「EVAPORATION SOURCE」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

This manufacturing method of the radioactive ray image converting panel includes a process of forming a phosphor layer by depositing a substance generated by heating an evaporation source including a phosphor or its raw material on a base board, and uses the evaporation source having the moisture content not more than 0.5 wt.% as an evaporation source.例文帳に追加

蛍光体もしくはその原料を含む蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、蒸発源として含水量が０．５重量％以下の蒸発源を用いること。 - 特許庁

The vacuum deposition apparatus comprises the vacuum chamber 1; a rod-shaped evaporation source 2 which is installed so as to freely elevate toward the inside and outside of the vacuum chamber 1; and the workpiece support means 3 for supporting workpieces W which are arranged so as to surround the evaporation source 2 when the evaporation source 2 comes down into the vacuum chamber 1.例文帳に追加

本発明に係る真空蒸着装置は、真空チャンバ１と、該真空チャンバ１の内外に昇降自在に設けられたロッド状の蒸発源２と、前記真空チャンバ１内に降下した前記蒸発源２に対して該蒸発源２を取り囲むように配置されるワークＷを支持するワーク支持手段３を備える。 - 特許庁

A vacuum vapor deposition apparatus 10 comprises a vacuum chamber 11, an evaporation source 13 installed in the vacuum chamber, a stage 15 arranged opposite to the evaporation source, a rotating means 18 for rotating the stage in the plane, and an angle adjustment means 19 for changing the installation angle of the stage with respect to the evaporation source.例文帳に追加

本発明に係る真空蒸着装置１０は、真空チャンバ１１と、真空チャンバ内に設置された蒸発源１３と、蒸発源に対向して配置されたステージ１５と、ステージを面内で回転させる回転手段１８と、蒸発源に対するステージの設置角度を変化させる角度調整手段１９とを備える。 - 特許庁

In the deposition device forming a film by relatively moving a substrate 5 as shown in an arrow mark to a deposition source having a plurality of evaporation sources 2, the evaporation source 2a for film-forming at a center region of the substrate 5 is arranged at a downstream side of the evaporation source 2b for filming at end-part regions.例文帳に追加

複数の蒸発源２を有する蒸着源に対して基板５を矢印で示すように相対移動させながら成膜する蒸着装置において、基板５の中央領域の成膜を行う蒸発源２ａを、端部領域の成膜を行う蒸発源２ｂより下流側に配置する。 - 特許庁

Moreover, by providing the container in which the evaporation material is accommodated, the heating medium accommodated in the container with pores, an evaporation source filled up with the evaporation material in the porous parts, and a heating means to heat the evaporation material, and by making the evaporation material evaporate by the heating means, the evaporation films are deposited on a substrate.例文帳に追加

また、蒸着材料を収容する容器と、容器内に収納され、空孔を含む加熱媒体と、空孔内に蒸着材料が充填された蒸着源と、蒸着材料を加熱する加熱手段とを具備し、加熱手段によって蒸着材料を蒸発させることにより、基板上に蒸着膜を堆積するように構成した蒸着装置とした。 - 特許庁

To provide a solid carbon based evaporation source which does not require not only equipment for a solid carbon based vapor deposition source but also equipment for the other evaporation source at the time when a plurality of thin film layers including carbon based thin films are stacked to deposit on a substrate.例文帳に追加

基板上に炭素系薄膜を含む複数の薄膜層を積層して形成する際に、固体炭素系蒸着源用の設備に加えて、他の蒸発源用の設備を必要としない固体炭素系蒸発源を提供する。 - 特許庁

In the rod target for an arc evaporation source whose outer circumferential face is an evaporation face, both end parts in a longitudinal direction are formed so as to be thicker than the side of a central part.例文帳に追加

