「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of an electronic device includes: (a) a process of forming a Cu layer by plating above a base substrate; (b) a process of cleaning the surface of the Cu layer with an alkali cleaning chemical solution to which an organic acid is added; and (c) after the process (b) a process of chemical mechanical polishing of the Cu layer.例文帳に追加

電子装置の製造方法は、（ａ）下地基板上方に、めっきによりＣｕ層を形成する工程と、（ｂ）Ｃｕ層の表面を、有機酸が添加されたアルカリ性の洗浄薬液により洗浄する工程と、（ｃ）工程（ｂ）の後、Ｃｕ層を化学機械研磨する工程とを有する。 - 特許庁

The chemical substance mass contained in the design process and the processing process is calculated by use of five kinds of data, i.e., component data usable in the product, data on chemical substance contained in each component, processing process data generated by combination of the components, data on chemical substance used in the processing process, and data on the regulation conditions of the law or the like.例文帳に追加

上記課題を解決するために、製品で使用可能な部品データ、各部品に含まれている化学物質データ、部品の組み合わせによって発生する加工プロセスデータ、加工プロセスに使用される化学物質データ、法律等の規制条件データの５種類のデータを使って、設計プロセスおよび加工プロセスで含まれる化学物質量を算出する - 特許庁

To effectively squeeze an excessive chemical liquid from each of chemical liquid-impregnated carbon fiber yarns without accompanying the formation of fuzz and the scattering of the chemical liquid, on the chemical liquid treatment of the carbon fiber yarns in a process for producing or processing the carbon fiber yarns.例文帳に追加

炭素繊維の製造工程或いは加工工程における薬液処理において、薬液を含浸させた炭素繊維糸条から過剰の薬液を、毛羽の発生及び薬液の飛散を伴うことなく、糸条毎に効果的に搾液する。 - 特許庁

The method includes a process of carrying out first surface treatment on the surface of a copper film 14, 20 with an acidic chemical liquid and a process of carrying out second surface treatment on the surface of the copper film treated by the first process with an alkaline chemical liquid.例文帳に追加

銅膜１４，２０の表面に対して酸性の薬液によって第１の表面処理を行う工程と、第１の表面処理がなされた銅膜の表面に対してアルカリ性の薬液によって第２の表面処理を行う工程とを備える。 - 特許庁

To provide a device and method for mixing and feeding chemical liquid in a semiconductor manufacturing process in which the amounts of flows of two or more kinds of chemical liquids in the semiconductor manufacturing process are in real-time regulated to accord with a prescribed mixing ratio and the regulated chemical liquids are mixed and fed.例文帳に追加

本発明は、半導体製造工程において２種類以上の薬液を混合割合に適合するように流量がリアルタイムで調節されて混合／供給される半導体製造工程での薬液混合供給装置及びその方法に関する。 - 特許庁

A solid-state image pickup device 11 is reduced to 30 μm or so in thickness through a chemical polishing process so as to be flexible.例文帳に追加

固体撮像素子１１を約３０μｍの厚さに化学的機械研磨して可撓性を付与する。 - 特許庁

Next, a water base coating is applied on the film of the steel plate which is formed by the chemical treatment (coating process).例文帳に追加

ついで、化成処理により形成された鋼板の皮膜上に水性塗料を塗布する（塗装工程）。 - 特許庁

The binder matrix in the end of the ceramic pin may be removed by mechanical or chemical process.例文帳に追加

セラミックピンの端の結合剤マトリックスは、機械的または化学的処理によって除去されてもよい。 - 特許庁

To solve the problem of hazardous and large amount of labor being required for releasing a polishing pad, in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

ケミカルメカニカル研磨工程の研磨パッドの引き剥がしは、危険かつ多大な労力を必要とする。 - 特許庁

The plurality of silicon nanocrystal embedded SiOx film layers are deposited using a high density plasma-enhanced chemical vapor deposition (HD PECVD) process.例文帳に追加

多層のシリコンナノ結晶を含むシリコン酸化膜層は、ＨＤＰＥＣＶＤプロセスにより堆積する。 - 特許庁

METHOD FOR INCREASING METAL-REMOVAL RATE DURING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING PROCESS FOR SEMICONDUCTOR, AND CMP METHOD例文帳に追加

