「Chemical Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for accelerating a reaction of a chemical substance utilizing an ultrasonic wave without performing an advanced refining process and capable of performing a continuous process from introducing raw materials to recovering a residual gas.例文帳に追加

高度な精製工程を行うことなく、原料投入から残ガス回収まで連続した工程で行うことができる超音波を利用した化学物質の反応促進方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a new manufacturing method of a semiconductor device, which prevents a wiring material from being oxidized when the above wiring material which is easily oxidized such as a copper material is buried in a groove formed in a photoresist and a layer type film, and simplifies a process of performing a chemical and mechanical process on the layer type film.例文帳に追加

溝内に酸化しやすい銅等の配線材料を埋め込む際、前記配線材料の酸化を防ぎ、且つ、工程を簡略化した新規な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new process for directly producing a foam from a polymer latex without requiring a chemical or mechanical foaming agent, and to provide a process for tightly covering a base material with a polymer conveyed by water.例文帳に追加

ポリマーラテックスから化学的又は機械的発泡剤を何ら必要としないで発泡品を直接製造する新規なプロセス、並びに支持体に水によって運ばれたポリマーを密着性被覆するプロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of independently performing density control with little effect by a process liquid because the process liquid density can be directly detected, and accurately performing substrate chemical processing.例文帳に追加

処理液の濃度を直接検出できるため、処理液の温度の影響を殆ど受けずに独立した濃度制御が行え、基板の薬液処理を精度良く行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To permit deep and homogeneous copper etching by removing minute scum, residues, etc. that are hard to remove on a substrate in a chemical process and reforming the surface, and manufacture a high-grade printed circuit board with few process failures.例文帳に追加

薬品工程で基板上の除去しにくい微細なスカム，残渣などを除去し表面を改質して深く均質な銅エッチングを可能にし，高品位の印刷回路基板を工程不良を少なく製造する。 - 特許庁

To provide a method for producing an acrylonitrile-based fiber bundle, by which excess chemical can be effectively squeezed without accompanying scatter of the chemical from a precursor fiber bundle impregnated with the chemical to reduce adhesion between monofilaments in a production process of the acrylonitrile-based precursor fiber bundle for a carbon fiber.例文帳に追加

炭素繊維用アクリロニトリル系前駆体繊維束の製造工程において、薬液を含浸させた前駆体繊維束から過剰の薬液を、薬液の飛散を伴うことなく、効果的に搾液し、単繊維間接着を低減することができるアクリロニトリル系前駆体繊維束の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the case of an invention relating to the creation of a group of novel chemical compounds with a common structural formula, an example of the process of creation of a compound belonging to the group shall be provided and, if the group contains compounds with different chemical radicals, examples of the creation of specific compounds with different chemical radicals shall be provided. 例文帳に追加

共通の構造式を伴う新規の化合物グループの生成に関する発明の場合は，グループに属する化合物の1つの生成の方法の例を記載するものとし，かつ，グループが異なる化学基を有する化合物を包含する場合は，異なる化学基を有する化合物の生成の例を記載するものとする。 - 特許庁

In the injection process of the chemical solution, the turbidity of the raw water is recommended to be used as a control factor for feed-forward controlling the injection rate of the chemical solution, and also residual chlorine concentration in washing drain of the treating unit 12 is recommended to be used as a control factor for feed-back controlling the injection rate of the chemical solution.例文帳に追加

前記薬液の注入過程で、前記原水の濁度は前記薬液の注入率をフィードフォワード制御する制御因子として利用すると共に、処理ユニット１２の洗浄排水の残留塩素濃度は前記薬液の注入率をフィードバック制御する制御因子として利用するとよい。 - 特許庁

To provide a method for monitoring a chemical effect, which can rapidly and surely check the effect of an additive chemical in a pressure flotation operation or a coagulating sedimentation operation of a white water recovering process, and to provide a method for controlling an amount of injection, which accurately controls the amount of injection of the chemical from a result of the monitoring.例文帳に追加

白水回収工程の加圧浮上処理又は凝集沈殿処理において添加される薬剤の効果を迅速かつ確実に確認することができる薬剤の効果監視方法と、その監視結果に基づき該薬剤の注入量を的確に制御する注入量制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide: an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, which is not repeatedly used through a simple process while having superior polishing performance for a metal film of copper etc., a barrier metal film of tantalum etc., and an insulating film; a method of manufacturing the aqueous dispersion for the chemical mechanical polishing; and a method for the chemical mechanical polishing.例文帳に追加

