「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Other chemical, toxicological, physical, and source information must be used as part of the overall assessment process.例文帳に追加

他の化学的，毒物学的，物理学的および源泉情報は，アセスメント過程全般の一部として用いられなければならない。 - 英語論文検索例文集

It is preferable that, e.g., the vapor deposition process is a chemical vapor deposition (CVD) or the covering layer is made of carbon.例文帳に追加

前記蒸着法が化学的蒸着法（ＣＶＤ）である態様、前記被覆層がカーボンよりなる態様、などが好ましい。 - 特許庁

Using float sheet glass as a glass plate material 5, it is subjected to a disk machining process 6 and an edge machining process 7, strengthened in a chemical process 8, polished in a surface polishing process 9, and subjected to an acid washing process 10a and an alkali-cleaning process 10b, then finally washed in the last washing process 11.例文帳に追加

フロート板ガラスをガラス素板５とし、円盤加工工程６及び端面加工工程７を施した後、化学強化処理工程８で基板強化を行ない、次いで表面研磨工程９で精密研磨を行ない、その後表面洗浄処理工程１０で酸洗浄処理１０ａ及びアルカリ洗浄処理１０ｂを行い、最後に仕上げ洗浄工程１１で仕上げ洗浄処理を行う。 - 特許庁

To provide a method for reducing chloroform in a chemical pulp bleaching process using an acid treatment capable of decomposing chloroform included in a drainage and an exhaust gas in the bleaching process by reducing the used amount of a chlorine-based bleaching agent generally used in the chemical pulp bleaching process and effectively using usual facilities.例文帳に追加

従来化学パルプ漂白工程において使用されている塩素系漂白薬品の使用量を削減し、既存の設備を有効に利用し、漂白工程の排水および排ガス中のクロロホルムを分解できる酸処理を用いた化学パルプ漂白工程におけるクロロホルムの低減方法を提供する。 - 特許庁

A first mixing process for mixing the granular crude rubber with a solid chemical by a low temperature mixer and a second mixing process in which a liquid chemical is added into the rubber obtained in the first mixing process, and the mixture is mixed until the temperature of the mixture reaches at least room temperature are carried out by using the rubber kneading apparatus.例文帳に追加

顆粒状の生ゴムと固体薬品を低温ミキサーにより混合する第１の混合工程と、第１の混合工程により得られたゴムに、さらに液体薬品を添加し、少なくとも常温になるまでの間で混合する過程を有する第２の混合工程とを含むことを特徴とするゴム練り装置である。 - 特許庁

The abrasive pad for a chemical-mechanical polishing process is pre-processed by soaking in a hydrophilic processing fluid for a prescribed time before it is mounted onto the chemical-mechanical polishing device.例文帳に追加

化学機械研磨工程において使用される研磨パッドを化学機械研磨装置に装着する前に、親水性の処理液に所定時間浸漬して、前処理することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a positive resist material having both chemical amplification and non-chemical amplification functions, which has high sensitivity and high resolution in exposure with high-energy radiation, and a patterning process using the same.例文帳に追加

高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有する化学増幅機能と非化学増幅機能の両方を有するポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing pad, capable of suppressing occurrence of scratches on the surface of a polished object in a chemical mechanical polishing process and capable of giving the surface of a polished object having superior surface flatness.例文帳に追加

化学機械研磨工程における被研磨面のスクラッチ発生を抑制でき、かつ表面平坦性に優れた被研磨面を与えることができる化学機械研磨パッドを提供すること。 - 特許庁

Since a chemical liquid such as a hydrofluoric acid as well as the pure water can be supplied to the process tank 10, the substrate W can be washed in pure water and treated in the chemical liquid within a single chamber 5.例文帳に追加

処理槽１０には純水の他にフッ酸等の薬液を供給することもできるため、一つのチャンバ５内にて基板Ｗの純水水洗処理や薬液による処理を行うこともできる。 - 特許庁

The word “refer to" mentioned above means to define clearly or explain the compound by the chemical name, the molecular formula (or structural formula),the physical/chemical parameter(s)or the manufacturing process(including the raw materials to be used). 例文帳に追加

ここでいう「言及」とは、当該化合物の化学名や分子式（又は構造式）、物理化学的パラメータ又は製法（原料を含む）を明確に定義しているか、或いは説明していることを指す。 - 特許庁

The word “refer to” mentioned above means to define clearly or explain the compound by the chemical name, the molecular formula (or structural formula), the physical/chemical parameter(s) or the manufacturing process (including the raw materials to be used). 例文帳に追加