半導体の化学機械研摩プロセス中の金属除去レ—トを増大させる方法及びＣＭＰ方法 - 特許庁

To detect corrosion of metal wiring and a metal plug formed by the CMP(chemical machine polishing) method during a wafer process.例文帳に追加

ＣＭＰ法を使って形成されるメタル配線やメタルプラグの腐蝕を、ウエハプロセスの途中で検知する。 - 特許庁

HUMAN ESTROGEN RECEPTOR MODEL COMPOUND AND PROCESS FOR ASSESSING ENDOCRINE DISRUPTER ACTIVITY OF CHEMICAL SUBSTANCE USING THE SAME例文帳に追加

ヒトエストロゲン受容体モデル化合物及びそれを用いる化学物質の内分泌撹乱性判定方法 - 特許庁

APPARATUS FOR CARRYING OUT PLASMA CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION (PCVD) PROCESS AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FIBRE例文帳に追加

プラズマ化学蒸着（ＰＣＶＤ）プロセスを実行するための装置および光ファイバを製造するための方法 - 特許庁

In the baking process, by baking the mixture M, the chemical thermal storage medium composite 1 is obtained.例文帳に追加

焼成工程においては、混合物Ｍを焼成することにより化学蓄熱材複合物１を得る。 - 特許庁

The surface exposed by the chemical and mechanical polishing process is dipped into a preprocessing solution containing amine or ammonia.例文帳に追加

化学機械研磨工程で露出された表面を、アミンまたはアンモニアを含有する前処理液に晒す。 - 特許庁

METHOD FOR OPTICALLY INSPECTING PROGRESSION OF PHYSICAL AND/OR CHEMICAL PROCESS PROCEEDING ON SURFACE OF MEMBER例文帳に追加

部材の表面上で進行する物理および／または化学プロセスの経過を光学的に検査する方法 - 特許庁

The hydroxylated and hydrophilic surface of the implant is obtained by electrolytic or chemical etching process.例文帳に追加

ヒドロキシル化された親水性表面が、電解又は化学エッチング法によって得られたものであるインプラント。 - 特許庁

POLYMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTORESIST, PHOTORESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING IT例文帳に追加

化学増幅型フォトレジスト用ポリマーと、フォトレジスト組成物及びこれを用いた半導体の製造方法 - 特許庁

Thereafter, the fullerene membrane 8 is subjected to e.g. a chemical process to extract the sodium-atom-including fullerene from the fullerene membrane 8.例文帳に追加

その後、化学的方法などを用いてフラーレン膜８からナトリウム原子内包フラーレンを抽出する。 - 特許庁

the process of obtaining something from a mixture or compound by chemical or physical or mechanical means 例文帳に追加

化学薬品あるいは物理的機械的な手段により混合物か合成物から何かを得る過程 - 日本語WordNet

a chemical process in which solvent molecules and molecules or ions of the solute combine to form a compound 例文帳に追加

溶媒分子と溶質分子もしくはイオンを化合物を形成するために結合させる化学作用 - 日本語WordNet

The method for anti-corrosion treatment of the surface of aluminum or an aluminum alloy includes a chemical polishing process for performing a chemical polishing treatment of the surface of the aluminum or the aluminum alloy and an anodization process for applying a barrier type anodization treatment to the surface of the aluminum or the aluminum alloy after the chemical polishing process.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金の表面の耐食処理方法において、アルミニウム又はアルミニウム合金の表面の化学研磨処理を行う化学研磨工程と、化学研磨工程の後でアルミニウム又はアルミニウム合金の表面にバリア型陽極酸化処理を行う陽極酸化工程とを行う。 - 特許庁

In the chemical cleaning process, an alkali cleaning process which immerses the etched foil in an alkali cleaning liquid, and an acid cleaning process which immerses the etched foil after the alkali cleaning process in an acid cleaning liquid are carried out.例文帳に追加

前記ケミカル洗浄工程では、エッチド箔をアルカリ性洗浄液に浸漬させるアルカリ洗浄工程と、アルカリ洗浄工程を行った後のエッチド箔を酸性洗浄液に浸漬させる酸洗浄工程とを行う。 - 特許庁

The first step is to perform a manufacturing process such as a chemical etching process or a laser cutting process in order to form hole mask on a metal plate with a predetermined hole pattern.例文帳に追加

