「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

A main sludge chemical form in a nuclear fuel reprocessing process is zirconium molybdate Zr(OH)2Mo2O7(H2O)2.例文帳に追加

原子力燃料再処理プロセスにおいては、主たるスラッジ化学形態がモリブデン酸ジルコニウム（Ｚｒ（ＯＨ）_２Ｍｏ_２Ｏ_７（Ｈ_２Ｏ）_２）である。 - 特許庁

Thereafter, the semiconductor wafer 1 is rotated and the etching process is conducted by supplying a chemical solution to the second principal surface S2 of the semiconductor wafer.例文帳に追加

その後、半導体ウェハ１に回転を施して、半導体ウェハの第２主面Ｓ２に薬液を供給することでエッチングを施す。 - 特許庁

Clearly, other chemical, toxicological, physical, and source information must be used as part of the overall assessment process.例文帳に追加

明らかに，他の化学的，毒物学的，物理学的および由来の情報は，アセスメント過程全体の一部として用いられなければならない。 - 英語論文検索例文集

In a method of forming the positive electrode body, and the dielectric coating layer by immersing the positive electrode body in a chemical conversion solution to carry a current to the positive electrode body and a metal member in the chemical conversion solution, the chemical conversion solution is previously subjected to an ion-exchange process by using an ion-exchange resin.例文帳に追加

陽極体と、該陽極体を化成液に浸漬して、該陽極体と化成液中の金属部材とを通電させることにより誘電体皮膜層を形成する方法において、該化成液は予め酸水溶液をイオン交換樹脂を用いてイオン交換処理されている。 - 特許庁

A control unit 25 uses a chemical unit CSB so as to perform the maintenance process continuously to use of the chemical unit CSB only when the use frequency of the chemical unit CSB reaches the use limit frequency in generating a whole schedule after generating a schedule for a single batch.例文帳に追加

制御部２５は、単バッチのスケジュールを作成した後、全体のスケジュールを作成する際に、薬液ユニットＣＳＢの使用回数が、使用制限回数に達した場合にのみ、薬液ユニットＣＳＢの使用に続けてメンテナンス処理を行うために薬液ユニットＣＳＢを使用する。 - 特許庁

To provide a wood processing device and a wood processing method which adjust the depth of the wood to be immersed into a chemical for wood preservation, efficiently process the wood with the chemical for wood preservation, and further achieve the uniformization of the processing range of the chemical to the wood at a low cost.例文帳に追加

木材保存用の薬液に浸漬させる木材の深さを調整して該木材を木材保存用の薬液で効率的に処理する共に、前記木材への前記薬液の処理範囲の均一化を図る木材処理装置及び木材処理方法を低コストで提供する。 - 特許庁

A plurality of chemical agents (an oxidizing agent or/and an alkaline chemical agent in addition to a sulfurous chemical agent) are blown in the exhaust gas from an incinerator 10 to suppress the formation of dioxins before dioxins are formed in a cooling process and the quantity of dioxins generated in the whole of incineration equipment is reduced.例文帳に追加

ごみ焼却炉１０からの排ガス中に複数の薬剤（硫黄系薬剤に加えて酸化剤又は／及びアルカリ系薬剤）を吹き込むことにより、ダイオキシン類が冷却過程で生成する前に生成そのものを抑制し、焼却設備全体での発生ダイオキシン類量を低減する。 - 特許庁

This method for developing a catalyst comprises grasping a catalytic reaction as an assemblage of reaction element process, carrying out the analysis of the assemblage of the reaction element process by combining an experimental chemical method with a calculating chemical method and a calculating physical method, and selectively reflecting the analyzed result in a catalytic constitution.例文帳に追加

触媒反応を反応素過程の集合体として捉え、この反応素過程の集合体の解析を、実験化学的手法、計算化学的手法、計算物理的手法を組み合わせることにより行い、その解析結果を触媒構成の選択に反映させる。 - 特許庁

To provide a ventilator for chemical countermeasure of an exposure process and the method of chemical countermeasure for the exposure process capable of sufficiently reducing the frequency of washing or replacement of a lamp or a lens, and capable of applying to a large-size exposure device without increasing an air cleaning facility.例文帳に追加