本発明は、銅などの金属膜、タンタルなどのバリアメタル膜、絶縁膜の研磨性能に優れると同時に、簡単な工程を経ることにより繰り返し使用することの可能な化学機械研磨用水系分散体、化学機械研磨用水系分散体の製造方法および化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

The pre-painting treatment apparatus installed in a process before electrodeposition painting has a degreasing and cleaning apparatus A which applies a degreasing treatment and a cleaning treatment to a body 4, and a chemical conversion treatment apparatus B which is prepared in succession to the degreasing and cleaning apparatus A and forms the chemical conversion coating on the body 4 by using a chemical conversion treating liquid.例文帳に追加

電着塗装装置Ｃの前工程に設置される塗装前処理装置であって、ボディ４に脱脂処理及び洗浄処理を施す脱脂洗浄装置Ａと、当該脱脂洗浄装置Ａに連続して設けられ、化成処理液を用いてボディ４に化成被膜を形成する化成処理装置Ｂと、を有する。 - 特許庁

Also its manufacturing method includes the process (1) for making a chemical bond of ligand for measuring object and base carrier to obtain ligand-binding carrier, and the process (2) for making a chemical bond of ligand-binding carrier and charging control substance to obtain a granular carrier for immunoassay.例文帳に追加

ベース担体と測定対象物に対するリガンドとを化学結合させてリガンド結合担体を得る工程（１）、及びリガンド結合担体と荷電調節物質とを化学結合させて免疫測定用粒状担体を得る工程（２）を含むことを特徴とする免疫測定用粒状担体の製造方法を用いる。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing method of a workpiece in a semiconductor device manufacturing process which can progress polishing at a sufficient polishing speed in a planarizing process of a surface to be processed by the chemical mechanical polishing, suppress surface defect such as dishing, and sufficiently suppress a cost in practical usage.例文帳に追加

化学機械研磨による被加工面の平坦化工程において十分な研磨速度で研磨進行し、ディッシング等の表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑えることが出来る、半導体デバイス製造工程における被加工体の化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁

The process of producing steel member by which the steel material is subjected to combined heat treatment comprising a combination of nitriding and high-frequency hardening is characterized in that a chemical conversion treatment process for forming a chemical conversion coating film on a nitrogen compound layer formed on steel by the nitriding is further included before the high-frequency hardening after the nitriding.例文帳に追加

鉄鋼材料に対して窒化処理と高周波焼入れ処理との組み合わせ複合熱処理を施す方法において、窒化処理後高周波焼入れ処理前に、窒化処理により鉄鋼に形成された窒素化合物層上に化成皮膜を形成させる化成処理工程を更に含むことを特徴とする方法。 - 特許庁

This method for the chemical-mechanical polishing comprises a process (a) for heating the temperature of a polishing cloth up to a prescribed temperature by supplying temperature-adjusted liquid such as pure water which is pre-heated to a prescribed temperature, and a process (b) for polishing a workpiece by the chemical-mechanical polishing while supplying slurry over the polishing cloth.例文帳に追加

化学機械研磨方法は、（ａ）研磨布上に温度を調整した液体、例えば所定温度に予備加熱した純水、を供給して研磨布の温度を所定温度まで昇温する工程と、（ｂ）前記研磨布上にスラリを供給して被加工物の化学機械研磨を行なう工程と、を含む。 - 特許庁

The waste treatment method for treating waste which contains the coating material dregs 11 discharged from a coating process, waste water sludge 12 and chemical conversion sludge 13 comprises: a process 22 of mixing the waste water sludge 12 and the chemical conversion sludge 13 into the coating material dregs 11 to make a mixture; and a process 23 of thermally decomposing the mixture with superheated steam to prepare the carbonized product.例文帳に追加

この廃棄物処理方法は、塗装工程から排出される塗料滓１１と、排水汚泥１２および化成スラッジ１３とを含む廃棄物を処理する方法であり、塗料滓１１に対して排水汚泥１２と化成スラッジ１３を混合して混合物を作るステップ２２と、混合物を過熱蒸気により熱分解して炭化物を生成するステップ２３とを備える。 - 特許庁

A process to remove projected type exposure portions 51 of a columnar semiconductor defective portion is performed prior to a laminating process after a substrate removing process, wherein the semiconductor defective portion remains on a second main surface of a layer 50 subject to device forming, without being dissolved by selective chemical etching.例文帳に追加

基板除去工程後において素子化対象層５０の第二主表面に、選択化学エッチングにより溶解されずに残留した柱状半導体欠陥部の突起状露出部分１１を除去する突起除去工程を、貼り合わせ工程に先立って実施する。 - 特許庁