外周面を蒸発面とするアーク蒸発源用のロッドターゲットにおいて、長手方向両端部が、中央部側よりも太く形成されているされている。 - 特許庁

To provide an inexpensive vacuum deposition system where, even in the case there are many evaporation sources, the quantity of a film deposition material to be evaporated in each evaporation source can be controlled.例文帳に追加

安価で、かつ、多数の蒸発源を有する場合であっても、個々の蒸発源における成膜材料の蒸発量を生後できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

An evaporation material 135 is arranged at a coaxial type arc deposition source 13, and the vapor of the evaporation material is released into an anode electrode 131 by arc discharge.例文帳に追加

同軸型アーク蒸着源１３に蒸発材料１３５を配置し、アーク放電によってアノード電極１３１内に蒸発材料の蒸気を放出させる。 - 特許庁

Electrons are supplied to the pressure-reduced atmosphere from an electron supply source 40 in synchronization with the discharge control in the arc evaporation source.例文帳に追加

上記アーク蒸着源における上記放電制御に同期して、電子供給源４０から上記減圧雰囲気に電子が供給される。 - 特許庁

The first reflection/scattering plates 5, which are nearer to the evaporation source 3, are heated by a heating means, whereas the second reflection/scattering plates 6, which are far from the evaporation source 3 and nearer to a substrate, do not have a heating means but have a cooling means.例文帳に追加

蒸発源３に近い第１の反射散乱板５は加熱手段によって加熱され、蒸発源３から遠く、基板に近い第２の反射散乱板６は加熱手段を有さず、冷却手段を有する。 - 特許庁

The thin film-forming apparatus has a vacuum chamber 2 for forming the thin film on a predetermined substrate 5, an evaporation source 3, and a partition part 7 for partitioning a space between the substrate 5 and the evaporation source 3.例文帳に追加

本発明の薄膜形成装置は、所定の基板５に対して薄膜を形成するための真空槽２と、蒸発源３と、基板５と蒸発源３との間の空間を仕切る仕切り部７とを有している。 - 特許庁

To provide a multi-vacuum evaporation system in which the transmission of the heat generated from a heated evaporation source to an adjacent evaporation source is prevented and the efficiency of preheating is increased by controlling the rotation of the evaporation sources while a normal heating position and a preheating position are located adjacently to each other, and a method for controlling the system.例文帳に追加

加熱される蒸発源から発生した熱が隣接した蒸発源に伝達される現象が防止されて、本加熱位置と予備加熱位置が相互近接するように位置されるようにしながら蒸発源の回転を制御して予備加熱の効率性を上昇するようしたマルチ真空蒸着装置及び制御方法を提供する。 - 特許庁

To ensure a water source by utilizing septic tank treatment as water supplied to an evaporation member and prevent the generation of algae and bad odor in the evaporation member in a cooling system utilizing evaporation latent heat.例文帳に追加

蒸発潜熱を利用した冷却システムにおいて、蒸発部材への給水として浄化槽処理を利用して水源を確保すると共に、蒸発部材における藻や悪臭などの発生を防止することを目的とする。 - 特許庁

Its manufacturing method makes an incident angle time-controlled evaporation and an energy time-controlled evaporation to the object to process in an ion evaporation machine by using the ion flow drawn out from the ion source through the duct to a film forming chamber.例文帳に追加

また、その製造方法は、イオン蒸着装置において、イオン源からダクトを介して成膜室に引き出されるイオン流の被処理基板への入射角時間制御蒸着、エネルギー時間制御蒸着を特徴とする。 - 特許庁

In the organic EL device fabrication apparatus, evaporation amounts of an organic EL material from respective nozzles arranged on a line, of an evaporation source which emits evaporated deposition material to an inner part of a vacuum tank via the plurality of nozzles are monitored for each nozzle group by an evaporation amount monitoring means and the evaporation source is controlled by a controlling means by using information of the evaporation amounts of the organic EL material of the respective monitored nozzles.例文帳に追加

