「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

POLISHING TABLE OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE, METHOD FOR MONITORING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PROCESS USING THE SAME, METHOD FOR DETECTING TERMINATION USING THE SAME, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

化学機械的研磨装備の研磨テーブル、これを用いて化学機械的研磨工程をモニターする方法、これを用いて終末点を検出する方法及びその製造方法 - 特許庁

To provide a device and a method for storing and feeding a process chemical substance in the field of an electronic industry or the like, requiring a high purity chemical substance.例文帳に追加

高純度化学物質を必要とする電子工業その他の分野におけるプロセス化学物質の貯蔵及び送給のための装置と方法を提供すること。 - 特許庁

In the chemical treatment process, a definite amount of the substrate surface is removed while controlling temperature change of the liquid chemical 17 so as to stay within a range of ±5°C from a previously set temperature.例文帳に追加

化学処理工程は、薬液１７の温度変化が予め設定した温度から±５℃の範囲に収まるように制御しながら、基板の表面を一定量除去する。 - 特許庁

To provide a filter cartridge which has resistance to chemical liquids frequently used in a semiconductor manufacturing process and has a function for decreasing metal ions in the chemical liquids.例文帳に追加

半導体製造工程で頻繁に用いられる薬液に耐性を有し、薬液中の金属イオンを減少させる機能を有するフィルターカートリッジを提供すること。 - 特許庁

A liquid processing apparatus 10 comprises: a process fluid nozzle 65 provided above a wafer W and having a discharge port discharging a chemical to the wafer W; a process fluid supply mechanism 70 supplying the chemical to the process fluid nozzle 65; and a cover mechanism 60 covering the wafer W from above when the chemical is discharged to the wafer W by the process fluid nozzle 65.例文帳に追加

液処理装置１０は、ウエハＷの上方に設けられ、ウエハＷに薬液を吐出する吐出口を有する処理流体ノズル６５と、処理流体ノズル６５に薬液を供給する処理流体供給機構７０と、処理流体ノズル６５によりウエハＷに薬液が吐出される際にウエハＷを上方から覆うことができるカバー機構６０と、を備えている。 - 特許庁

The present invention relates to an abrasive cushion material and a process of a wet-chemical grinding of a substrate surface.例文帳に追加

本発明は、研磨緩衝材、および、基板表面を湿式化学研削するプロセスに関するものである。 - 特許庁

To remove contamination on an end face of a substrate which cannot be removed only with chemical cleaning process.例文帳に追加

化学的な洗浄のみでは除去することができない基板の端面の汚染を除去することを課題とする。 - 特許庁

To provide a small-sized, lightweight, effective and active micro channel heat exchanger used for a chemical process.例文帳に追加

化学プロセスに用いるための小型で、軽量の、効果的な能動的マイクロチャンネル熱交換器を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical liquid that facilitates a smooth developing process of an organic film pattern in the second time and afterward.例文帳に追加

有機膜パターンへの２回目以降の現像処理をスムーズに行うことを可能とする薬液を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical container which can simplify manufacturing process, while resolving troubles when using.例文帳に追加

使用時での不具合を解消しつつ、製造工程の簡素化を図ることができる薬剤収容容器を提供する。 - 特許庁

Consequently, ionic charges keep a separated state, and a pseudo capacity can be generated by the chemical process.例文帳に追加

この結果、イオン電荷は分離した状態を保ち、この化学過程により擬似容量を発生させることができる。 - 特許庁

The silicon sludge generated in a silicon processing process is filtered with a ceramic filter and an acidic chemical liquid is added to a non-permeated liquid.例文帳に追加

シリコン加工プロセスで発生したシリコンスラッジをセラミックフィルタで濾過し、非透過液に酸性薬液を添加する。 - 特許庁

To suppress degradation in insulation performance of a substrate by protecting it against chemical and radical used during a manufacturing process.例文帳に追加

基板を製造プロセス中に使われる薬品やラジカルなどから護って絶縁性の劣化を抑制すること。 - 特許庁

The photoresist is planarized by chemical-mechanical polishing process, and an uniform thickness is realized over the entire substrate 10.例文帳に追加

フォトレジストは化学機械研摩プロセスで平坦化されて、基板１０全体にわたって均一な厚さを達成する。 - 特許庁

To decrease the number of processes, costs, and working hours in a chemical plating or plating process and to reduce manufacturing costs.例文帳に追加

化学鍍金、鍍金工程における工程数と費用及び作業時間を軽減し製造費用の低減を図る。 - 特許庁

The amorphous Al_2O_3 film can be deposited using a chemical vapor deposition, atomic layer deposition or sputtering process.例文帳に追加

上記アモルファスＡｌ_２Ｏ_３膜は、化学気相堆積法、原子層堆積法又はスパッタ法を用いて、堆積される。 - 特許庁

To provide purge gas having no harmful effect on the activity of a chemical substance used in lithograph projection process.例文帳に追加