To provide a process analysis program, a process analysis apparatus and an operation simulator apparatus therewith that can implement a process analysis of a system including a plurality of apparatus as to at least one of internal one- to three-dimensional mass transfers, chemical changes, state changes and phase behavior.例文帳に追加

複数の装置を含む系に対する、内部の１〜３次元的な物質移動、化学変化、状態変化および相挙動の少なくとも１つを含むプロセス解析が可能なプロセス解析プログラムならびにプロセス解析装置およびそれを用いた運転シミュレータ装置を提供する。 - 特許庁

This method for saccharification-pretreating the vegetable raw material comprises the process of using Monocotyledoneae as the vegetable raw material and drying the vegetable raw material, the process of crushing for coarsely crushing the dried vegetable raw material, and the process of mechano-chemical treating the coarsely crushed vegetable raw material.例文帳に追加

植物原料として単子葉植物を用い、植物原料を乾燥させる工程と、乾燥させた植物原料を粗粉砕する粉砕工程と、粗粉砕された植物原料をメカノケミカル処理する工程とを含む植物原料糖化前処理方法を提供する。 - 特許庁

The present invention is a process of making the germanium-antimony-tellurium alloy film using the process selected from the group consisting of atomic layer deposition and chemical vapor deposition, wherein a silyltellurium precursor is used as the source of tellurium for the alloy film and is reacted with an alcohol during the deposition process.例文帳に追加

シリルテルル前駆体がゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜のためのテルル源として用いられ、堆積プロセスの際にアルコールと反応する、原子層堆積及び化学気相成長からなる群より選択されるプロセスを用いてゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜を製造する方法が提供される。 - 特許庁

The method for deciding contamination of organic matter includes a process of wiping the surface of the matter using a wiping body capable of wiping off the organic matter, a process of immersing the wiping body, used for wiping the surface of the matter, in water and a process of measuring the chemical oxygen demand quantity of the water in which the wiping body is immersed.例文帳に追加

有機物汚染判定方法は、有機物を拭取り可能な拭取体を用いて物体表面を拭く工程と、物体表面を拭いた拭取体を水に浸漬する工程と、拭取体が浸漬された水の化学的酸素要求量を測定する工程とを含んでいる。 - 特許庁

In forming aluminum electrode foil for an electrolytic capacitor, a process which roughens the aluminum foil in an etching liquid containing at least a chlorine ion to make it etched foil, a chemical cleaning process which removes a deposit from the etched foil, and an anodic oxidation process for the etched foil are carried out.例文帳に追加

電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造するにあたって、少なくとも塩素イオンを含むエッチング液中でアルミニウム箔を粗面化してエッチド箔とするエッチング工程と、エッチド箔から付着物を除去するケミカル洗浄工程と、エッチド箔に対する陽極酸化工程とを行う。 - 特許庁

A first stripping composition containing an amine compound, hydrogen fluoride, a carbonate and a polar organic solvent, as a first chemical liquid for stripping the resist or the like, is mixed with a SCF (supercritical fluid) to prepare a first process fluid, and the first process fluid is supplied to a process chamber (step S4).例文帳に追加

レジスト等を剥離するための第１薬液としてアミン化合物とフッ化水素と炭酸エステルと極性有機溶媒とを含有する第１剥離用組成物がＳＣＦと混合されて第１処理流体が調製され、この第１処理流体が処理チャンバーに供給される（ステップＳ４）。 - 特許庁

In a method of manufacturing the heat conduction material, the material is prepared by a chemical vapor deposition process, a physical vapor deposition process, a melting process, or other material manufacturing methods, and the carbon having the tetrahedron structure may be provided covering the surface of the metal material, or may be mixed into the metal material.例文帳に追加

熱伝導材料の製造方法は、化学気相成長法、物理気相成長法、溶融、またはその他の材料製造方法で完成し、且つ正四面体構造の炭素は金属材料表面を覆ってもよく、金属材料中に混入してもよい。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which restrains wiring metals on the polished surface of a wafer from being corroded by eliminating a time spent for exposing the polished surface of a wafer to an atmosphere from a CMP (chemical mechanical polishing) process up to a cleansing process, to provide a polishing device that realizes the above CMP process, and to provide a polishing system.例文帳に追加

ＣＭＰ終了から洗浄までの間に、ウエーハの研磨面が雰囲気に暴露される時間をなくすことで、研磨面に表出する配線金属の腐食を抑制した半導体装置の製造方法、かかるＣＭＰを実現する研磨装置及び研磨システムを提供する。 - 特許庁