有機ＥＬデバイスの製造装置において、蒸発させた蒸着材料を線上に配置した複数のノズルを介して真空槽の内部に放出させる蒸発源の各ノズルからの有機ＥＬ材料の蒸発量を、蒸発量モニタ手段で各ノズルにモニタし、このモニタした各ノズルの有機ＥＬ材料の蒸発量の情報を用いて制御手段で蒸発源を制御するようにした。 - 特許庁

The Pt-Mo layer 13 is deposited with a Mo concentration set for the highest cleavage possibility of 25% in an evaporation source.例文帳に追加

ここでPt-Mo層は、蒸着源中のMo濃度を劈開確率の一番高い25％に設定し、蒸着した。 - 特許庁

CRYSTAL OSCILLATION-TYPE FILM THICKNESS MONITORING DEVICE AND EVAPORATION SOURCE DEVICE AND THIN FILM DEPOSITION SYSTEM OF EL MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加

水晶発振式膜厚モニタ装置、及び、これを用いたＥＬ材料の蒸発源装置と薄膜形成装置 - 特許庁

The arc power source 30 comprises a square wave power source 32 to output the square wave voltage V_R and an inductor 38 connected in series between the square wave power source 32 and the vacuum arc evaporation source 12.例文帳に追加

アーク電源３０は、方形波電圧Ｖ_Ｒ を出力する方形波電源３２と、この方形波電源３２と真空アーク蒸発源１２との間に直列に接続されたインダクタ３８とを備えて成る。 - 特許庁

To provide an evaporation source which is used in a vapor-deposition apparatus that selectively deposits a deposition material emitted from the evaporation source onto a substrate, by using a mask assembly having a plurality of slits formed so as to become a predetermined pattern, and changes a nozzle structure of the evaporation source to minimize a shadow effect, and to provide a vapor-deposition apparatus using the same.例文帳に追加

所定パターンに形成された複数のスリットを含むマスク組立体を用いて蒸発源から放射される蒸発物質を選択的に基板に蒸着する蒸着装置において、上記蒸発源のノズル構造を変更してシャドー効果を最小化する蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The film forming device 100 comprises an evaporation source 2 from which a material is evaporated or sublimated, and a means for relative movement 7 relatively moving the evaporation source 2 together with a mask 5 to the substrate.例文帳に追加

本発明の膜形成装置１００は、材料を気化または昇華させる蒸着源２と、前記蒸着源２をマスク５とともに基材に対して相対移動させる相対移動手段７と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus having a driving mechanism for an evaporation source, which reduces particles to be formed in a chamber, and copes with the arrangement of a plurality of evaporation sources.例文帳に追加

チャンバ内におけるパーティクルの発生を低減でき、蒸発源の複数配置にも対応することができる蒸発源駆動機構を備えた真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide an organic vapor deposition method and a system therefor by which a film deposition rate can be controlled accurately by preventing the variation in an evaporation rate caused by the position of an evaporation source.例文帳に追加

蒸発源の位置に起因する蒸発レートの変動を防止することによって精確な成膜速度の制御を達成可能な有機蒸着方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for manufacturing an evaporation source capable of reliably evaporating an evaporation material of the same quantity from each filament.例文帳に追加

各フィラメントから同量の蒸発材料を確実に蒸発させることのできる蒸発源を製造するための蒸発源製造装置および蒸発源製造方法を提供する。 - 特許庁

Particles of the evaporation material are formed by discharge control between the evaporation material in the arc evaporation source and the cylindrical electrode in a pressure-reduced atmosphere, and attached on the surface of the carbon-based material layer.例文帳に追加

上記蒸着材料の微粒子は、減圧雰囲気下で、上記アーク蒸着源における上記蒸着材料と上記筒状電極との間の放電制御によって生成されて、上記カーボン系材料層の表面に付着させられる。 - 特許庁

The vacuum deposition apparatus uses two or more evaporation sources, and further, correspondingly to the two or more evaporation sources, to a substrate held by a substrate holder, has hot walls in which at least the lower edge parts are located at the outside of the evaporation source.例文帳に追加

