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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Chemical Processの意味・解説 > Chemical Processに関連した英語例文

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Chemical Processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1445



例文

To provide a chemical for forming a photocatalyst layer not requiring the process of heating at a high temperature and capable of being applied at a site.例文帳に追加

高温での加熱の必要のない、現場塗工が可能な光触媒層形成用薬剤を提供すること。 - 特許庁

To provided a method for optically inspecting progression of a physical and/or chemical process proceeding on a surface of a member.例文帳に追加

部材の表面上で進行する物理および/または化学プロセスの経過を光学的に検査する方法を提供する。 - 特許庁

After the end of chemical treatment process to a wafer W, a shielding board 3 is descended from an isolate position to a proximity position.例文帳に追加

ウエハWに対する薬液処理工程の終了後、遮断板3が離間位置から近接位置に下降される。 - 特許庁

In certain embodiments, the process temperature is maintained at a temperature of about 350°C or lower during the chemical vapor deposition to fill the feature.例文帳に追加

或る実施例に於いて、工程温度は特徴部充填の化学蒸着の間約350°C以下に維持される。 - 特許庁

例文

The other objective method for producing the molded form involves incorporating a needle filler and using a chemical curing process.例文帳に追加

また、針状フィラーを添加し、ケミカルキュア法を用いることを特徴とする、ポリイミド管状成形体の製造方法である。 - 特許庁


例文

To provide a method of substantially enhancing the selectivity of the chemical-mechanical polishing(CMP) planarizing process.例文帳に追加

本発明は、化学機械研磨(CMP)プレーナー化処理の選択性を実質的に増加させる方法の提供を目的とする。 - 特許庁

Then, a smoothing process of smoothing the surface of the wafer W by polishing it into a mirror face by a CMP(chemical mechanical polishing) device 3 is carried out.例文帳に追加

そして、ウエハW表面をCMP装置3で鏡面研磨して平滑化する平滑化工程を実行する。 - 特許庁

A plasma reinforced chemical vapor deposition process is applied to deposit a thin fluorocarbon layer on a surface of the substrate.例文帳に追加

プラズマ増強化学蒸着プロセスを適用することにより、薄いフルオロカーボン層を基板の表面上に堆積させる。 - 特許庁

Furthermore, the resin layers contain conductive particles and the carbon nanotube is made by a chemical vapor growth process.例文帳に追加

さらに、樹脂層が導電性粒子を含有し、カーボンナノチューブが化学的気相成長法によって作製されている。 - 特許庁

例文

Hydrogen peroxide is added to the waste bleaching water containing the chloroform discharged in the bleaching process step of the chemical pulp for paper making.例文帳に追加

製紙用化学パルプの漂白工程で排出されるクロロホルム含有漂白排水に過酸化水素を添加する。 - 特許庁

例文

To provide a method for producing a metal ruthenium-containing thin film by a chemical vapor deposition process free from the intrusion of ruthenium oxide.例文帳に追加

酸化ルテニウムの混入がない、化学気相蒸着法による金属ルテニウム含有薄膜の製造法を提供する。 - 特許庁

the process of applying pressure, friction, temperature change, or chemical substances to the skin to lessen or block a feeling of pain. 例文帳に追加

圧迫や摩擦、温度変化、化学物質などを皮膚に当てることによって、痛みの感覚を軽減またはブロックする手技。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

To provide a method and a device for detecting the polishing end point of a metal layer in a chemical mechanical polishing process.例文帳に追加

化学機械的研磨操作中に金属層の終了点を検出するための方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for stably depositing a film including a noble metal on a substrate using a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

基板上に貴金属を含む薄膜を化学気相成長法を用いて安定的に堆積する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new non-covalently bonded polymer having a simple chemical structure and requiring no complex process for its synthesis.例文帳に追加

化学構造がシンプルで且つ合成が複雑な工程を必要としない新規な非共有結合高分子を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment and recovery method capable of again reutilizing washing water discharged from a phosphate chemical conversion treatment process as a chemical conversion treatment liquid and washing water at a low cost with high efficiency.例文帳に追加

りん酸塩化成処理工程から排出された水洗水を、再び化成処理液及び水洗水に、低コストで高効率で再利用することができる処理回収方法の提供。 - 特許庁

Further, a manufacturing process of a chemical fiber integral film molding carries out direct extrusion molding of the fused elastomer resin to a chemical fiber rear surface.例文帳に追加