There is provided the diquafosol ophthalmic solution which has a stable physical chemical property even in a production and distribution process and in a preservation process by a patient, in particular, can perform efficient filtering sterilization in the production process, and also has an excellent preservation effect.例文帳に追加

したがって、本発明は、製造および流通過程ならびに患者による保存過程においても安定した物理化学的性質を有し、特に製造過程では効率的なろ過滅菌が可能な上、優れた保存効力をも有するジクアホソル点眼液を提供する。 - 特許庁

Before a plasma ashing section 12 performs an ashing process, a wafer W is carried in a chemical cleaner section 13 and is subjected to resist-surface reforming treatment applied to softening a hard layer formed on the surface of a resist pattern on the surface of the wafer W with a liquid chemical.例文帳に追加

プラズマアッシング部１２によるアッシング処理に先立って、ウエハは、薬液洗浄部１３に搬入されて、ウエハＷ上のレジストパターンの表面に形成されている硬質層を薬液で軟化するためのレジスト表面改質処理を受ける。 - 特許庁

After vapor-depositing PZT on a substrate through the process of metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) to form a preliminary ferroelectric film, the surface of the preliminary ferroelectric film is polished by chemical mechanical polishing, thus forming a ferroelectric thin film on the substrate.例文帳に追加

基板上に有機金属化学気相蒸着工程でＰＺＴを蒸着して予備強誘電体膜を形成した後、予備強誘電体膜の表面を化学機械的研磨工程で研磨して基板上に強誘電体薄膜を形成する。 - 特許庁

To eliminate the sticking of unnecessary materials on the surface of a substrate in a chemical washing process and to improve washing effect of the substrate when washing the substrate with a chemical, washing it with pure water in one treating tank.例文帳に追加

１つの処理槽内において基板を薬液で洗浄した後に純水で水洗する場合に、薬液洗浄の過程で不要物が基板の表面に付着することを無くし、基板の洗浄効果を高めることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical which prevents the generation of odorous compounds including carbon disulfide and ammonia in a process for kneading and molding incineration fly ash and controls the elution of heavy metals by the addition of a small amount of it without needing a complex apparatus and a treatment method using the chemical.例文帳に追加

少ない添加量で、複雑な設備を必要としない、焼却飛灰の混練・成形工程で二硫化炭素やアンモニアなどの臭気の発生を防止し、重金属類の溶出を抑制する薬剤及び処理方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing a hydrophilicity polymer includes a reaction process in which an unsaturated acid based compound expressed with chemical formula 1 and a polyether compound expressed with chemical formula 2 are allowed to react with each other in a reactor to obtain the hydrophilicity polymer.例文帳に追加

本発明の親水性重合体の製造方法は、化学式１で表される不飽和酸系化合物と、化学式２で表されるポリエーテル化合物とを反応器中で反応させて親水性重合体を得る反応工程を含む。 - 特許庁

To provide a chemical reactor, reaction chamber, and method for conducting a catalytic chemical reaction including gas phase reactants, which provides less resistance to heat and mass transfer thus creates the opportunity for dramatic reductions in process hardware volume.例文帳に追加

熱移動及び物質移動に対する抵抗が少なく、プロセス設備容積を劇的に減少させるチャンスを創り出す化学反応器及び反応チャンバ及び気相反応物質を有する触媒化学反応を行う方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing method capable of attaining high planarization as well as having high polishing speed even under a low pressure condition, in a chemical mechanical polishing (CMP) method for such as a film to be processed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程における被加工膜等の化学的機械的研磨（ＣＭＰ）において、低圧条件下であっても、高い研磨速度を有し、且つ、高い平坦化を達成しうる化学的機械的研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemical reaction apparatus which has such a structure that a better joined state can be realized by a simple manufacturing process and which can be made more compact and thinner, and to provide a portable power source system using the chemical reaction apparatus.例文帳に追加

簡易な製造プロセスでより良好な接合状態を実現することができる構造であるとともに、一層の小型薄型化が可能な化学反応装置、及び、該化学反応装置を用いたポータブル型の電源システムを提供する。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing method capable of suppressing surface defect including scratches, and sufficiently suppressing a cost in practical usage in a planarizing process of a surface to be polished by the chemical mechanical polishing method.例文帳に追加

化学的機械的研磨方法による被研磨面の平坦化工程において、スクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑える事が出来る化学的機械的研磨方法を提供することを目的とする - 特許庁