複数の蒸発源を用いると共に、この蒸発源の２以上に対応して、基板ホルダに保持された基板に対して、少なくとも下端部が前記蒸発源よりも外側に位置するホットウォールを有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

A magnetic field producing source having the angle of line of magnetic force and an arc current value which are set to confine an arc spot into a nearly elliptic discharge region extending in the axial direction of a columnar evaporation material is provided on the evaporation surface of the columnar evaporation material.例文帳に追加

柱状蒸発物質の蒸発面に、柱状蒸発物質の軸方向に伸びる略長円状の放電領域にアークスポットを閉じ込めるように、磁力線の角度とアーク電流値を設定した磁場発生源を備えている。 - 特許庁

To provide an evaporation source and vapor-deposition apparatus, which can block radiation heat of a crucible and prevents a nozzle from being clogged.例文帳に追加

坩堝の輻射熱を遮熱し、且つノズルに詰まりを生じない蒸発源および蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The evaporation heat exchanger 4 has the air heat exchanger 41 exchanging heat with air and the heat source heat exchanger 42.例文帳に追加

蒸発用熱交換器４は、空気と熱交換する空気熱交換器４１と、熱源熱交換器４２とをもつ。 - 特許庁

The evaporation source 100 is capable of continuously performing the film deposition with excellent uniformity on a substrate of a large area.例文帳に追加

このような蒸発源１００により、大面積の基板に対しても均一性良く、連続して成膜することができる。 - 特許庁

An evaporation preventing gas is supplied into a vacuum chamber 12 through a gas supplying source and a gas supplying pipe 44.例文帳に追加

真空チャンバー１２内に、供給源４２およびガス供給管４４を介して蒸発防止ガスが供給される。 - 特許庁

An evaporation source 100 comprises a cylindrical cell 128, a lower heater 134 and an upper heater 136 for heating the cylindrical cell.例文帳に追加

蒸発源１００は筒状セル１２８と、それを加熱する下側ヒータ１３４、上側ヒータ１３６を備えている。 - 特許庁

An organic molecule vaporized by the evaporation source 210 is blown from the blowing device 110 through the connecting pipe 220.例文帳に追加

蒸着源２１０により気化された有機分子は、連結管２２０を介して吹き出し器１１０から吹き出される。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of smoothly performing the film deposition while using a wire formed of a lithium metal or the like as an evaporation source.例文帳に追加

リチウム金属等のワイヤを蒸発源として用いつつ、成膜を円滑に行いうる成膜装置を提供する。 - 特許庁

Preferably, the mixture layer is provided in such a manner that vapor deposition by resistance heating, using the Au-containing gold-based material as an evaporation source, and vapor deposition by an electronic beam, using Ti as an evaporation source, are performed in the same apparatus.例文帳に追加

また、混在層は、Ａｕを含む金系材料を蒸発源として用いた抵抗加熱による蒸着と、Ｔｉを蒸発源として用いた電子ビームによる蒸着とを同一装置内で行うことにより設けられたものであるのが好ましい。 - 特許庁

To provide an evaporation source for an evaporator by which dispersion of luminous efficiency is suppressed by forming an organic thin film on a substrate so that its thickness may become uniform, the evaporator using the evaporation source, and a manufacturing method of an organic EL element.例文帳に追加

基板上に有機薄膜を膜厚が均一になるように形成することによって発光効率のばらつきを抑えた、蒸着装置用蒸着源、これを用いた蒸着装置及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A lengthy rectangular evaporation source holder 17 having a plurality of containers in which a vapor deposition material is enclosed is arranged in a vapor deposition chamber, and vapor deposition is carried out while moving the evaporation source holder to a substrate 13 at a certain pitch.例文帳に追加