そして、耐熱性を有する化学繊維を各種ラミネートまたは、化繊裏面へ融解した状態のエラストマー樹脂を直接押し出し成型する化繊合体フィルム成形体の製造方法 - 特許庁

A film containing metal is formed on the surface of the aluminum or aluminum alloy by subjecting the surface to chemical conversion treatment using a solution containing metal ions of zirconium, or the like (a chemical conversion treatment process step).例文帳に追加

アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面を、ジルコニウム等の金属イオンを含む溶液を用いて化成処理して金属を含有する皮膜を形成する(化成処理工程)。 - 特許庁

To provide a chemical supply system in which chemical can be supplied stably to a processing unit and various problems in the production process of semiconductor device can be overcome.例文帳に追加

安定して薬液を処理装置に供給することが可能で、半導体装置の製造工程における諸問題を解決することのできる薬液供給装置を提供する。 - 特許庁

The light shielding film 2 is composed of a metal-containing thin film deposited by a vacuum deposition process, a sputtering process, or a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) which hold the treatment temperature of150°C.例文帳に追加

遮光膜2は150℃以下の処理温度を維持できる真空蒸着法、スパッタ法又はプラズマCVD法にて成膜された金属を含む薄膜からなる。 - 特許庁

To provide a process for metal organic chemical vapor deposition for a lead germanium oxide (PGO) thin film and for an annealing process, and also to provide a system for performing them.例文帳に追加

ゲルマニウム酸化鉛(PGO)薄膜材料のための金属有機化学気相成長およびアニーリングプロセス、ならびにそれらを実行するシステム提供すること。 - 特許庁

To perform depositing to a wafer beforehand without adding an excessive process, taking into account the deviance from the ideal planarization condition after a planarization process such as chemical mechanical polishing etc of the wafer.例文帳に追加

余分な工程を付加することなく、ウエハの化学的機械研磨等の平坦化処理後の理想平坦化状況からのズレを考慮して、予めウエハへの成膜を行う。 - 特許庁

So, there are provided process cheeses having good flavor expression compared with normal process cheeses, by using oxidized starch whose modified starch chemical treatment is oxidation.例文帳に追加

そこで、加工デンプンの化学処理が酸化処理である酸化デンプンを使用することによって、通常のプロセスチーズ類と比較し、良好な風味発現性を有するプロセスチーズ類。 - 特許庁

To improve controllability of a process by securing a sealing function of a process device and setting control input allowing good process control of conveying, supplying, mixing, or chemical reaction, in applying 'autogenous circling flow' or 'spiral flow' to the process.例文帳に追加

「自生旋回流」あるいは「スパイラルフロー」をプロセスに適用するにあたって、プロセス装置のシール(密閉)性を確保し、搬送・供給・混合・化学反応などプロセスコントロールを良好におこなう操作量を設定しプロセスの制御性を向上させること。 - 特許庁

This high speed chemical vapor phase growth method of copper thin film consists of a process of vaporizing the first copper precursor at the first temperature, a process of vaporizing the second copper precursor at the second temperature, a process of introducing the vapor generated by the first and second precursors into a chemical vapor growth chamber and a process of depositing the copper metallic thin film on the substrate.例文帳に追加

銅薄膜の高速化学的気相成長法であって、第1の温度で第1の銅プリカーサを気化する工程と、第2の温度で第2の銅プリカーサを気化する工程と、第1および第2のプリカーサ由来の蒸気を化学的気相成長チャンバ中へ導入する工程と、基板上に銅金属薄膜を堆積する工程とを包含する、方法。 - 特許庁

Also, instead of the above, by making the time of a process during which the dishes are brought into contact with a chemical or the concentration of the chemical be different, required processing time and the energy required for heating the washing water or the consumption amount of the chemical is made appropriate.例文帳に追加

又、それに代え、食器等が薬剤と接触する行程の時間、もしくは薬剤の濃度を異ならせることにより、処理所要時間及び洗浄水の加熱に要するエネルギー、もしくは薬剤の使用量の適正化ができる。 - 特許庁

It is preferable to further include a heat treatment process for carrying out heat treatment of a formed chemical conversion coating film, and a film increase treatment process bringing the chemical conversion coating film after the heat treatment into contact with the mixed solution of sodium aluminate, sodium hydroxide and sodium oxalate to provide a thick film.例文帳に追加