ここでいう「言及」とは、当該化合物の化学名や分子式（又は構造式）、物理的/化学的パラメータ又は製法（原料を含む）を明確に定義しているか、或いは説明していることを指す。 - 特許庁

A component of the operating gas in the initial stage of a compression process used for the chemical reaction SIM is read in from a chemical reaction DB 12 on the basis of a result of the CFD operation in the intake stroke (result processing *1).例文帳に追加

吸気行程でのＣＦＤ演算の結果等に基づいて、化学反応ＤＢ１２から化学反応ＳＩＭに用いる圧縮過程初期の作動ガスの成分を読み込む（結果処理＊１）。 - 特許庁

To provide a chemical agent for papermaking improving yield and productivity in the papermaking process of paper and paperboard without impairing formation of paper; and a method for papermaking using the chemical agent.例文帳に追加

紙及び板紙の製紙工程において、地合い性を損なうことなく、歩留の向上や生産性の向上ができる製紙用薬剤並びにそれを用いた抄紙方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The product purchase maker 400 designates a product manufacturer name and a chemical substance name and requests issuing of the "in-process nonuse certificate of chemical substance" from a PC terminal 410 to a management server 101.例文帳に追加

製品購入メーカ４００では、ＰＣ端末４１０から管理サーバ１０１に、製品製造メーカ名と、化学物質名を指定して「化学物質の工程内不使用証明書」の発行を要求する。 - 特許庁

To provide a method of purifying chemical substance which can efficiently inactivate and eliminate endotoxin contained in chemical substances (a crude product) such as a medical polymer compound, and also can suppress decomposition of a desired chemical substance which may occur at the above process.例文帳に追加

医用高分子化合物などの化学物質（粗製物）に含まれているエンドトキシンを効率よく不活化および除去することができ、さらにはその際における所望の化学物質の分解を抑制することもできる化学物質の精製方法を提供すること。 - 特許庁

iii) Where a person intends to manufacture or import a new chemical substance as a reagent (which means a chemical substance used for the detection or quantification of a substance by a chemical process, or for the experimental synthesis of a substance, or for the measurement of the physical characteristics of a substance; the same shall apply hereinafter 例文帳に追加

三　試薬（化学的方法による物質の検出若しくは定量、物質の合成の実験又は物質の物理的特性の測定のために使用される化学物質をいう。以下同じ。）として新規化学物質を製造し、又は輸入しようとするとき。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a basket made able to safely chemical-process flying radioactive solid material inside by wrapping flying radioactive solid material in transporting to a chemical-processing facility and throwing as it is in a solving tank in the chemical-processing facility after transporting.例文帳に追加

飛散性の放射性固体物質を化学処理施設へ運搬する際、それらを包装し、運搬後はそのまま化学処理施設の溶解槽中に投入して内部の飛散性の放射性固体物質を安全に化学処理できるようにしたバスケットを提供する。 - 特許庁

The barrier metal film is formed within chemical vapor deposition process chambers P11, P12, P13 which are attached to the first transfer chamber T1, and the metal film is formed within chemical vapor deposition process chambers P21, P22 which are attached to the second transfer chamber T2.例文帳に追加

また、障壁金属膜は、前記第１トランスファーチャンバーＴ１に付着されたＣＶＤ工程チャンバーＰ１１，Ｐ１２，Ｐ１３内で形成され、金属膜は第２トランスファーチャンバーＴ２に付着されたＣＶＤ工程チャンバーＰ２１，Ｐ２２内で形成される。 - 特許庁

A vertical constraint graph matching a chemical reaction process is selected from among vertical constraint graphs, stored in advance, in a process database 14a, and the data of each step represented by the selected vertical constraint graph is searched for the descriptions of chemical substances.例文帳に追加

予め工程データベース１４ａに記憶しておいた上下制約グラフの中から化学反応工程に適合する上下制約グラフを選択し、この選択した上下制約グラフにより表される各工程においてそのデータから化学物質の記述を探索する。 - 特許庁

To prevent adhesion of the mist of processing liquid to a substrate when it is dried through spin system by performing a chemical processing process and a chemical drying process in same processing tank.例文帳に追加

液晶表示装置等の表示パネルを構成する基板を、スピン方式により洗浄する方法及びそのための装置において、スピン方式による乾燥処理を行う際に洗浄液のミストが基板に付着することを充分に防止できるものを提供する。 - 特許庁

In the case of manufacturing bulk acoustic elements by thin film layers formed on a substrate by a chemical vapor deposition process, by locally supplying a medium for promoting the chemical vapor deposition process to the substrate, the operating frequencies of the bulk acoustic wave elements can be tuned uniformly.例文帳に追加