本発明は、蒸着室内において、蒸着材料が封入された容器を複数個設置した細長い矩形形状の蒸着源ホルダ１７に設け、基板１３に対してあるピッチで移動しながら蒸着を行うことを特徴とする。 - 特許庁

Because the uniformity of film thickness distribution in the longitudinal direction is improved by lengthening the evaporation source and film deposition is applied to the whole of the substrate by moving the evaporation source, the uniformity of the film thickness distribution over the whole of the substrate can be improved.例文帳に追加

蒸着源を長くすることにより長手方向における膜厚分布の均一性が高まり、その蒸着源を移動させて基板全体を成膜するので基板全体の膜厚分布の均一性を向上させることができる。 - 特許庁

Furthermore, an intake and exhaust port 12 is provided at each of the first to third evaporation source chambers 3A-3C, and from it it is connected to a vacuum pump which decompresses or controls to atmospheric pressure the atmosphere in each of the first to third evaporation source chambers 3A-3C individually through the piping.例文帳に追加

また、各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに吸排気口１２及び吸排気口１２から配管を介して各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃ内の雰囲気を個別に減圧または大気圧に制御する真空ポンプに接続した。 - 特許庁

To provide an arc ion plating apparatus and a film deposition method, which can reduce the change of smoothness of the surface of a thin film and the change of residual stress of a thin film, which occur with the consumption of an evaporation source, and can improve the utilization efficiency of the evaporation source.例文帳に追加

蒸発源の消耗に伴って変化する薄膜表面の平滑性や薄膜の残留応力の変化を低減でき、蒸発源の利用効率を向上させることができるアークイオンプレーティング装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an arc ion plating apparatus and a film deposition method, which can reduce the change of smoothness of the surface of a thin film and the change of residual stress of a thin film, which occur with the consumption of an evaporation source, and can improve the utilization efficiency of the evaporation source.例文帳に追加

蒸発源の消耗に伴って変化する薄膜表面の平滑性や薄膜の残留応力の変化を低減でき、蒸発源の利用効率を向上させることができるアークイオンプレーティング装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

An evaporation source 59 is fed in the vicinity of the heater 52 while introducing the inert gas in the cylindrical insulator 51 via a gas introduction pipe 54, and the target 3 is sputtered and the evaporation source 59 is heated simultaneously or at different timing.例文帳に追加

ガス導入管５４を介して、円筒状絶縁体５１内に不活性ガスを導入しながら、発熱体５２の近傍に蒸発源５９を供給し、ターゲット３のスパッタと蒸発源５９の加熱を同時あるいは異なるタイミングで行う。 - 特許庁

This method for producing the radiation image conversion panel, comprising heating an evaporation source 3 containing a photostimulable phosphor or a photostimulable phosphor raw material in a vapor deposition apparatus 1 to deposit the produced substance on a support 11 to form the photostimulable phosphor layer, is characterized in that the filling rate of the evaporation source on the basis of the volume of an evaporation source boat is 40 to 100%.例文帳に追加

輝尽性蛍光体または輝尽性蛍光体原料を含む蒸発源３を蒸着装置１内で加熱して発生する物質を支持体１１上に蒸着させることにより輝尽性蛍光体層を形成する放射線画像変換パネルの製造方法において、蒸発源ボート容積に対する蒸発源の充填率が４０〜１００％であることを特徴とする。 - 特許庁

The radiation source includes: a chamber in which a plasma is generated during usage; and an evaporation surface configured to evaporate a material formed as a by-product from the plasma and emitted to the evaporation surface.例文帳に追加

放射源は、使用中に内部でプラズマが発生するチャンバと、プラズマから副生成物として形成され蒸着面へと放出される材料を蒸着させるように構成された蒸着面を含む。 - 特許庁

EVAPORATION SOURCE, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION METHOD, APPARATUS FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY UNIT, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY UNIT例文帳に追加

蒸発源、蒸着装置、蒸着方法、有機ＥＬ表示装置の製造装置、及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 - 特許庁