好ましくは、更に、生成した化成皮膜を熱処理する、熱処理工程と、熱処理後の化成皮膜を、アルミン酸ナトリウムと、水酸化ナトリウムと、しゅう酸ナトリウムとの混合溶液に晒して、厚膜化する、増膜処理工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a polishing table which detects a in-situ termination without reducing chemical mechanical polishing efficiency, its manufacturing method, and a method for monitoring a chemical mechanical polishing process using the method, and a method for detecting a termination of polishing process.例文帳に追加

化学機械的研磨効率を低下することなく、インサイチュ終末点検出が可能な研磨テーブル、及びその製造方法、並びにそれを用いた化学機械的研磨工程のモニター方法および研磨工程の終末点検出方法を提供する。 - 特許庁

The chemical polishing process may be conducted by supplying the working liquid, in parallel with a water-polishing process, or in place of the supply of a rinsing liquid in the wafer-polishing process in the case of the carrying-out of a method for polishing the silicon wafer.例文帳に追加

本発明を実施するに際して、水研磨工程と並行して、あるいは、水研磨工程でリンス液を供給する代わりに、加工液を、供給することで、化学的研磨工程を行ってもよい。 - 特許庁

Additionally, the polishing rate is recovered by a mechanical polishing process, a chemical polishing process or an electric polishing process applied on a surface of the electrolytic polishing pad 3 in case of detecting lowering of the polishing rate.例文帳に追加

そして、研磨レートの低下を検知した場合には、その電解研磨パッド3の表面に対して施す機械的研磨処理、化学的研磨処理または電気的研磨処理によって、研磨レートを回復させる。 - 特許庁

To provide a process paper having improved chemical resistance and water resistance to be used for manufacturing polyurethane foam, and a sheet which is a raw material of the process paper (a pattern paper), i.e., what is called a stock roll for a polyurethane foam manufacturing process paper.例文帳に追加

ポリウレタンフォーム製造時に用いられる耐薬品性、耐水性が改善された工程紙およびその工程紙(型紙)の原材料となるシートいわゆるをポリウレタンフォ−ム製造工程紙用原反を提供する。 - 特許庁

Using the iridium-containing film deposition material as the raw material, an iridium-containing film is produced by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process, an ALD (Atomic Layer Deposition) process, a spin coating process or the like.例文帳に追加

このイリジウム含有膜形成材料を原料として、CVD法、原子層蒸着法(Atomic Layer Deposition法:ALD法)、スピンコート法などによりイリジウム含有膜を製造する。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a semiconductor device, capable of preventing permeation to lower layers of a chemical solution employed in the strip process and the cleaning process implemented in the production process of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体素子の製造工程で行なわれるストリップ工程及び洗浄工程の際に使用される化学溶液の下部層への浸透を防止することができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a chemical clarifying process of the filter membrane module, a primary process is carried out using an admixture solution of sodium hydroxide and sodium hypochlorite as a clarifying chemical liquid, and a secondary process is carried out using a reducing acid solution such as a sodium hydrogen sulfite solution, a sodium sulfite solution, a sodium thiosulfate solution or the like as the clarifying chemical liquid.例文帳に追加

ろ過膜モジュールの薬品洗浄工程において、第1の工程を、洗浄薬液として水酸化ナトリウムと次亜塩素酸ナトリウムの混合溶液を使用して行い、第2の工程を、洗浄薬液として重亜硫酸ナトリウム溶液、亜硫酸水素ナトリウム溶液、亜硫酸ナトリウム溶液、チオ硫酸ナトリウム溶液等の還元性酸溶液を使用して行う。 - 特許庁

To provide a control method for use in a chemical process wherein a reaction is caused to proceed by feeding a catalyst while continuously feeding a raw material in a manner maintaining the amount thereof present in a reactor within a predetermined range, capable of stably controlling the chemical process even if the property of the catalyst is caused to change by some kind of disturbance, and a program for controlling a chemical process.例文帳に追加

原料を反応器内での存在量が所定の範囲となるように継続的に供給しながら、触媒を添加することで反応を進行させる化学プロセスにおいて、何らかの外乱により触媒の物性が変化した場合であっても、安定した制御を行なうことが可能な化学プロセスにおける制御方法および化学プロセスを制御するためのプログラムを提供する。 - 特許庁

In the cleaning process with a chemical in which a chemical stored in a chemical storage tank is circulated between the chemical storage tank and a separation membrane module with a chemical cleaning pump, while passed from the secondary to the primary side of the membrane constituting the module, the chemical is filtrated with a filter arranged in a pipe connecting the chemical tank with the separation membrane module and then supplied to the module.例文帳に追加

