「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

This monitor for monitoring the effect of the chemical for manufacturing the paper is provided with a measuring part for measuring the water quality of water for the paper manufacturing process added with the chemical for manufacturing the paper, and a pipe for introducing water for the paper manufacturing process added with the chemical into the measuring part.例文帳に追加

製紙用薬剤が添加された製紙工程水の水質を計測する計測部と、該計測部に、薬剤が添加された製紙工程水を導入する配管とを備えてなる製紙用薬剤の効果監視装置。 - 特許庁

To provide a management system and method of chemical substance capable of calculating the discharge/discarding quantity of a new chemical substance when the new chemical substance is produced in a certain process by the chemical reaction of a substance constituting a material or a product charged to the process.例文帳に追加

プロセスで投入される材料或いは製品を構成する物質が当該プロセスにおいて化学反応により新しい化合物が生じた際に、新しい化合物の排出移動量を算出できる化学物質総合管理システム及び化学物質総合管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pre-painting treatment apparatus which can shorten a pre-painting treatment process by simplifying a chemical conversion treatment process for forming a chemical conversion coating before electrodeposition painting.例文帳に追加

電着塗装前に化成被膜を形成する化成処理工程を簡略化することにより塗装前処理工程を短縮することができる塗装前処理装置を提供する。 - 特許庁

Circumstances where it is permitted to use the manufacturing process to characterize the claim of a chemical product are: the chemical product cannot be sufficiently characterized by the features other than the manufacturing process. 例文帳に追加

製法を用いて化学製品クレームを特徴付けることが許される状況とは、製法以外の特徴では充分に特徴づけることができない化学製品であること。 - 特許庁

After that, a chemicals-dissolved fluid reproduction process is performed to recover the used fluid 17, removes unnecessary substance deposited as the result of chemical reaction is removed to use it in the chemical treatment process again.例文帳に追加

その後薬液再生工程を行ない、使用済みになった薬液１７を回収して、化学反応の結果析出した不要な物質を除去し、再び化学処理工程に使用する。 - 特許庁

The model forming method carries out a simulation of a part (concentration of oxidative seed) of a process (silicon oxidation process) represented by a physical, chemical model.例文帳に追加

物理化学モデルで表されたプロセス（シリコン酸化プロセス）のうちの一部分（酸化種の濃度）についてシミュレーションを実行する。 - 特許庁

Also, by not employing chemical mechanical planarization process during the fabrication of the bipolar structures, the complexity of process integration is reduced.例文帳に追加

また、バイポーラ構造の製作の間に、化学機械研磨プロセスを使用しないことにより、プロセス統合の複雑さが軽減される。 - 特許庁

In a process for producing the chemical conversion coating film of titanium oxide having the photocatalytic performance on the surface of an aluminium material, the process is characterized by including a chemical conversion process bringing the aluminium material into contact with an admixture solution of titanium fluoride and hydrogen peroxide to form the chemical conversion coating film on the surface of the aluminium material.例文帳に追加

アルミニウム材の表面に、光触媒能を有する酸化チタン化成皮膜を、製造する方法であって、アルミニウム材を、フッ化チタン塩と過酸化水素との混合溶液に晒して、アルミニウム材表面に化成皮膜を生成させる、化成処理工程、を有することを特徴としている。 - 特許庁

The inspection method comprises a first process B for performing many kinds of qualitative analyses for specifying the type of agricultural chemical residing in the object to be inspected; and a second process C for performing the qualitative analysis of the amount of residue in the agricultural chemical only for the specified type of agricultural chemical after the first process B.例文帳に追加

検査対象物に残留する農薬の種類を特定する多種類の定性分析を行って、残留する農薬の種類を特定する第１工程Ｂと、その後、その特定された種類の農薬のみについて農薬残留量を定量分析する第２工程Ｃとを、有する。 - 特許庁

To provide a process for the low temperature, non-incineration decontamination of contaminated materials, such as chemical weapon components containing hazardous quantities of chemical warfare agents.例文帳に追加

化学兵器薬品等の有害物質を含む化学兵器コンポーネント等の汚染物質の低温・非焼却式浄化方法を提供する。 - 特許庁

To realize a chemical and mechanical polishing process in which aggromerate slurry is surely removed from a polishing pad, and chemical mechanical polishing is carried out at a regular polishing rate without cutting the surface of a polishing pad.例文帳に追加

研磨パッドの表面を削ることなく、凝集スラリーを確実に除去し、研磨レート均一な化学的機械研磨を行う。 - 特許庁

Before carrying out the chemical reinforcement process, a dummy glass member to capture minute particles present in the chemical reinforcing liquid is put into the liquid.例文帳に追加

