar form for carrying out a chemical and/or microbiological reaction such as PCR process and the like.例文帳に追加

例えばPCRプロセスなどの化学及び/または微生物反応の実行に設けられる板状体に構成された、上方表面に開いた複数の反応用くぼみを覆うのに用いるカバーパッド。 - 特許庁

例文

Consequently, when forming the gate insulating film 200, including the chemical oxide film 100 in the insulating film forming process, wherein low-temperature processings are carried out, insulation deterioration of the gate insulating film can be prevented.例文帳に追加

これにより、低温処理を行なう絶縁膜形成工程において、ケミカル酸化膜100を包含したゲート絶縁膜200を形成するときに、ゲート絶縁膜の絶縁劣化を防止することができる。 - 特許庁

例文

Neither the internal wall of a vacuum container 5 of a vapor- phase chemical reaction device 1 which forms a film nor the surface of a shower head 2 which faces a wafer 4 changes in state, so the reproducibility of a process of film forming can be maintained.例文帳に追加

成膜を行う気相化学反応装置1の真空容器5の内壁及びシャワーヘッド2のウェハ4と対向する面の状態が変化しないため、成膜のプロセスの再現性を維持できる。 - 特許庁

To provide a method for effectively washing a microfiltration (MF) or ultrafiltration (UF) membrane module in a water treatment process in a manner capable of enhancing a water recovery rate and of preventing the chemical deterioration of a reverse osmosis membrane and to provide a fresh water generator.例文帳に追加

水処理プロセスにおいて、水回収率が高く、逆浸透膜の化学的劣化を防止し、効果的にMF膜またはUF膜モジュールを洗浄する方法、および造水装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which becomes a cured product excellent in heat resistance, mechanical properties, chemical resistance and adhesion to a substrate, can be cured in a low-temperature process, and exhibits excellent sensitivity and resolution.例文帳に追加

耐熱性、機械特性、化学薬品耐性、基板密着性に優れた硬化物となり、低温プロセスで硬化可能な、感度及び解像度に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Afterwards, the vias are filled with low dielectric constant materials 60 serving as sacrificial layers in a spin-coating process followed by using a chemical mechanical polishing or etching back to remove the excess low dielectric constant material.例文帳に追加

その後、ビアはスピン塗布工程で犠牲膜として働く低誘電率材料60で充填され、さらに化学機械的研磨またはエッチバックを用いて低誘電率材料の余分な部分が除去される。 - 特許庁

To obtain a radiation sensitive resin composition having a sufficient process margin and being capable of providing a hardened matter having heat resistance, chemical resistance, transparency, and hardness necessary to serve as a layer insulator or a spacer.例文帳に追加

十分なプロセスマージンを有し、かつ、層間絶縁膜、スペーサーとして必要な耐熱性、耐薬品性、透明性、硬度を併せ持つ硬化物を与えうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method with which the acidity of an organic antireflective film can easily be evaluated in development of a process of forming an organic antireflective film and forming a fine resist pattern using chemical amplification resist.例文帳に追加

有機反射防止膜を形成し、化学増幅レジストを使用した微細レジストパターン形成のプロセス開発において、簡便に有機反射防止膜の酸性度を評価することができる方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a method capable of decomposing dioxins under mild conditions excellent as industrial process without needs of any special reacting conditions or chemical agents.例文帳に追加

特別な反応条件あるいは特別な薬品類を使用することなくダイオキシン類を温和な条件で工業的に優れた方法で分解することが可能なダイオキシン類の分解方法の提供。 - 特許庁

To provide a raw material for chemical vapor deposition which allows a film to be deposited at a low temperature of 300-500°C and which contains an organic silicon-containing compound providing a process having good reactivity.例文帳に追加

300〜500℃といった低温での成膜が可能であり、さらに、反応性が良好なプロセスを与える有機シリコン含有化合物を含有してなる化学気相成長用原料を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an S/O suspension which has a wide range of choice of an oil phase, is easy to increase the concentration of a water soluble solid chemical agent, and does not need a removal process of an organic solvent.例文帳に追加