基板上に化学蒸着法によって形成した薄膜層によってバルク音響波素子を作製する際、化学蒸着の促進媒体を基板上の局所に供給することにより複数のバルク音響波素子の動作周波数を均一に同調する。 - 特許庁

To provide a separation and recovery method of carbon dioxide capable of reducing circulation quantity of a chemical absorption liquid circulating between a gas absorption process and a regeneration process by raising carbon dioxide loading of the chemical absorption liquid by a simple method.例文帳に追加

簡易な方法により化学吸収液の二酸化炭素ローディングを高くしてガス吸収工程と再生工程との間を循環させる化学吸収液の循環量を少なくすることが可能な二酸化炭素の分離回収方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR SETTING PARAMETER OF PROCESS FEEDBACK CONTROL, DEVICE FOR THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING CHEMICAL PRODUCT, DEVICE FOR THE SAME AND STORAGE MEDIUM WITH PROGRAM FOR PROCESS FEEDBACK CONTROL例文帳に追加

プロセスフィードバック制御のパラメータ設定方法、同設定装置および化学製品の製造方法、同製造装置ならびにプロセスフィードバック制御用プログラムを記録した記憶媒体 - 特許庁

This method of removing the chemical substances comprises a first process for physically treating a water sample, and a second process for bringing the physically treated water sample into contact with an adsorbent.例文帳に追加

化学物質の除去方法が、該水試料に物理的処理を施す第１の工程、及び、物理的処理された水試料を吸着剤に接触させる第２の工程からなる。 - 特許庁

The rugged form 15 can be realized through a method wherein the rear surface 11B of the semiconductor chip 11 is subjected to a cutting process using a blade or the like or a selective chemical etching process.例文帳に追加

凹凸形状１５は例えば半導体チップ１１の裏面１１Ｂに対し、ブレード等による切削工程、または選択的に化学的にエッチングすることにより実現する。 - 特許庁

A protective layer is formed on one surface of a diamond film layer for reducing the deformation of the diamond film layer in the process of forming the diamond film layer by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

化学蒸着法によってダイヤモンド・フィルム層を形成する工程で、ダイヤモンド・フィルム層の変形を低減するために、保護層がダイヤモンド・フィルム層の1つの表面上に形成される。 - 特許庁

To provide a polishing method of an SiC single crystal substrate by which the presence of an affected layer can be grasped in a CMP (chemical mechanical polishing) process and the continuation and finish of the CMP process can be easily determined.例文帳に追加

ＣＭＰ工程中に加工変質層の有無を把握でき、ＣＭＰ工程の継続か終了を容易に判断できるＳｉＣ単結晶基板の研磨方法を提供する - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) film deposition process where a metal film can be deposited by CVD according to oxidation-reduction reaction with sufficient reducibility without passing through a complicated process.例文帳に追加

複雑なプロセスを経ることなく十分な還元性をもって酸化還元反応によるＣＶＤにより金属膜を成膜することができるＣＶＤ成膜方法を提供すること。 - 特許庁

The foamable sheet consists of (A) a polyolefin resin, (B) a chemical foaming agent and, if necessary, (C) an inorganic filler and is manufactured by a continuous kneading process and a sheeting and fixing process.例文帳に追加

（Ａ）ポリオレフィン樹脂、（Ｂ）化学発泡剤、及び必要に応じて、（Ｃ）無機充填剤からなり、混練工程とシート化固定が連続式であることを特徴とする発泡性シートの製法。 - 特許庁

In an ultrapure-water rinsing process (a chemical washing process is contained as required), the silicon wafer is treated by second ultrapure water having a TOC value smaller than the first ultrapure water.例文帳に追加

また、超純水リンス工程（必要により薬液洗浄工程を含む）では、第１の超純水に比べてＴＯＣ値が小さい第２の超純水によりシリコンウェーハを処理する。 - 特許庁

The cleaning agent is used after the chemical-mechanical polishing process in the semiconductor device manufacturing process, and contains (A) an organic acid and (B) a clathrate compound.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）有機酸、及び、（Ｂ）包接化合物を含有する洗浄剤である。 - 特許庁

Successively, a second stripping composition containing methanol, as a second chemical liquid for stripping the resist or the like, is mixed with the SCF to prepare a second process fluid, and the second process fluid is supplied to the process chamber (step S7).例文帳に追加

続いて、レジスト等を剥離するための第２薬液としてメタノールを含有する第２剥離用組成物がＳＣＦと混合されて第２処理流体が調製され、この第２処理流体が処理チャンバーに供給される（ステップＳ７）。 - 特許庁