リソグラフ投影工程に使用される化学物質の活性に悪影響を与えないパージガスを提供する。 - 特許庁

In certain embodiments, the process temperature is maintained at ≤350°C, during the chemical vapor deposition to fill the feature.例文帳に追加

或る実施例に於いて、工程温度は特徴部充填の化学蒸着の間約３５０°Ｃ以下に維持される。 - 特許庁

The process includes using a silicon-containing precursor, a carbon-containing precursor and a chemical modifier.例文帳に追加

方法は、ケイ素を含有する前駆体、炭素を含有する前駆体および化学修飾剤を使用することを含む。 - 特許庁

This invention also provides a method for producing the chemical palladium/gold plating film and a packaging process for the package structure.例文帳に追加

本発明は、化学パラジウム/金めっき皮膜の製造方法及びそのパッケージ構造のパッケージプロセスも提供する。 - 特許庁

To provide a cobalt-zinc based material useful as powder for a permanent magnet by a chemical reduction process.例文帳に追加

化学還元法により、永久磁石用粉末として有用なコバルトと亜鉛をベースとした材料を提供する。 - 特許庁

a chemical process in which the direction of optical rotation of a substance is reversed from dextrorotatory to levorotary or vice versa 例文帳に追加

物質の旋光度の方向が右旋性からら左旋性に逆転され、またその逆も同様である化学過程 - 日本語WordNet

the chemical process in which a nitro group is added to an organic compound (or substituted for another group in an organic compound) 例文帳に追加

ニトロ基が有機化合物（または有機化合物の別のグループに置換される）に加えられる化学過程 - 日本語WordNet

a surface-active chemical used in flotation process to increase the attraction to a specific mineral 例文帳に追加

特定の鉱物に対する捕集力を増すために、浮遊選鉱の過程で用いられる界面活性化学物質 - 日本語WordNet

To provide a chemical heat storage apparatus capable of evenly supplying water to a heat storage material in a heat radiation process.例文帳に追加

放熱工程において蓄熱材に対して水を均一に供給できる化学蓄熱装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simple chemical reaction and a mixing process which are established by solving the problems of a micro-reactor.例文帳に追加

マイクロリアクターの有する問題点を解決し、簡便な化学反応及び混合方法を提供すること。 - 特許庁

This method includes a laminating process 51 for laminating a primary continuous sheet S1 in the conveying direction to make it a laminated continuous sheet S2, a chemical solution applying process 53 for applying a chemical solution to the laminated continuous sheet S2, a slitting process 55, and a wind-up process 56 for coaxially winding up each slitted one of the laminated continuous sheet S2.例文帳に追加

一次連続シートＳ１をその連続方向に沿って積層して積層連続シートＳ２とする積層工程５１と、積層連続シートＳ２に対して薬液を付与する薬液塗布工程５３と、スリット工程５５と、スリットされた各積層連続シートＳ２を同軸で巻取る巻取り工程５６と、を有する。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing pad that can control scratch generation on a polishing surface during a chemical polishing process and give a high-quality polishing surface, and chemical mechanical polishing method that gives a high-quality polishing surface using the chemical machinery polishing pad.例文帳に追加

化学機械研磨工程における被研磨面のスクラッチ発生を抑制でき、高品位の被研磨面を与えることができる化学機械研磨パッド、及びその化学機械研磨パッドを用いて行う高品位の被研磨面を与える化学機械研磨方法を提供すること。 - 特許庁

PROCESS FOR PREPARING BIS(CYCLOPENTADIENYL)RUTHENIUM DERIVATIVE, BIS(CYCLOPENTADIENYL)RUTHENIUM DERIVATIVE PREPARED THROUGH THE PROCESS AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR RUTHENIUM FILM OR RUTHENIUM COMPOUND FILM例文帳に追加

ビス（シクロペンタジエニル）ルテニウム誘導体の製造方法及びその方法により製造されるビス（シクロペンタジエニル）ルテニウム誘導体並びにルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法 - 特許庁

A connection hole is formed through a connection hole forming process and a cleaning process, and the inner wall surface of the connection hole is made to adsorb material (active site) which has a chemical affinity through a surface treatment process S1.例文帳に追加

接続孔形成工程と洗浄工程を経ることにより形成された接続孔表面に表面処理工程Ｓ１で化学親和力を有する物質（活性点）を吸着させる。 - 特許庁

To effectively squeeze an excessive chemical from an acrylonitrile-based precursor fiber impregnated with the chemical without causing occurrence of fluff and scattering of the chemical by a noncontact method in a process for producing an acrylonitrile-based precursor fiber.例文帳に追加

アクリロニトリル系前駆体繊維の製造工程において、非接触式の方法により、薬液を含浸させたアクリロニトリル系前駆体繊維から過剰の薬液を、毛羽の発生及び薬液の飛散を伴うことなく、効果的に搾液する。 - 特許庁

The Committee is designed to consider and evaluate the technically and economically best feasible levels for reduction (BAT reduction levels) of specified chemical substances under CSCL concerning the Evaluation of Chemical Substances and Regulation of Their Manufacture, etc. that are generated as by-products in the process of synthesizing chemical substances. 例文帳に追加

本委員会は、化学物質の合成過程で副生する化審法の特定化学物質について、技術的・経済的に実現可能な削減可能レベル（ＢＡＴ削減レベル）を検討、評価することを目的とする。 - 経済産業省

The silicon carbide polycrystalline film 13, the silicon fine crystalline particles 12 or germanium fine crystalline particles are alternately deposited on a semiconductor substrate 16 at 850-1400°C by depressed chemical vapor deposition process or chemical deposition process.例文帳に追加

減圧化学気相堆積法又は化学気相堆積法により半導体基板１６上に８５０〜１４００℃でシリコンカ−バイド多結晶膜１３とシリコン微結晶粒子１２又はゲルマニウム微結晶粒子とを交互に堆積する。 - 特許庁

The method for manufacturing the glass substrate includes a process for subjecting a mother glass substrate to a chemical tempering treatment and a process for forming a scribe line in the mother glass substrate subjected to the chemical tempering treatment by rotating a wheel cutter 3.例文帳に追加

本発明に係るガラス基板の製造方法は、マザーガラス基板に化学強化処理を施す工程と、化学強化処理が施されたマザーガラス基板にホイールカッター３を回転させてスクライブ線を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk includes: an etching process for etching plate-like glass to adjust plate thickness; a scribing process for forming the plate-like glass into an annular glass substrate; and a chemical surface treatment process that is a post-process of the scribing process to perform chemical surface treatment of the glass surface before a polishing process of the glass substrate.例文帳に追加

本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、板状ガラスをエッチングして板厚を調整するエッチング工程と、前記板状ガラスを円環状のガラス基板に形成するスクライブ工程と、前記スクライブ工程の後工程であって前記ガラス基板の研磨工程の前に前記ガラス表面の化学的表面処理を行う化学的表面処理工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

In the baking process, by baking the acid-treated mixture M1(P), the chemical thermal storage medium composite 1 is obtained.例文帳に追加

焼成工程においては、酸処理混合物Ｍ１（Ｐ）を焼成することにより化学蓄熱材複合物１を得る。 - 特許庁

To provide a lead-acid battery for highly maintaining utilization rate of a positive electrode active material from a chemical formation process up to float charge.例文帳に追加

化成工程からフロート充電まで、正極活物質の利用率を高度に維持できる鉛蓄電池を提供する。 - 特許庁

SiF4 and H2O produced by the chemical reaction are discharged to the outside the process chamber 2 as exhaust gases.例文帳に追加

そして、化学反応により生成されるＳｉＦ_4及びＨ_2Ｏが、排ガスとしてプロセスチャンバー２の外部に排出される。 - 特許庁

Thereafter, as shown in step 13, the layer to be planarized including the specified regions is subjected to a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

その後、ステップ１３に示すように、特定領域を含む被平坦化処理層の化学的機械的研磨工程を行う。 - 特許庁

BARRIER COVERING AND METHOD FOR STACKING BARRIER COVERING ON PLASTIC MATERIAL BY HIGH OUTPUT PLASMA CHEMICAL GAS PHASE GROWTH PROCESS例文帳に追加

バリア被覆および高出力プラズマ化学気相成長法によってプラスチック物体上にバリア被覆を堆積する方法 - 特許庁

To provide a polishing apparatus which can unload a wafer in a chemical mechanical polishing (CMP) process with stability.例文帳に追加

化学的機械的平坦化ＣＭＰ過程でウェーハを安定的にアンローディングすることができるポリッシング装置を提供する。 - 特許庁

According to various embodiments, the methods involve a reduced temperature chemical vapor deposition (CVD) process to fill the features with tungsten.例文帳に追加

種々の実施例に於いて、この方法は低温化学蒸着工程によるタングステンでの特徴部の充填に関する。 - 特許庁

In another embodiment, a chemical etching process is used to smooth out damage on the slanted side surface of a separate die.例文帳に追加

別の実施形態は、化学エッチングプロセスによって、個別ダイの傾斜した側面に対する損傷を滑らかにする。 - 特許庁

Among the moldings obtained, an integrated layer like a square vessel is used in a chemical washing process for semiconductors and liquid crystals.例文帳に追加

得られた成形品のうち、角槽などの一体層が半導体や液晶の薬液戦場工程で使用される。 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING THIN FILM OF METAL OXIDE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION USING ALCOHOL OR ATOMIC LAYER DEPOSITION例文帳に追加

アルコールを用いた化学気相蒸着法または原子層蒸着法による金属酸化物薄膜の製造方法 - 特許庁