ランプやレンズの洗浄や取換の頻度を十分に減らすことができ、大型の露光装置にも空気清浄設備を増やすことなく適用することができる露光工程のケミカル対策用換気装置および露光工程のケミカル対策方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A chemical oxide film 100 formed on a semiconductor substrate 1 by wet cleaning, using a strong oxidizing solution to reduce the attachment of impurities to the chemical oxide film 100 between the wet cleaning process and an insulating film forming process.例文帳に追加

半導体基板上１に形成されるケミカル酸化膜１００を、強酸化性溶液を用いたウエット洗浄により形成するようにして、ウエット洗浄工程から絶縁膜形成工程間における、ケミカル酸化膜１００への不純物の付着を低減できるようにする。 - 特許庁

The film deposition process includes a process of low oxygen treatment for depositing a film by supplying oxygen smaller than an amount required for causing the chemical reaction of the supplied organic metal material, and high oxygen treatment for depositing a film by supplying oxygen more than an amount required for causing the chemical reaction subsequently.例文帳に追加

成膜プロセスは、供給する有機金属材料を化学反応させるのに必要な量未満の酸素を供給して成膜する低酸素処理と、その後に化学反応させるのに必要な量以上の酸素を供給して成膜する高酸素処理と、を含む。 - 特許庁

In all three offices, in principle, even if the claimed invention of chemical substance includes the statements defining its manufacturing process, an examiner determines the scope of the claimed invention based on what the chemical substance as a product per se is, regardless of difference of the manufacturing process. 例文帳に追加

すべての庁において、原則として、化学物質のクレームに係る発明にその製造方法を規定する記載が含まれる場合であっても、審査官は、製造方法の相違にかかわらず、生産物自体としての化学物質が何であるかに基づいて、クレームに係る発明の範囲を決定する。 - 特許庁

For the side cabinet 2 which is a chemical liquid part, ammonia and HMDS is supplied to an aging unit (DAS) 21 and a solvent exchange unit (DSE) 11, respectively, from the chemical liquid supply system, while exhausting and liquid-discharging after process are done with the exhausting/liquid- discharging process system.例文帳に追加

薬液部であるサイドキャビネット２において、薬液供給系から処理部１のエージングユニット（ＤＡＳ）２１およびソルベントイクスチェンジユニット（ＤＳＥ）１１にそれぞれアンモニアおよびＨＭＤＳを供給し、処理後の排気および排液は排気・排液処理系で処理される。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a solid electrolytic capacitor excellent in electric characteristics and having a masking structure which can prevent chemical conversion treatment liquid from oozing up to the positive electrode of the solid electrolytic capacitor during chemical conversion treatment, and can insulate solid electrolyte (negative electrode portion) formed in a subsequent process from the positive electrode certainly.例文帳に追加

化成処理時に化成液が固体電解コンデンサの陽極部分に滲み上がるのを防止し、かつ後工程で形成される固体電解質（陰極部分）と陽極部分を確実に絶縁できるマスキング構造を有し、電気特性に優れた固体電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for detecting the interaction of the specimen and the chemical substances in the liquid using the biochip includes a process for bringing the specimen into contact with the substrate to which the chemical substance bonded carriers are fixed and a process for detecting the interaction only of a predetermined range of the substrate.例文帳に追加

また、上記のバイオチップを用いた、検体と化学物質との相互作用を液体中において検出する方法であって、検体と、化学物質結合担体を固定した基板とを接触させる工程、基板の所定範囲のみの相互作用を検出する工程、を含む方法を用いる。 - 特許庁

CONDUCTIVE COMPOSITE MEMBER, TONER FIXING MEMBER, FIXING DEVICE, CHEMICAL/MEDICAL PART, CHEMICAL/MEDICAL DEVICE, PROCESSING AND TRANSPORTING PART, PROCESSING DEVICE, FLUID CONTROL PART, FLUID CONTROL DEVICE, AND PROCESS FOR PRODUCING CONDUCTIVE COMPOSITE MEMBER例文帳に追加

導電性複合部材、トナー定着部体、定着装置、化学・医療用部品、化学・医療用装置、加工搬送部品、加工装置、流体制御部品、流体制御装置及び導電性複合部材の製造方法 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition system having a system constitution compact and simple correspondingly to the enlargement of a substrate, and capable of securely performing film deposition by a chemical vapor deposition process, and to provide a film deposition method using the same.例文帳に追加