、油相の選択の幅が広く、水溶性固体薬剤の濃度を高めることが容易で、有機溶媒の除去工程を必要としないS/Oサスペンションの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a copper thin film by a chemical vapor deposition process in which the consistent film thickness distribution can be obtained between substrates after the film deposition.例文帳に追加

化学蒸着方法による銅薄膜の形成方法及び装置において、成膜処理後の基板間における安定した膜厚分布を得ることのできる銅薄膜形成方法及び装置を提案する。 - 特許庁

The aluminum nitride film 103 is a CVD film deposited by a chemical deposition process, and, in which relative density is 50 to <98% and hardness is 2 to 10 GPa.例文帳に追加

窒化アルミニウム膜103は、化学気相成長法により成膜されたCVD膜であり、相対密度が50%以上98%未満であり、硬度は2GPa以上10GPa以下である。 - 特許庁

To provide a hot-dip Zn-Al based alloy plated steel sheet (GF) called galfan, and having a superior blackening resistance without causing appearance defects or process-related deterioration even if subjected to a chromate-free chemical conversion treatment.例文帳に追加

外観不良や加工性の劣化を招くことなく、クロメートフリーの化成処理を行っても優れた耐黒変性を有するガルファンと呼ばれる溶融Zn-Al系合金めっき鋼板(GF)を提供する。 - 特許庁

To provide a method which can facilitate a pure water rinse confirmation process work after an ultrapure water production supply device is washed with a chemical solution and can do the washing efficiently in a short time.例文帳に追加

超純水製造供給装置の薬液洗浄後の純水リンスの確認工程作業を容易にすることができ、洗浄を短時間で効率的に行うことができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a homogeneously copolymerized one-component polyurethane resin composition excellent in process response and in chemical resistance and a method for manufacturing the same, and to provide a method for manufacturing a coating material containing the resin composition.例文帳に追加

処理反応及び耐薬品性が優れ、均一に共重合された1液型ポリウレタン樹脂組成物、その製造方法、及びこの樹脂組成物を含む塗料の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device with which the uneven plane of a laminated substrate is ideally planarized by a chemical mechanical polishing method in a process required for laminating many substrates.例文帳に追加

多層基板の積層の必要な工程において、化学機械的研磨方法を用いて積層基板平面の凹凸を理想的に平坦にさせる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic analysis device and an automatic analysis method whereby the presence or absence of abnormalities is determined with high accuracy from reaction process data obtained during measurement of concentrations of chemical components and activity ratios of enzyme.例文帳に追加

化学成分の濃度や酵素の活性度を測定する際に得られる反応過程データから,異常の有無を高精度に判定する自動分析装置および自動分析方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the contamination to conveyance carriers, facilities and other manufacturing process equipments, etc., by cleaning and removing the deposited substances within the same facility as the facility to implement chemical etching for the purpose of making display panels thinner.例文帳に追加

表示パネルを薄型化する為の化学エッチングを実施する設備と同じ設備内で付着物質を洗浄除去し、搬送キャリアや他の製造工程の設備などに対する汚染を防ぐ。 - 特許庁

To optimize the process for loading a fiber included in a pulp to be filled with calcium carbonate by a chemical reaction more, and especially to obtain the highest possible cost effectiveness and the highest possible quality of the pulp.例文帳に追加

化学反応により、パルプに含まれる繊維に炭酸カルシウムを充填するプロセスをさらに最適化すること、特に、可能な限り高い費用対効果と可能な限り高いパルプの品質を得ることである。 - 特許庁

The utilizing process of coal ash comprises supplying a kneading agent 6 obtained by mixing cement, a solidification agent comprised of a nonionic type polymer, a chemical agent comprised of polyacrylamide as a main ingredient and water with the coal ash to a vacuum extrusion molding machine 10.例文帳に追加

石炭灰に、セメントと、非イオン系高分子から成る固化剤と、ポリアクリルアミドを主成分とする薬剤と、水と、を混ぜ合わせた混練剤6を、真空押出成形機10に供給する。 - 特許庁

To provide an apparatus in which any of controls of heat, air suction speed and gas atmosphere can be operated and a manufacturing process of a sintered ore is analyzed from viewpoints of chemical reactions, using a small amount of a sintering raw material.例文帳に追加