化学強化工程を行う前に、化学強化処理液中に存在する微小なパーティクルを捕捉するためのダミーガラス部材を投入する。 - 特許庁

(ii) Matters concerning the rational use of Designated Chemical Substances, etc. including the recovery and reutilization of Designated Chemical Substances, etc. in their manufacturing process 例文帳に追加

二　指定化学物質等の製造の過程におけるその回収、再利用その他の指定化学物質等の使用の合理化に関する事項 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The management server 101 of the chemical substance management/authentication organization searches the chemical substance management DB 130, generates the 'in-process nonuse certificate of chemical substance' about the designated chemical substance and the product manufacturer, and transmits it.例文帳に追加

化学物質管理・認証機関の管理サーバ１０１は、化学物質管理ＤＢ１３０を検索して、当該製品製造メーカと指定された化学物質についての「化学物質の工程内不使用証明書」を生成して送信する。 - 特許庁

To remove all resist residual liquids in Al wiring process steps, etc., using only a single chemical liquid.例文帳に追加

Ａｌ配線工程などにおけるレジスト残渣除去を全て単一の薬液で行えるようにする。 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF SUBSTRATE, CLEANING METHOD AFTER CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, PROCESS FOR FABRICATING ELECTRONIC DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加

基板の処理方法、化学機械研磨後洗浄方法、電子デバイスの製造方法及びプログラム - 特許庁

VAPOR DEPOSITION METHOD FOR PERPENDICULARLY ORIENTING CARBON NANOTUBE UTILIZING LOW-PRESSURE-DC-THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

低圧−ＤＣ−熱化学蒸着法を利用したカーボンナノチューブ垂直配向蒸着方法 - 特許庁

The chemical grinding method is implemented to remove the burrs formed in the dicing process.例文帳に追加

化学研磨法を行うことにより、ダイシング工程で発生したバリを除去することができる。 - 特許庁

PROCESS FOR TEMPORARY INERTIZATION OF CHEMICALLY HIGHLY REACTIVE METAL, AND METHOD FOR CHEMICAL USE OF IT例文帳に追加

化学的に高反応性の金属の一時的不活性化及びその化学的利用に対する方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ZnO-BASED TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM BY USING MOCVD (ORGANO-METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) PROCESS例文帳に追加

ＭＯＣＶＤ（有機金属化学蒸着）法によるＺｎＯ系透明導電膜の製造方法 - 特許庁

To provide a process of halogenation, which comprises halogenating a chemical compound in the presence of a halogenase.例文帳に追加

ハロゲナーゼの存在下で化合物をハロゲン化することを特徴とするハロゲン化法の提供。 - 特許庁

IN-SITU CHAMBER CLEANING PROCESS FOR REMOVING DEPOSIT OF BY-PRODUCT FROM CHEMICAL VAPOR DEPOSITION ETCHING CHAMBER例文帳に追加

化学蒸着エッチングチャンバから副生成物の堆積物を除去するインサイチュチャンバ洗浄プロセス - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING COPPER WIRING THIN FILM BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS, AND RAW MATERIAL SOLUTION USED IN THE SAME例文帳に追加

化学気相成長法による銅配線薄膜の製造方法およびその原料溶液 - 特許庁

The mirror polishing process is achieved in the form of chemical polishing, mechanical polishing, electrolytic polishing or bright electro-plating.例文帳に追加

前記鏡面加工は、化学研磨、機械研磨、光沢メッキ、または電解研磨によるものである。 - 特許庁

DEVICE FOR CONTROLLING REACTION TEMPERATURE OF CHEMICAL PROCESS, AND METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING REACTION TEMPERATURE例文帳に追加

化学プロセスの反応温度制御装置，反応温度制御方法並びに反応温度制御システム - 特許庁

DEVICE AND METHOD OF DIAGNOSING RESIDUAL QUANTITY OF PRECURSOR IN CONTAINER DURING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

化学蒸着工程時、容器内の前駆体残存量の診断装置及び診断方法 - 特許庁

A zinc oxide film (f) is deposited on a base material W by a spin coat process, plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) or the like.例文帳に追加

基材Ｗに酸化亜鉛膜ｆをスピンコート法やプラズマＣＶＤ等で成膜する。 - 特許庁

SLURRY FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) PROCESS, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SLURRY例文帳に追加

化学機械的研磨（ＣＭＰ）工程用スラリー及びこれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

To provide a novel kind of a solid redox material usable in an optional chemical loop combustion process.例文帳に追加