基板の大型化に対応してコンパクトで簡素な装置構成で、確実に化学気相成長法による成膜を行うことが可能な化学気相成長装置及びこれを用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

The word “refer to” means define clearly or explain the compound by the chemical name, the molecular formula (or structural formula), the physical/ chemical parameter(s), or the manufacturing process (including the raw material to be used). 例文帳に追加

ここでいう「言及」とは、化学名、分子式（または構造式）、物理／化学的パラメータまたは製法（使用原料を含む）によって当該化合物を明確に定義しているか、あるいは説明していることを指す。 - 特許庁

The word "refer to" means "define clearly or explain the compound by the chemical name, the molecular formula (or structural formula), the physical/ chemical parameter(s) or the manufacturing process (including the raw material to be used)". 例文帳に追加

「言及」という言葉は、「化学名、分子式（または構造式）、物理／化学的パラメータまたは製法（使用原料を含む）によって当該化合物を明確に定義しているか、あるいは説明していること」を意味する。 - 特許庁

To provide effective and reliable quality control (QC) of chemical products manufactured in a plant which daily prepares specific chemical products of a plurality of batches, and a method for analyzing process variables for providing the quality control.例文帳に追加

複数のバッチの特定の化学製品を日常的に調製するプラントにおいて製造された化学製品の、効果的かつ信頼しうる品質管理（ＱＣ）及び品質管理を提供するプロセス変数の分析方法。 - 特許庁

To provide a high performance chemical plating method constructing a new plating process in which, as a catalyst in the chemical plating, palladium is not used at all for solving the problems in the stability of the feed and high cost of palladium.例文帳に追加

パラジウムの供給安定性や高価格問題を解決するため、化学めっきの触媒としてパラジウムを全く使用しない新しいめっきプロセスを構築する高性能化学めっき法を提供する。 - 特許庁

To produce a surface treated steel sheet having excellent pitting resistance under no coating and after electrodeposition coating, chemical convertibility and press formability without the falling of a film in a chemical conversion treating process on an automotive producing line.例文帳に追加

自動車製造ラインの化成処理工程で皮膜が脱落することなく、優れた無塗装及び電着塗装後の耐穴あき性、化成処理性並びにプレス成形性を有する表面処理鋼板を提供することにある。 - 特許庁

As for a claim of a chemical product which cannot be clearly characterized merely by features of structure and/or composition, it is permitted to further use physical /chemical parameter(s) and/or the manufacturing process to characterize the claim. 例文帳に追加

構造及び/又は組成の特徴のみでは明確に特徴づけることができない化学製品の請求項に関しては、さらに物理・化学的パラメータ及び/又は製法を用いて特徴付けることが許される。 - 特許庁

To provide a monitor and a method for monitoring an effect of a chemical for manufacturing paper, capable of confirming quickly and surely the effect of the chemical for manufacturing the paper added to water for paper manufacturing process in a paper and pulp manufacturing processes.例文帳に追加

紙パルプ製造プロセスにおいて、製紙工程水に添加される製紙用薬剤の効果を迅速かつ確実に確認することができる製紙用薬剤の効果監視装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an aquatic dispersion element for chemical mechanical polishing, capable of quickly polishing without substantially damaging a surface to be polished, especially in a chemical mechanical polishing process of STI.例文帳に追加

特にＳＴＩの化学機械研磨工程において、被研磨面に実質的に研磨傷が発生せず且つ高速に研磨することのできる化学機械研磨用水系分散体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

While a predetermined time period passes from a chemical solution feeding start to a wafer, the chemical solution used for the process of the wafer is discarded to a high-density discharge drain through a common line 15 and a branch discarding line 24.例文帳に追加

ウエハへの薬液供給開始から所定時間が経過するまでの間は、ウエハの処理に用いられた薬液が、共用配管１５から分岐廃棄配管２４を通して高濃度廃液ドレンへ廃棄される。 - 特許庁

In the process related to a plasma-enhanced chemical vapor-phase deposition (PECVD) for depositing a nitrogen-doped silicon carbide (Si-C-N) material, a nitrogen gas (N_2) aids chemical precursors for silicon and carbon.例文帳に追加