熱、空気吸引速度、ガス雰囲気の制御のいずれも操作可能で、少量の焼結原料により化学反応の観点から焼結鉱製造過程を解析する装置を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of a diffusion prevention film and a manufacturing method of a semiconductor device in which both prevention of variation in a threshold voltage due to diffusion of a threshold adjustment chemical element, etc. and simplification of a manufacturing process are achieved.例文帳に追加

拡散防止膜の形成方法及び半導体装置の製造方法に関し、閾値調整元素の拡散等による閾値電圧の変動の防止と製造工程の簡素化を両立する。 - 特許庁

To provide a chemical formulation which enables the effective removal of a residue following a resist ashing process, wherein there is no possibility of attacking and breaking a brittle structure to be left on a wafer.例文帳に追加

レジストアッシング工程に続いて残留物を効果的に除去する化学処方物であって、ウエハ上に残ることになる脆い構造を攻撃せずかつ分解するおそれのないものを提供すること。 - 特許庁

After that, for example, by a development process with chemical, or by carrying out heating, the radical initiator layer 31 and the area which is not polymerized in the red light-emitting material layer 14R are removed.例文帳に追加

そののち、例えば薬剤による現像処理、または加熱を行うことにより、ラジカル開始剤層31と、赤色発光材料層14Rのうち高分子化していない領域とを除去する。 - 特許庁

To provide a metal based corrosion resistant material which has extremely high reliability and is used for a vessel, a reactor or piping for a corrosive liquid such as strong acid used for a chemical process.例文帳に追加

本発明は、化学プロセスに使用する強酸などの腐食性液体の容器や反応器又は配管に使用する、非常に信頼性の高い金属ベースの耐食性材料を提供することである。 - 特許庁

To obtain an active energy ray curable resin composition excellent in heat resistance, water resistance, solvent resistance and chemical resistance and exhibiting remarkable stability in a process and having a high practicality.例文帳に追加

耐熱性、耐水性、耐溶剤性ならびに耐薬品性に優れ、かつ工程中での組成物の安定性が極めて良く、実用性の高い活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an ultrafine-diameter continuous fiber or nonwoven fabric which is made of an aramid polymer as a principal component excellent in heat resistance, flame retardancy, chemical resistance, and insulation, and to provide the process of producing the same with high productivity.例文帳に追加

耐熱性、難燃性、耐薬品性、絶縁性に優れたアラミドポリマーを主成分とする極細径繊維又は不織布を提供すること、及びその製造を生産性高く行う方法を提供する。 - 特許庁

To provide techniques further reducing dislocation density of a group III nitride semiconductor and significantly reducing the time required for a chemical lift-off process in manufacturing a self-support substrate and manufacturing a semiconductor element.例文帳に追加

III族窒化物半導体の転位密度の更なる低減と同時に、自立基板製造時および半導体素子製造時のケミカルリフトオフ所要時間の大幅な短縮が可能な手法を提供する。 - 特許庁

Further, the 2nd transparent conductive film 12 is selectively etched, so a wet etching process using chemical liquid to selectively etch the 2nd transparent conductive film 12 is added to prevent the 2nd transparent conductive film 12 from peeling.例文帳に追加

また、第2の透明導電性膜12を選択的にエッチングする薬液でのウェットエッチング処理を追加することにより、第2の透明導電性膜12の膜剥がれを防止することができる。 - 特許庁

To provide a silica layer having an excellent chemical resistance even when the silica layer is formed by a plasma enhanced CVD process and to provide an antireflection film utilizing this silica layer.例文帳に追加

プラズマCVD法により形成した場合であっても耐薬品性に優れているシリカ層を提供すること、及び当該シリカ層を利用した反射防止フィルムを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To develop a method for chemically synthesizing a galanthamine type alkaloid efficiently, more concretely, capable of extremely improving a chemical yield of an intramolecular coupling reaction being the most important in a synthetic process.例文帳に追加

ガランタミン型アルカロイド類の効率的な化学合成法の開発であり、より具体的には合成プロセス中最も重要な分子内カップリング反応の化学収率を大幅に向上させることである。 - 特許庁