薬液貯槽に貯留した薬液を、薬洗ポンプによって薬液貯槽と分離膜モジュールとの間を循環させる薬洗工程中に、薬液を前記分離膜モジュールを構成する膜の二次側から膜の一次側に向かって通液させる工程において、前記薬液貯槽と前記分離膜モジュールを結ぶ配管の途中に設置したフィルタで薬液をろ過した後、薬液を前記分離膜モジュールに供給することを特徴とする分離膜モジュールの洗浄方法。 - 特許庁

This gas-sealing mechanism 11 is used in a processing chamber 1 in the manufacturing process of a printed wiring board, and the processing chamber 1 sprays chemical D to printed wiring board material C so as to perform chemical treatment, and also herein, a chemical vessel 2 for letting flow down, recovering, and storing the sprayed chemical D is made below.例文帳に追加

このガス封止機構11は、プリント配線基板の製造工程の処理室1において用いられ、処理室1は、プリント配線基板材Cに対し薬液Dを噴射して化学処理を行うと共に、噴射された薬液Dを流下,回収,貯留せしめる薬液槽2が下部に形成されている。 - 特許庁

To provide an altered purge gas supply system with no bad influence to the activity of a chemical substance used in a lithographic process.例文帳に追加

リソグラフ工程に使用される化学物質の活性に悪影響を与えない改変されたパージガス供給システムを提供する。 - 特許庁

To provide an alumina material with good light transmittance and linear light transmittance without requiring any mechanical or chemical polishing process.例文帳に追加

機械研磨やケミカル研磨等の研磨工程を要することなく良好な光線透過率及び直線光透過率を有する。 - 特許庁

There is no need to use a planarization process such as chemical-mechanical polish to planarize the top surfaces of the chips 315A.例文帳に追加

チップ315Aの最表面を平坦化するために化学機械研磨のような平坦化プロセスを用いる必要は皆無である。 - 特許庁

When the latter process is employed, acid contained in a resist pattern is diffused and its chemical reaction is utilized.例文帳に追加

さらに、第2のプロセスの後者のプロセスを採用した場合に、レジストパターンに含まれる酸を拡散させ、その化学反応を利用する。 - 特許庁

MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP (DEPOSITION-ETCHING-DEPOSITION) HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR FILLING DIELECTRIC GAP例文帳に追加

誘電ギャップ充填用のマルチステップ堆積・エッチング・堆積(DEP−ETCH−DEP)高密度プラズマ化学気相堆積プロセス - 特許庁

Therefore, the maintenance process need not be performed each time the chemical unit CSB is used, and is performed only when necessary.例文帳に追加

したがって、薬液ユニットCSBを使用するたびにメンテナンス処理を行うことがなく、必要なときにだけメンテナンス処理を行う。 - 特許庁

The method is used to form the metal oxide coating including a process for performing the anode oxidation of metal in the chemical solution being listed in 1 (2).例文帳に追加

2.1項に記載の化成液中で金属を陽極酸化する工程を含む金属酸化物皮膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a fertilizer which can grow plants without relying on chemical fertilizers and agricultural chemicals and its manufacturing process.例文帳に追加

化学肥料や農薬に頼ることなく植物を生育させることのできる肥料、およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a process of a step S3, the foamed resin material covered with the cement resin layer is removed by injecting chemical solution.例文帳に追加

ステップS3の工程において、化学薬液の注入により、上記セメント樹脂層に覆われた発泡樹脂材を除去する。 - 特許庁

To provide an analysis method of a residual agricultural chemical for maintaining the accuracy, simplifying a process, and rapidly implementing an analysis.例文帳に追加

精度を保ちつつ、簡易な工程で迅速に分析を行うことが可能な残留農薬の分析方法を提供する。 - 特許庁

The polyamic acid is processed to polyimidebenzoxazole having a shape of a film, a fiber or a coating through a thermal or chemical process.例文帳に追加

当該ポリアミド酸は、熱的及び化学的工程を用いてフィルム、繊維及び塗膜の形態のポリイミドベンゾオキサゾールに加工される。 - 特許庁

The implants can exhibit a variety of physical, chemical, or process-derived features which can enhance cement bonding.例文帳に追加

このインプラントは、セメント結合を強化し得る、さまざまな物理的特徴、化学的特徴、又はプロセス由来の特徴を呈し得る。 - 特許庁

例文

The invention provides an ion purifying apparatus and method suitable for supplying an ultrapure chemical reagent to a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

超高純度化学薬品の半導体製造プロセスへの供給に適したイオン精製装置および方法が提供される。 - 特許庁




  
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