炭素窒化物シリコン（Ｓｉ−Ｃ−Ｎ）材料を蒸着するための処理はプラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）に関し、そこではシリコン及び炭素用の化学前駆物質が窒素ガス（Ｎ２）によって補助される。 - 特許庁

To provide a technique for manufacturing a polymer particulate by means of an addition-polymerization by using an enzyme, instead of a chemical synthetic process to carry out a polymerization reaction by using a harmful chemical such as a polymerization initiator.例文帳に追加

重合開始剤などの有害な化学薬品を用いて重合反応を行わせる化学合成法に代わって、酵素を用いた付加重合反応によって、ポリマー微粒子を製造する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a gallium nitride chemical semiconductor substrate which requires no device process, such as a lateral growth when growing a gallium nitride chemical semiconductor layer thereon, and which has a uniform low defect region.例文帳に追加

基板への窒化ガリウム系化合物半導体層の成長において、横方向成長等のデバイス工程を無くし、さらに低欠陥領域を均一に有する窒化ガリウム系化合物半導体基板を提供する。 - 特許庁

To provide an atomizing process and a device therefor in which a large amount of heat energy is not consumed, a quality change caused by the chemical reaction in the use of a chemical or the like is not generated and a control zone can be maintained in given conditions.例文帳に追加

多量の熱エネルギーを消費することがなく、薬品等の使用においても化学反応による変質がなく、管理区域を所定条件で保持できる液体の霧化方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

Given the characteristics of Class I specified chemical substances mentioned earlier, when the generation of a Class I specified chemical substance as a by-product is technically unavoidable in the manufacture of a certain chemical substance, and if there exists a safer substitute substance that has the same function as the said chemical substance, and that does not generate any Class I specified chemical substance in the process of production, then it goes without saying that it is desirable to curb the generation of Class I specified chemical substances to zero through substitution. 例文帳に追加

なお、上述した第一種特定化学物質の性質を踏まえれば、ある化学物質の製造に際して第一種特定化学物質の副生が技術的に不可避な場合に、当該化学物質と同等の機能を有しかつ第一種特定化学物質を副生しない等より安全な代替物質が存在するのであれば、代替化を進めることにより第一種特定化学物質の副生を０にしていくことが望ましいことは言うまでもない。 - 経済産業省

To provide an abrasive material which increases the polishing rate of a ruthenium material even under low polishing pressure, enables a chemical mechanical polishing process to be carried out through a single-stage process by the use of a single kind of slurry, reduces defects in an insulating film, and is capable of improving its polishing properties so as to simplify a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

低い研磨圧力下においてもルテニウムの研磨速度を向上させることができ、さらに１種類のスラリーを用いて１段階の工程だけで化学機械的研磨工程が進められ絶縁膜上の欠陥を減少させると共に、研磨特性を改善させることができるので化学機械的研磨工程を単純化させる。 - 特許庁

This method comprises a chemical-adding process 32 for adding a chemical heaving heavy metals-immobilizing capacity to the supercritical hydroxilation- treatment liquid, a flocculant-adding process 34 for adding a flocculant to the supercritical hydroxilation-treatment liquid and a heavy metals-removing process 36 for removing immobilized heavy metals by performing solid-liquid separation of supercritical hydroxilation-treatment liquid.例文帳に追加

本方法は、重金属固定能力を有する薬剤を超臨界水酸化処理液に添加する薬剤添加工程（３２）と、凝集剤を超臨界水酸化処理液に添加する凝集剤添加工程（３４）と、超臨界水酸化処理液を固液分離して、固定された重金属を除去する重金属除去工程（３６）とを備える。 - 特許庁

In a chemical polishing process, the silicon wafer is pushed against the polishing-cloth side, while a section between the silicon wafer and polishing cloth with a working liquid from a tank between a rough polishing process and a finishing polishing process is supplied, and the surface of the silicon wafer is polished.例文帳に追加

粗研磨工程と、仕上げ研磨工程の間に、タンクから加工液を、シリコンウェーハと研磨クロスとの間に供給しつつシリコンウェーハを研磨クロス側に押し当てて、シリコンウェーハの表面を研磨する化学的研磨工程が実施される。 - 特許庁

In a resist application process which is one among photolithographic processes in a semiconductor manufacturing process, or the like, gas composed of the air or nitrogen is blown against a prescribed region of a semiconductor wafer 1 during the process of applying a chemical such as a photoresist.例文帳に追加