A steel plate is treated chemically with a phosphate solution of pH 3-4.5 containing phosphate ions and nitrate ions as main components and 100-300 ppm of zinc ions (chemical treatment process).例文帳に追加

リン酸イオンおよび硝酸イオンを主成分とし、さらに、亜鉛イオンを100〜300ppm含有してなるpH3〜4.5のリン酸塩化成処理液で被塗物である鋼板を化成処理する(化成処理工程)。 - 特許庁

To provide a novel casting process for forming cast ferromagnetic alloys with desirable microstructures, and improved chemical homogeneity and ductility, for use as high PTF (pass-through flux) sputtering targets.例文帳に追加

望ましいミクロ組織、改善された化学的均質性及び延性を有する高PTFスパッタリングターゲットとして用いるための鋳造強磁性合金のための新規な鋳造法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique which, in the process of manufacturing a polyimide multilayer film, can attain efficient production even when the imidization is conducted by a chemical cure method and which can produce a high quality multilayer film.例文帳に追加

ポリイミドの多層フィルムを製造する過程で、化学キュア法によってイミド化を行っても、効率的な製造が可能であり、かつ高品質の多層フィルムを製造することが可能な技術を提供する。 - 特許庁

(1) Catalyst powder impregnated with electrolyte and fluororesin powder (State B) are crushed by a homogenizer or a chemical cutter to less than 0.1 μm particle size respectively (State C) in a crushing process 120.例文帳に追加

電解質を含浸させた触媒粉末とフッ素樹脂粉末(状態B)を、粉砕工程120においてホモジナイザーまたはケミカルカッターにより粉砕し、それぞれ0.1μm以下の粒径とする(状態C)。 - 特許庁

To provide a chemical palladium/gold plating film structure, a method for the production thereof, a palladium/gold plating film package structure bonded with a copper wire or a palladium/copper wire, and a packaging process thereof.例文帳に追加

本発明は、化学パラジウム/金めっき皮膜構造及びその製造方法、銅線またはパラジウム/銅線で接合されたパラジウム/金めっき皮膜パッケージ構造、及びそのパッケージプロセスを提供する。 - 特許庁

In the film forming process, film forming gas (containing SiH_2Cl_2 and NH_3) is supplied into a reaction furnace 1 accommodating a wafer 10 to form an Si_3N_4 film on the wafer 10 through heat CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

成膜工程では、ウェーハ10を収容した反応炉1内に成膜ガス(SiH_2Cl_2とNH_3とを含むガス)を供給して熱CVD法によりウェーハ10上にSi_3N_4膜を形成する。 - 特許庁

To provide a positive type chemical amplification system photosensitive resin composition having high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and excellent process stability and to provide a method for producing a resist image.例文帳に追加

本発明の目的は、高感度、高解像度でパターン形状が良く、かつ、プロセス安定性の優れたポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a gas scrubber system enabling prevention of clogging and corrosion of a gas exhaust conduit and continuous execution of an efficient treatment on the occasion of cleaning waste gas exhausted in a chemical treatment process or the like.例文帳に追加

化学処理工程等で排出される廃棄ガスを浄化するにあたり、ガス排出導管の詰まり、腐食を防止し、効率の良い処理を持続的に行なうことができるガススクラバシステムを提供する。 - 特許庁

The present invention relates to an apparatus for carrying out a plasma chemical vapour deposition process, by means of which one or more layers of doped or undoped silica can be deposited on the interior of an elongated glass substrate tube.例文帳に追加

本発明はプラズマ化学蒸着プロセスを実行するための装置に関し、これによって、ドープシリカまたは非ドープシリカの1つまたは複数の層が細長いガラス基体管の内部に蒸着され得る。 - 特許庁

例文

To provide a method for producing a lactate, which enables the reduction of energy charged in a process for producing the lactate, the lowering of chemical cost, and the reduction of installation cost.例文帳に追加

乳酸エステルの製造プロセスにおける投入エネルギーを小とすることができ、薬品コストを低減することができ、且つ、設備費を小とすることができる乳酸エステルの製造方法を提供する。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS