「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

When an electrically conductive layer is deposited by a chemical vapor deposition process prior to the deposition of the barrier layer, the efficiency of the coating remarkably improves.例文帳に追加

バリア層を堆積させる前に、化学蒸着法により電気的導電層を堆積させると、コーティングの効率が著しく向上する。 - 特許庁

To avoid erosion by a chemical liquid in a patterning process in a semitransmission type liquid crystal display and to prevent disconnection due to corrosion of a terminal.例文帳に追加

半透過型の液晶表示装置において、パターニング工程での薬液の浸食を受けにくくし、端子の腐食による断線を防止する。 - 特許庁

The effectiveness of oxidative sterilization process is determined by exposing a substrate containing a primary amine or aldehyde indicator chemical to an oxidative germicide.例文帳に追加

酸化的滅菌プロセスの有効性は、一級アミンまたはアルデヒドインジケーター化学物質を有する基質を酸化的殺菌剤に曝露して決定する。 - 特許庁

To provide a method for forming a reverse tapered resist pattern having excellent chemical stability, line width controllability, and easiness for process control and handling.例文帳に追加

化学的安定性、線幅制御性、工程管理と取扱いの容易性の点で優れた逆テーパ形レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The plurality of pillar like parts 1c of which the chemical characteristics are changed are etched in a second etching process to form an ink pressurizing chamber 21.例文帳に追加

化学的特性が変質した前記複数の柱状部分１ｃは、第２エッチング工程によってエッチングされ、インク圧力室２１となる。 - 特許庁

To provide a method of forming an insulating film with a planarized surface on a metal layer, without having to apply a chemical-mechanical planarization process.例文帳に追加

金属層上への表面の平坦かされた絶縁膜を化学的機械平坦化プロセスを適用しないでも済む形成方法を提供する。 - 特許庁

To improve throughput by giving multi-function characteristic to a slurry used on a polishing table in the chemical-mechanical polishing process for polishing the wafer surface.例文帳に追加

ウェハの表面を研磨する化学機械研磨において、研磨テーブル上で使用するスラリーに多機能性を持たせ、スループットを向上させる。 - 特許庁

To provide a means for imparting heat resistance to a chemical container without performing difference heat treatment after a cold parison process of injection stretch blow molding.例文帳に追加

コールドパリソン法射出延伸ブロー成形後に別途の熱処理を行うことなく、薬液容器に耐熱性を付与する手段を提供する。 - 特許庁

Application of the coating liquid or a resist by an ink jet process increases the utilization efficiency of chemical liquid and permits forming a patterned coating film.例文帳に追加

この塗布液やレジストをインクジェット方式で塗布することにより、薬液の使用効率を上げ、かつ、パターン化された塗布膜の形成が可能となる。 - 特許庁

A planarization process (d) by a chemical and mechanical polishing method or etch back method is introduced before the removal of the resist mask 4 used for processing tracks.例文帳に追加

トラック加工に用いたレジストマスク４の除去前に化学的機械研磨法あるいはエッチバック法による平坦化工程（ｄ）を導入する。 - 特許庁

To provide a processing method of a substrate improved to structuralize the substrate without using a wet or dry chemical etching process.例文帳に追加

ウエット又はドライケミカルエッチングプロセスを用いることなくサブストレートを構造化することに対して、改善されたサブストレートの処理方法を提案する。 - 特許庁

In the method for coating the vehicle body B, degreasing process, chemical conversion treatment,electrodeposition coating, intermediate coating and top coating are carried out in this order.例文帳に追加

本発明の車両ボディＢの塗装方法では、脱脂及び化成処理、電着塗装、中塗り塗装、上塗り塗装をこの順序で実施する。 - 特許庁

But basically, this part’s question is aiming on the claim whose subject matter is chemical product and is characterized by manufacturing process. 例文帳に追加

ただし、基本的に、この項目の質問は、主題が化学製品で、製造方法によって特徴付けられる請求項を対象としている。 - 特許庁

Any patent right related to intermediates, catalysts, or manufacturing equipment used in the manufacturing process of any drug product or agricultural chemical is excluded from patent term extensions. 例文帳に追加

医薬品又は農薬の製造に使用される、中間体、触媒及び製造装置に係る特許権は、延長の対象にならない。 - 特許庁

To provide a new non-covalently bonded macromolecule of a simple chemical structure that can be prepared without using a complicated process, and a device for employing the same.例文帳に追加

化学構造がシンプルで且つ合成が複雑な工程を必要としない新規な非共有結合高分子およびそのデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently producing a compound of chemical formula (II) [wherein, E is a 1-6C alkyl group which may have a substituent] by a short process without using a silica gel and methylene chloride.例文帳に追加

下記化学式（ＩＩ）の化合物の短工程・高効率で、シリカゲルおよび塩化メチレンを使用しない製造法を見出すこと。 - 特許庁

To provide a substrate cassette which is applicable to chemical vapor deposition process and has an electrode array therein adaptive to attachment of a plurality of substrates.例文帳に追加

化学気相蒸着工程に適用でき、内部の電極配列が複数の基板の装着に対応できる基板固定ケースを提供する。 - 特許庁

In this process, a chemical composition consists of A: 18-70%, B: 1-20%, C: 25-80% by atomic% on the basis of metals in element state.例文帳に追加

このとき、元素状態の金属に基づいて、原子％で、Ａ：１８〜７０％、Ｂ：１〜２０％、Ｃ：２５〜８０％の化学組成とする。 - 特許庁

To provide a process for forming silicon carbo-nitride films on a substrate through chemical vapor deposition of a silicon carbo-nitride film forming precursor.例文帳に追加

炭窒化ケイ素膜形成用前駆体の化学気相成長により基材上に炭窒化ケイ素膜を形成するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical fiber for photoelectric sensor which has sufficient chemical resistance and of which length can be controlled by one cutting process.例文帳に追加

十分な耐薬品性を備えるとともに、１回の切断作業で長さの調節をすることのできる光電センサ用光ファイバを提供する。 - 特許庁

To provide a source gas feeding device capable of correctly adjusting the pressure of a source gas when a thin film is deposited by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

化学蒸着法による薄膜蒸着時に、ソースガスの圧力を正確に調節することができるソースガス供給装置を提供する。 - 特許庁

GARBAGE RECYCLE METHOD BY CHEMICAL PROCESS, MATERIAL PRODUCED BY THE SAME METHOD, AND GARBAGE TREATING RECYCLE SYSTEM TO PERFORM THE SAME METHOD例文帳に追加

生ゴミの化学的処理によるリサイクル方法並びにその方法で製せられた資材及びその方法を実施するための生ゴミ処理リサイクルシステム - 特許庁

PARTICLE-AGGLOMERATED TYPE MONOLITHIC ORGANIC POROUS ARTICLE, ITS MANUFACTURING PROCESS, PARTICLE-AGGLOMERATED TYPE MONOLITHIC ORGANIC POROUS ION EXCHANGER AND CHEMICAL FILTER例文帳に追加

粒子凝集型モノリス状有機多孔質体、その製造方法、粒子凝集型モノリス状有機多孔質イオン交換体及びケミカルフィルター - 特許庁

During this process, chemical substances such as the aldehydes 15 and the malodorous components 16 are adsorbed by the catechin deposited on the fiber surface of the filter medium 11.例文帳に追加

このとき、アルデヒド類１５等の化学物質や悪臭成分１６は、濾材１１の繊維表面に担持されたカテキンによって吸着される。 - 特許庁

To improve annular strength of glass material for an information recording glass substrate without performing process of chemical reinforcement and to improve alkali resistance.例文帳に追加

情報記録ガラス基板用のガラス材料の円環強度を化学強化処理を行うことなく改善するとともに、耐アルカリ性を改善する。 - 特許庁

To surely prevent deposition of particles such as minute iron powder or the like on a glass substrate in a chemical reinforcement process by a simpler and easier method.例文帳に追加

化学強化工程において、微小な鉄粉等がパーティクルのガラス基板に付着することをより簡便な方法で確実に防止する。 - 特許庁

To perform diamond coating controlled in film quality to a relatively thin film on a rugged surface of an industrial cutting tool by a hot filament CVD (Chemical Vapor Deposition) process.例文帳に追加

熱フィラメントＤＶＤ法より工業用刃物に凹凸面の比較的薄膜に膜質制御されたダイヤモンドコーティングを行うこと。 - 特許庁

The method includes a primary liquid chemical spraying process 153 of applying a liquid chemical to the dry paper S1 in a spray state between the Yankee dryer 331 and the winding device 341 of the primary web rolls, and a secondary liquid chemical applying process of laminating primary continuous sheets delivered from the primary web roll JR along the continuing direction and applying the liquid chemical onto the laminated continuous sheets by a flexographic printing system or a gravure printing system.例文帳に追加

前記ヤンキードライヤー３３１と前記一次原反ロールの巻取り装置３４１との間において、前記乾紙Ｓ１に対して薬液を噴霧状態で付与する第一次薬液噴霧工程１５３と、前記一次原反ロールＪＲから繰り出される一次連続シートをその連続方向に沿って積層して積層連続シートに対して薬液をフレキソ印刷方式又はグラビア印刷方式によって塗布する第二次薬液塗布工程とを有する。 - 特許庁

This method includes a substrate rotating process of rotating one substrate held by a spin chuck, a preceding pure water supply process of supplying pure water on the substrate surface rotated by the substrate rotating process, and a chemicals liquid supply process of supplying a chemical liquid on the substrate surface rotated by the substrate rotating process.例文帳に追加

この方法は、スピンチャックで１枚の基板を保持して回転させる基板回転工程と、この基板回転工程によって回転されている基板の表面に純水を供給する前純水供給工程と、基板回転工程によって回転されている基板の表面に薬液を供給する薬液供給工程とを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the multilayer printed-wiring board includes a roughening process for roughening a surface 4a by bringing a chemical roughening liquid into contact with the surface 4a of the wiring circuit 4, an oxidation process for oxidizing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the roughening process, and a reduction process for reducing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the oxidation process.例文帳に追加

実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法は、配線回路４の表面４ａに化学粗化液を接触させて表面４ａを粗化する粗化工程と、粗化工程の後に配線回路４の表面４ａを酸化する酸化工程と、酸化工程の後に配線回路４の表面４ａを還元する還元工程とを含む。 - 特許庁

To provide a multilayer coating film deposition method including a substrate rust prevention process capable of exhibiting rust preventing property, adhesion and coating film appearance equal to or above those in a conventional chemical conversion treatment process, and suitable for electrodeposition coating excellent in economic efficiency and environmental conservation by eliminating the conventional complicated and expensive rust preventing chemical conversion treatment process (for example, zinc phosphate treatment process).例文帳に追加

従来の煩雑かつ高コストの防錆化成処理工程（例えば、リン酸亜鉛処理工程など）を省略し、なおかつ、その代替として、従来の化成処理工程と同等もしくはそれ以上の優れた防錆性、密着性ならびに優れた塗膜外観を発現させることができ、さらに、経済性および環境保全性に優れた、電着塗装に適した下地防錆工程を含む複層塗膜形成方法の提供。 - 特許庁

In a method for separating and recovering the carbon dioxide from the by-produced gas or the like generated at an iron manufacturing factory by a chemical absorption process, the low-quality exhaust heat generated at the iron manufacturing factory is used or applied for a process for separating the carbon dioxide by heating a chemical absorption solution after absorption of the carbon dioxide from the gas by the chemical absorption solution.例文帳に追加

製鉄所で発生する副生ガスなどから化学吸収法にて二酸化炭素を分離回収する方法であって、当該ガスから化学吸収液で二酸化炭素を吸収後、化学吸収液を加熱し二酸化炭素を分離させるプロセスに製鉄所で発生する低品位排熱を利用または活用することを特徴とする二酸化炭素の分離回収方法。 - 特許庁