半導体製造プロセスに於けるフォトリソグラフィープロセスの１つであるレジスト塗布工程等において、フォトレジストなどの薬液塗布処理中における半導体ウェハ１の所定の領域上にエアー又は窒素からなる気体を吹き付ける。 - 特許庁

For the claim of a chemical product characterized by manufacturing process, the novelty shall be determined on the product per se, rather than merely comparing the manufacturing process therein with the process disclosed in a reference document to find whether or not the two processes are identical. 例文帳に追加

製法により特徴づけられた化学製品クレームについての新規性審査は、その中の製法が対比文献に開示された方法と同一であるか否かだけを比較するではなく、当該製品そのものを対象に行わなければならない。 - 特許庁

For the claim of a chemical product characterized by manufacturing process, the novelty shall be determined on the product per se, rather than merely comparing the manufacturing process therein with the process disclosed in a reference document to find whether or not the two processes are identical. 例文帳に追加

製法により特徴づけられた化学製品クレームについての新規性審査は、その中の製法が対比文献に開示された方法と同一であるか否かだけを比較するのではなく、当該製品そのものを対象に行わなければならない。 - 特許庁

To provide a porous silica thin film that has a low relative dielectric constant, is stable and has a mechanical strength sufficiently endurable to a CMP (chemical-mechanical polishing) process in a copper wiring process of a semiconductor element.例文帳に追加

多孔性シリカ薄膜の比誘電率が低く、安定で、半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える機械的強度を有する多孔性シリカ薄膜を提供する。 - 特許庁

The sensitivity inspection method of a chemical substance has a process (a) for mixing a fluorescent cysteine derivative with a sensitive substance and a process (b) for judging the presence of the bonded substance by instrumental analysis.例文帳に追加

ａ）蛍光システイン誘導体と感作性物質とを混合させる工程；及び、（ｂ）結合物の有無を機器分析により判定する工程を有する化学物質の感作性検定方法。 - 特許庁

A chemical vapor sterilization process is enhanced by flowing a portion of the sterilizer vapor through the instrument container using the normal portion of an exhaust process.例文帳に追加

一定の化学的な蒸気滅菌処理が排気処理における一定の通常的な部分により一定の器具の容器の中を通して一定の滅菌剤蒸気の一部分を流すことにより改善されている。 - 特許庁

A layer changed in properties is thereafter removed by using an alkaline solution (second surface treatment 5b) and the magnetic disk substrate is manufactured through a chemical strengthening treatment process step 6 and finishing cleaning process step 7.例文帳に追加

そしてその後、アルカリ性溶液を使用して変質層を除去し（第２の表面処理５ｂ）、化学強化処理工程６及び仕上げ洗浄工程７を経て磁気ディスク基板を製造する。 - 特許庁

In chemical conversion of a non-converted polar plate in a battery case, the process of repeating charging and discharging is to be involved during the conversion, before and after which process, charge current is to be changed for two steps or more.例文帳に追加

未化成の極板を電槽内で化成する際に、化成途中に放電と充電の繰り返しの工程を含ませ、その工程の前後で充電電流が2段階以上変化するようにする。 - 特許庁

To provide an organic insulating film which enables a fine pattern process and can improve the electric performance of a transistor because it has a chemical resistance against the organic solvent used in the photo lithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程中に使用される有機溶媒に耐化学性を有するので、微細パターン工程を可能とし且つトランジスタの電気的性能を向上させることが可能な有機絶縁膜を提供する。 - 特許庁

The present invention also discloses a process of depositing a silicon oxide film, or silicon nitride film having an enhanced etch resistance, the process including using an organosilane precursor and a chemical modifier.例文帳に追加

本発明は、また有機シラン前駆体および化学修飾剤を使用することを含んで成る高められたエッチ耐性を有する酸化ケイ素膜、または窒化ケイ素膜の堆積方法を開示する。 - 特許庁

To provide the method for growing a long-size II-VI compound semiconductor crystal having excellent crystal properties on a seed crystal with a sublimation process or halogen chemical transport process.例文帳に追加

昇華法又はハロゲン化学輸送法で種結晶上に結晶性に優れた長尺のII-VI 族化合物半導体結晶を成長させる結晶成長方法を提供しようとするものである。 - 特許庁