A steel for carburizing containing 0.1-0.4 mass% C and worked into the shape of parts, is treated with the chemical surface hardening-treating process, the shot-peening process and the hard film treating process, in order, to produce the steel parts.例文帳に追加

Ｃを０．１〜０．４質量％含有し、かつ部品形状に加工された浸炭用鋼を、化学的表面硬化処理工程、ショットピーニング工程、及び硬質皮膜処理工程の順に処理することによって鋼部品を製造する。 - 特許庁

A new 6-alkoxy-2-naphthalenethiol shown by chemical structure (1) is produced from a commodity type alkali metal salt (4) of 6-naphthol-2-sulfonic acid as a starting material through etherification (process-1), chlorosulfonation (process-2) and reduction (process-3).例文帳に追加

汎用の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩（４）を出発原料にして、エーテル化（工程１）、スルホニルクロライド化（工程２）および還元（工程３）の各工程を経て、新規な６−アルコキシ−２−ナフタレンチオール（１）を製造する。 - 特許庁

A high electron mobility InP thin film is grown epitaxially by a material supply process for suppressing intermediate reaction in epitaxial growth of a compound semiconductor thin film multilayer wafer, a thermal decomposition process, and a chemical reaction process.例文帳に追加

化合物半導体薄膜積層ウエハのエピタキシャル結晶成長における中間反応を抑制する原料供給工程と、熱分解工程、化学反応工程により、高い電子移動度のInP薄膜を結晶成長させる。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor substrate which reduces variation in polishing speed in a chemical mechanical polishing process (CMP process) for polishing the surface of a film provided on a semiconductor substrate by a polishing pad, and facilitates the process control.例文帳に追加

半導体基板上に設けられた膜の表面を、研磨パッドによって化学機械的に研磨するプロセス（ＣＭＰプロセス）における研磨速度のバラツキを低減し、プロセス制御が容易な半導体基板の研磨方法を提供すること。 - 特許庁

The process may be transferred from the rough polishing process to the chemical polishing process, by changing over the liquid supplied between the silicon wafer, and polishing the cloth from slurry for a polishing to the working liquid in the case of the carrying-out of the method.例文帳に追加

また、本発明を実施するに際して、シリコンウェーハと研磨クロスとの間に供給する液体を、研磨用スラリから、加工液に切り換えることによって、粗研磨工程から化学的研磨工程に移行させてもよい。 - 特許庁

To provide a regenerating process system for a color filter substrate, capable of increasing facility efficiency, reducing an amount of chemical liquid required for a regenerating process by a processing device exclusive for regeneration, and preventing cracks or the like in a substrate during a process exclusive for regeneration.例文帳に追加

設備効率を上げ、再生専用処理装置による再生処理に要する薬液の削減と再生専用処理時の基板の割れ等の発生を防ぐことを可能とするカラーフィルタ用基板の再生処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a barrier filter useful for aseptically discharging both gaseous and liquid fluids from a chemical process system.例文帳に追加

流体である気体および液体の両方を化学プロセスシステムから無菌状態で排出するのに役立つバリヤフィルターを提供する。 - 特許庁

To obtain a compound which can not be manufactured by a chemical synthetic process or is difficult in manufacturing conventionally, from a natural product.例文帳に追加

化学合成法では製造できなかったり、または製造困難な化合物を天然物中から収得することが求められている。 - 特許庁

The chemical is added to the lower layer part of a packed bed in a sintering machine or to a sole ore, thus suppressing occurrence of dioxines in a sintering process.例文帳に追加

焼結機の充填層下層部か、床敷鉱に薬剤を添加して、焼結工程におけるダイオキシン類の生成を抑制する。 - 特許庁

To provide a source gas feeding device where, upon thin film deposition by a chemical vapor deposition process, the flow rate of a source gas can be regulated.例文帳に追加

化学蒸着法による薄膜蒸着時に、ソースガスの流量を調節することができるソースガス供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide conditioner for CMP (Chemical Mechanical Polishing) pad exerting a stable polishing performance in a Cu wiring process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスのＣｕ配線工程において、安定した研磨性能を発揮するＣＭＰパッド用のコンディショナを提供することである。 - 特許庁

To provide a method of producing an improved cerium oxide abrasive suitable for forming a slurry composition suitable for a CMP (chemical mechanical polishing) process.例文帳に追加

ＣＭＰ工程に適したスラリー組成物を形成するのに適した向上した酸化セリウム研磨剤を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fused chemical and physical phenomenon detecting apparatus which can be manufactured inexpensively and easily by using a CMOS manufacturing process.例文帳に追加

ＣＭＯＳ製造プロセスを用いて、安価に、しかも容易に製作ができる融合型化学・物理現象検出装置を提供する。 - 特許庁