第１の段階は、所定の穴模様で金属板上に穴マスクを形成するために例えば、化学的エッチング工程又はレーザカッティング工程のような製造工程を実施する。 - 特許庁

The non-routine shutdown (emergency) of a chemical reaction process is achieved by a method of safely operating the chemical reaction process containing a process for detecting an undesirable state possible to influence the process, a process for suppressing the reaction of reactants to the minimum, and a process for maintaining the substance flow passing through the reaction zone of the process so that a reaction mixture is carried out from the reaction zone.例文帳に追加

化学反応プロセスの非ルーチン（非常時）シャットダウンは、プロセスに影響を及ぼす可能性のある望ましくない状態を検出する工程、反応物質の反応を最小限に抑える工程、および反応混合物が反応ゾーンから移し出されるようにプロセスの反応ゾーンを通る物質流を維持する工程を含む、化学反応プロセスを安全に操作する方法により達成される。 - 特許庁

By the method, the amount of the liquid chemical agent imparted to the product can be reduced, and in a process for drying the liquid-imparted product, the migration of the liquid chemical agent can also extremely be reduced to maintain the uniform impartation of the chemical agent as such.例文帳に追加

この方法では、被処理製品に対する液状薬液の付与量が少なくてすむため、付与した後の乾燥工程でも薬液の移行は極めて小さく、そのまま均一付与が維持される。 - 特許庁

To provide a chemical substance management system improving efficiency of a procedure for requesting an "in-process nonuse certificate of chemical substance" by a product purchase maker, and allowing totaling of a use situation of chemical substance in a product manufacturer.例文帳に追加

製品購入メーカが「化学物質の工程内不使用証明書」を求める手続きを効率化し、製品製造メーカにおける化学物質の使用状況の集計が可能な、化学物質管理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method for chemical formation sludge where, at the time of subjecting a metallic work to chemical formation treatment, all the generated chemical formation sludge can be recycled without reserve, further, the process is not complicated, and special equipment is not required.例文帳に追加

金属製ワークの化成処理に際して発生する化成スラッジを全て残らずリサイクル可能であり、しかも工程が複雑でなく、特別な設備を必要としない化成スラッジの処理方法を提供する - 特許庁

Chemical liquid is circulated by operating a circulation pump 2 between an anode formation vessel 1 to perform an anode forming process and a chemical liquid tank 3 for storing chemical liquid required for such anode formation.例文帳に追加

陽極化成の処理を実行する陽極化成槽１と、その陽極化成に必要な薬液が蓄えられている薬液タンク３との間で、循環ポンプ２が作動されることにより、薬液が循環されている。 - 特許庁

Circumstances where it is permitted to use the manufacturing process to characterize the claim of a chemical product are: the chemical product cannot be sufficiently characterized by the features other than the manufacturing process. 例文帳に追加

化学物質の請求項を特徴づけるために製造方法を使用することが認められるのは、化学物質を製造方法以外の特徴によって十分に特徴づけることができない場合である。 - 特許庁

To provide a small-sized unit-operation unit for chemical process and a method for manufacturing the same that are suitable for a limited production with a wide variety such as manufactures of chemical products of fine chemicals or the like and may change a manufacturing process for a short term.例文帳に追加

ファインケミカル等の化学製品の製造など、多品種少量生産に適用して、短期間で生産工程の変更が可能な、化学プロセス用小型単位操作ユニットとその製作方法を提供する。 - 特許庁

PROCESS FOR PREPARING COMPOSITE PARTICLE, COMPOSITE PARTICLE PREPARED THROUGH THIS PROCESS AND AQUEOUS DISPERSION FOR GRINDING CHEMICAL MACHINE例文帳に追加

複合粒子の製造方法及びこの方法により製造される複合粒子並びに複合粒子を含有する化学機械研磨用水系分散体 - 特許庁

During the 25 times of the process recipe control, the period of time from the stop of the supply of a chemical solution to the wafer to the start of the next process recipe control is measured by a timer.例文帳に追加

２５回のプロセスレシピ制御中に、タイマにより、ウエハへの薬液の供給の停止から次回のプロセスレシピ制御の開始までの時間が計測される。 - 特許庁

The ball 412 of the BGA package 410 is a Pb-free ball, and a bottom B is polished flat by a mechanical polishing process or a chemical polishing process.例文帳に追加