To provide a volatile chemical formulation for which a liquid volatile chemical is used, loss by volatilization during a work process is evaded and the selectivity of a material to be used for a container is wide without liquid leakage even when a pinhole or the like is generated on the container.例文帳に追加

この発明は、液体である揮散性薬剤を用いて、容器にピンホール等が生じても液漏れせず、作業工程中の揮散による損失を回避し、かつ、容器に使用する資材の選択性が広い揮散性薬剤製剤を提供する。 - 特許庁

To provide a beverage extraction apparatus which can reliably remove a chemical agent remaining in its air carrying tube for performing a stirring process even when it is cleaned by using the chemical agent during rinse and thereby can improve the quality of beverages.例文帳に追加

リンス時に薬剤を用いて洗浄する場合でも、攪拌工程を行うためのエア搬送チューブに残留する薬剤を確実に除去することができ、それにより、飲料の品質を高めることができる飲料抽出装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, use of a compound culture system comprising a culture system including the thus obtained cell and a cell having the function of absorbing the chemical substance enables continuously and efficiently assaying the endocrine disruptive effect of the chemical substance after undergoing biological absorption or metabolic process.例文帳に追加

さらに得られた細胞の培養系と化学物質の吸収機能を有する細胞との複合培養系により、化学物質の吸収・代謝プロセスを経た内分泌撹乱作用の連続的かつ効率的な測定が可能になる。 - 特許庁

This forming method is characterized by inclusion of a process in which chemical mechanical polishing is performed on a polycrystalline silicon layer and an interlayer dielectric layer until a hard mask nitride film is exposed by means of a chemical mechanical polishing slurry for oxide films with a pH of 2 to 7 including an oxidizer.例文帳に追加

酸化剤を含むｐＨ２〜７の酸性の酸化膜用ＣＭＰスラリーを利用し、ハードマスク窒化膜が露出するまで多結晶シリコン層及び層間絶縁膜層に対するＣＭＰ工程を行う段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

As a result, the liquid chemical having small bubble content is supplied to the liquid chemical discharge part and the high quality coating film is formed and, for example, in a photolithography process in the manufacture of a semiconductor, the yield is improved by decreasing pattern defects.例文帳に追加

その結果、薬液吐出部には気泡の含有率が少ない薬液が供給され、良質の塗布膜を形成することができ、例えば半導体の製造におけるフォトリソグラフィー工程においてパターン不良による歩留まりが向上する。 - 特許庁

To provide a method for regenerating an electrolytic solution that has been used in an electro-chemical machining process for a metallic material containing chromium and contains a nitrate as a main component, into an electrolytic solution of high purity, by removing impurities such as hexavalent chromium without passing the electrolytic solution through a complicated process.例文帳に追加

クロムを含む金属材料の電解加工に使用した、硝酸塩を主成分とする電解液を、複雑な工程を経ることなく、六価クロムなどの不純物を除去して高い純度の電解液に再生させる。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition having improved dependence on a thin-dense pattern and usable in an ultramicrolithographic process and another photofabrication process for producing VLIS and high capacity microchips.例文帳に追加

疎密パターン依存性が改善され、超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケ−ションプロセスに使用することができる化学増幅型の感放射線性レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an in-situ growth method of a polycrystalline thin film permitting the growth of a polycrystalline Si thin film without a separate post-annealing process and dehydrogenation process by using a catalytic chemical vapor deposition apparatus.例文帳に追加

触媒化学気相蒸着装置を利用して別途の後熱処理工程及び脱水素工程なしにも多結晶質Ｓｉ薄膜の成長が可能になるようにした多結晶質薄膜のインサイチュー成長方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for protecting the internal component of a semiconductor treatment device such as a plasma reactor or a reactive species generator from physical damage and/or chemical damage in an etching process and/or a cleaning process.例文帳に追加

エッチングプロセス及び／又はクリーニングプロセス中の物理的損傷及び／又は化学的損傷から、プラズマ反応器又は反応性種発生器等の半導体処理装置の内部コンポーネントを保護する装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for bleaching chemical pulp for paper manufacturing through reducing chloroform levels produced in the bleaching process by cutting the use of a rtypochlorite as the chloroform source while maintaining pulp quality and low bleaching process cost.例文帳に追加

製紙用化学パルプ漂白工程に於いて、低コストかつパルプ品質を維持しながらクロロホルム発生源となる次亜塩素酸塩使用量を削減し、漂白工程で発生するクロロホルム量を減少させる方法を提供する。 - 特許庁