Further, a top coat is deposited on the barrier layer by a chemical vapor deposition (CVD) process or a method where it is coated with a ceramic precursor and ceramic slurry, and is fired.例文帳に追加

さらに、バリア層に、化学蒸着法（ＣＶＤ）または、セラミック前駆体およびセラミックのスラリでコーティングし、焼成する方法で、トップコートを堆積させる。 - 特許庁

In the chemical mechanical polishing process, the surface of the polishing pad is conditioned with at least by first and second conditioning disks whose surface conditions are different from each other.例文帳に追加

化学機械研磨工程の際、研磨パッドの表面を表面状態の異なる少なくとも第1および第２のコンディショニングディスクによりコンディショニングする。 - 特許庁

To provide a natural ground-solidifying chemical which does not need a complicated synthesis process, has an excellent foaming property, and surpresses the increase of viscosity when mixed.例文帳に追加

煩雑な合成工程を必要とせず、優れた発泡性を有し、しかも混合時に粘度の上昇が抑制された地山固結用薬液を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method having an easy and low-cost process and excellent yield, for obtaining a color filter having excellent heat resistance, chemical resistance, size precision or the like.例文帳に追加

耐熱性、耐薬品性、寸法精度等が良好なカラーフィルタを得るための、工程が簡易かつ低コストで歩留りが良い製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a model forming method which forms a model with high precision and a small calculation load on the basis of physical, chemical mechanism of a process.例文帳に追加

プロセスの物理・化学的なメカニズムに基づいて高精度かつ計算負荷の小さいモデルを作成することができるモデル作成方法を提供すること - 特許庁

To provide a method and a system for directly charging a receptor and reducing the unnecessary production of reactive oxidizing chemical species in a charging process.例文帳に追加

レセプタを直接帯電させることができまた帯電プロセスにおける反応性酸化性化学種の不要発生を減らせる方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

A material mixture is treated so as to optimize physical and chemical characteristics by combination of the control of a process parameter which brings decrease in the temperature at which clinker is produced.例文帳に追加

クリンカー生成温度の低減をもたらす、プロセスパラメーターの制御と組み合わせて物理化学的特性を最適化するように原料混合物を処理する。 - 特許庁

To provide a method of producing silver nanoparticles (average grain size 1 to 20 mm) for a silver paste having a good specific resistance of a hardening film at a high yield by a chemical reduction process.例文帳に追加

硬化膜の比抵抗の良好な銀ペ−スト用銀ナノ粒子（平均粒径１〜２０nm）を化学還元法により高収率で製造する方法の提供。 - 特許庁

In the subsequent quality changing/flattening process, the chemical characteristics of the plurality of pillar like parts 1c are changed and the part 1a of the surface is flattened.例文帳に追加

続く変質平坦化工程において、複数の柱状部分１ｃの化学的特性が変質し、かつ、前記表面の一部１ａが平坦化される。 - 特許庁

To provide a dry ashingless cleaning system of a complete chemical-free/pure-water-free type in a semiconductor wafer cleaning process, and to provide a cleaning method therefor.例文帳に追加

半導体ウエハー洗浄プロセスにおける、完全ケミカルフリー・純水フリータイプのドライ型アッシングレス洗浄システム並びに洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching device easy in process control and controllable under a fixed condition about etching performance with a small amount of a chemical, and an etching solution management method.例文帳に追加

プロセス管理が容易で、少量の薬液でエッチング性能を一定条件下に制御可能なエッチング装置及びエッチング液管理方法を提供する。 - 特許庁

The invention also relates to a process for determining the chemical affinity of an element or a set of elements B for a matrix A with the descriptor DAB.例文帳に追加

本発明はまた、デスクリプタＤ_ＡＢによるマトリックスＡに対する元素または元素Ｂの全体の化学親和力の測定方法を提供する。 - 特許庁

After discharging the chemical liquid by the rotation of the substrate, a first rinse process is carried out by charging up pure water on the substrate from a pure water nozzle 6.例文帳に追加

基板の回転によって薬液を排液した後、純水ノズル６から基板上に純水を液盛りして１回目のリンス工程が行われる。 - 特許庁