ＢＧＡパッケージ４１０のボール４１２は、Ｐｂ−ｆｒｅｅボールであり、機械的研磨工程または化学的研磨工程で底面Ｂが平坦に研磨される。 - 特許庁

To improve the amount of chemical used and process grade by using fine bubbles such as micro-bubbles and/or nano-bubbles in the production process of the fibrous structure.例文帳に追加

マイクロバブルおよび/またはナノバブルといった微細気泡を繊維構造物の製造工程に用いることで、薬剤使用量、加工品位を向上する。 - 特許庁

To prevent mutual doubling of carbon fiber yarns which impregnate chemicals, in chemical processing in a production process or a manufacturing process of the carbon fiber.例文帳に追加

炭素繊維の製造工程或いは加工工程における薬液処理において、薬液含浸炭素繊維糸条が相互に合糸するのを防止する。 - 特許庁

The process fluid (SCF+first and second chemical liquids) is brought into contact with the substrate surface in the process chamber to strip and remove the resist or the like from the substrate.例文帳に追加

これにより、処理流体（ＳＣＦ＋第１、第２薬液）が処理チャンバー内で基板の表面に接触し、レジスト等が基板から剥離除去される。 - 特許庁

To provide a chemical process and more particularly to provide a process for preparing 3-isochromanone which is useful in the production of certain agricultural products.例文帳に追加

化学的プロセスに関し、より詳細には特定の農業製品の製造において有用である３−イソクロマノンを調製するためのプロセスに関する。 - 特許庁

To provide a process of making a germanium-antimony-tellurium alloy film using a process selected from the group consisting of atomic layer deposition and chemical vapor deposition.例文帳に追加

原子層堆積及び化学気相成長からなる群より選択されるプロセスを用いてゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A chemical liquid part comprising a chemical liquid supply system and an exhaust/liquid discharge process system, which is housed in a side cabinet 2 is provided adjacent to a process part 1 for applying a substrate with a coating liquid for forming a coating film, with an interval from the process part 1.例文帳に追加

基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成するための処理部１に対し、薬液供給系および排気・排液処理系を有する薬液部が隣接した状態で、かつサイドキャビネット２に収容された状態で処理部１から隔離して設けられている。 - 特許庁

A vacuum chamber is partitioned symmetrically into a sputtering chamber 11a capable of performing a sputtering process and a chemical film deposition chamber 11b capable of performing a chemical film deposition process, and a substrate transport means 3 for freely transporting a substrate S to be treated is positioned between respective film deposition positions in the sputtering chamber 11a and the chemical film deposition chamber 11b.例文帳に追加

真空チャンバを、スパッタリング法を実施できるスパッタ室１１ａと、化学的成膜法を実施できる化学的成膜室１１ｂとに左右に区画し、スパッタ室内及び化学的成膜室の各成膜位置の間で処理基板Ｓを移動自在とする基板搬送手段３を設ける。 - 特許庁

In order to manufacture the display panel, a panel producing process in which the display panel 1 is made up by using a substrate having prescribed thickness and a chemical treatment process in which the display panel 1 is immersed into a liquid chemical 17 and a definite amount of a substrate surface is removed by a chemical reaction to reduce thickness of the display panel 1, are performed.例文帳に追加

表示パネルを製造する為、所定の肉厚を有する基板を用いて表示パネル１を作り込むパネル作成工程と、表示パネル１を薬液１７に浸漬し、化学反応により基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする化学処理工程とを行う。 - 特許庁

Then, a chemical treatment process is performed to soak the panel 1 in a chemicals-dissolved fluid 17 to remove a fixed quantity of the surface of the substrate by chemical reaction to reduce the thickness.例文帳に追加

続いて化学処理工程を行ない、表示パネル１を薬液１７に浸漬し、化学反応により基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする。 - 特許庁

To provide a chemical analysis cartridge capable of preventing an error, a dispersion, a leakage or the like of a dispensation amount in a dispensation process of a reagent, and a chemical analyzer using it.例文帳に追加

試薬の分注工程における分注量の誤差、ばらつき、漏洩等を防止することができる化学分析カートリッジとそれを用いた化学分析装置を提供する。 - 特許庁