任意の化学ループ燃焼法において使用可能な新種の固形レドックス物質を提供する。 - 特許庁

PROCESS SOLUTION CONTAINING SURFACTANT FOR USE AS TREATMENT AGENT AFTER CHEMICAL MACHINERY PLANARIZATION例文帳に追加

化学機械平坦化後の処理剤として使用される界面活性剤を含有するプロセス溶液 - 特許庁

the process of decomposing organic matter (as in sewage) by bacteria or by chemical action or heat 例文帳に追加

有機物を（下水汚物でのように）バクテリア、化学作用、あるいは熱によって分解するプロセス - 日本語WordNet

a chemical process that combines several monomers to form a polymer or polymeric compound 例文帳に追加

ポリマーか重合体の合成物を形成するためにいくつかのモノマーを組み合わせる化学工程 - 日本語WordNet

The chemical process is the one for allowing the seed crystal holding member 22 to react with an oxidizing gas.例文帳に追加

また、化学的方法は、種結晶保持部材２２を酸化性ガスと反応させる方法である。 - 特許庁

METHOD FOR OPTIMIZING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF COPPER IN COPPER INTERCONNECTING PROCESS FOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

集積回路の銅相互結線プロセスにおいて銅の化学機械的研磨を最適化する方法 - 特許庁

In the peeling step, for example, a chemical lift-off process or a laser lift-off process is utilized so that a burden is not imposed on the thin film precursor 13.例文帳に追加

剥離ステップにおいては、薄膜前駆体１３に負担を掛けないよう、例えばケミカルリフトオフ法又はレーザリフトオフ法を用いる。 - 特許庁

The bonding coat may be deposited on the insulating layer by a chemical vapor deposition process and an electrophoretic deposition process prior to the deposition of the barrier layer.例文帳に追加

バリヤ層を堆積する前に、化学蒸着法および電気泳動堆積法でボンディングコートを絶縁層に堆積させてもよい。 - 特許庁

To provide a simple decomposition process of an organic arsenic compound by removing a heating operation in the decomposition process and using no liquid chemical.例文帳に追加

分解工程における加熱操作の排除、液体薬剤の不使用により、簡素な有機ヒ素化合物の分解工程を提供する。 - 特許庁

To remove residues of polished top surface and rear surface by a polishing process from a semiconductor wafer composed of silicon after a process of chemical mechanical polishing.例文帳に追加

化学機械研磨のプロセス後、シリコンからなる半導体ウェハから研磨された表面および裏面の研磨プロセスの残渣を取除く。 - 特許庁

This annealing process can be applied mainly to a polishing process for manufacturing the wafer, or an ion implantation process, a dry etching process or a chemical mechanical polishing process for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

本発明のアニーリングが主として適用される段階としては、ウェーハを製作するためのポリシング段階、半導体素子を製造するための各種のイオン注入段階、ドライエッチング段階、化学的及び機械的ポリシング段階がある。 - 特許庁

To reduce the lowering or irregularity of separation efficiency of an organic chemical component and an obstruction substance, to enable the long-term utilization of column and to automate a separation process of the organic chemical component.例文帳に追加

有機化学成分と妨害物質の分離効率の低下やばらつきを少し、カラムの長期利用を可能とし、該成分の分離過程を自動化する。 - 特許庁

The quality evaluating/process monitoring method of the chemical membrane evaluates the quality of the membrane from an appearance of a crystal of the chemical membrane, and monitors processing stages.例文帳に追加

化成皮膜の皮膜評価／工程監視方法としては、化成皮膜の結晶の外観から皮膜品質の良否を評価したり処理工程を監視する。 - 特許庁

To provide an acqueous dispersed body of chemical mechanical polishing for controlling erosion and speed during over-polishing in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

化学機械研磨工程において、オーバーポリッシュ実施時のエロージョン及びその速度を抑制できる化学機械研磨用水系分散体を提供すること。 - 特許庁

In a chemical vapor deposition process, a chemical precursor that enables thin films to be deposited in or near a limited conveyance area is utilized.例文帳に追加

化学気相成長プロセスにおいて、輸送量制限領域又はその近傍で、薄膜の堆積を行うことを可能にする化学前駆体を利用する。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersing element for chemical mechanical polishing that suppresses erosion and its speed when overpolishing is carried out in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

化学機械研磨工程において、オーバーポリッシュ実施時のエロージョン及びその速度を抑制できる化学機械研磨用水系分散体を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus for cleaning capable of improving the unevenness of a cleaning process by restraining a gas from resolving into a chemical stored in a chemical vessel.例文帳に追加

薬液槽内に貯留した薬液への気体の溶解を抑制して洗浄処理むらを改善することができる洗浄装置を提供すること。 - 特許庁