「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

To easily change the condensation size of exposure light in an apparatus for irradiating a photosensitive material with light modulated by a two-dimensional spatial optical modulation element and exposing the photosensitive material.例文帳に追加

２次元空間光変調素子により変調した光を感光材料に照射して該感光材料を露光する装置において、露光光の集光サイズを簡単に変更可能とする。 - 特許庁

In this example, each terminal (T1, T2) is folded back so as to facilitate reflow soldering, is formed into a contact electrode type terminal(T) by exposing a soldered surface sideward and extending it sideward.例文帳に追加

なお、本例では各端子（Ｔ１、Ｔ２）は、リフロー半田が容易なように折り返されて半田面が側方に露出させたり、側方に延在させて接触電極型端子（Ｔ）にする。 - 特許庁

The opening part 7 exposing a cable connector 6 is formed in a rear surface portion 82 of the case 8 of the roll paper printer 1, and a recording paper discharging port 5 is formed on the front side of the case.例文帳に追加

ロール紙プリンタ１のケース８の後面部分８２には、ケーブルコネクタ６が露出している開口部７が形成されており、ケース前面側には記録紙排出口５が形成されている。 - 特許庁

The surface layer of an SiO2 film is modified into an SiN film 3 by exposing it to a nitrogen plasma so that a gate insulating film 10 in the two layer structure of the SiO2 film 2 and the SiN film 3 can be formed.例文帳に追加

窒素プラズマ中に晒して、ＳｉＯ_2 膜の表面層をＳｉＮ膜３に改質して、ＳｉＯ_2 膜２とＳｉＮ膜３の二層構造のゲート絶縁膜１０とする。 - 特許庁

The evaluating method for the laser workability of a printed wiring board is the one performed in the process for exposing the top surface of a lower conductor layer 1 by removing an insulation layer 2 on the lower conductor layer 1 by a laser L.例文帳に追加

下層導体層１上の絶縁層２をレーザＬにより除去して下層導体層１上面を露出させる工程でのプリント配線板のレーザ加工性評価方法である。 - 特許庁

The adhesive 3 is applied to the connecting part of the seal plate 2 and a bearing body 1 and air bubbles 5 mixed into the adhesive 3 are exhausted by exposing the connecting part under a reduced-pressure atmosphere of a vacuum chamber 4.例文帳に追加

シール板２と軸受体１との連結部分に接着剤３を塗布し、真空チャンバ４などの減圧雰囲気下に曝して接着剤３に混入した気泡５を排気する。 - 特許庁

Apertures 1 for exposing the switch portions, etc., of apparatuses put inside the apparatus housing box are used as symbols of the apparatuses of the connection diagram, and apertures are linked with lines to display the state of wiring.例文帳に追加

機器収納箱内に設置した機器のスイッチ部等を露出させる窓部１を結線図の機器の記号として使用し、窓部間を線で結び配線状態を表示した。 - 特許庁

A contact hole 46 is made penetrating the interlayer film 44, without exposing the transfer gate 34 to expose the surface of the silicon substrate 32 over the inside of the hollow node 48.例文帳に追加

トランスファゲート４４を露出させることなく層間膜４４を貫通して、中空ノード４８の内部にシリコン基板３２の表面を露出させるコンタクトホール４６を形成する。 - 特許庁

The body part has a belt attachment part 11 and a base part 21, and the base part has storage portions 25A and 25B for storing parts of the engagement members, and openings 27 for exposing the engagement members.例文帳に追加

本体部は、ベルト取付部１１と基部２１とを備え、基部は、係合部材の一部を収容する収容部２５Ａ，２５Ｂと、係合部材を露出させる開口２７とを備える。 - 特許庁

After coating a semiconductor substrate with a CMP cut-off layer, the CMP cut-off layer is patterned to form a CMP cut-off pattern in a shape having an opening for exposing a device separating region.例文帳に追加

半導体基板上にＣＭＰ遮断層を塗布した後にこれをパターニングして素子分離領域を露出させる窓を有する形状のＣＭＰ遮断パターンを形成する。 - 特許庁

An original image is written onto photoreceptor drums 10 of four colors by an exposing device 7, developed by a developing apparatus 11 and transferred to the intermediate transfer belt 12 by a transfer roller 13.例文帳に追加

原稿画像は露光装置７により４色の感光体ドラム１０に書込まれ、現像装置１１で現像され、転写ローラ１３により中間転写ベルト１２に転写される。 - 特許庁

The LED unit 24 is displaced between an exposing position where the LED head 18 faces the photoreceptor drum 8 and a retracted position where the LED head 18 is retracted from the photoreceptor drum 8.例文帳に追加

ＬＥＤユニット２４は、ＬＥＤヘッド１８が感光ドラム８に対向する露光姿勢と、ＬＥＤヘッド１８が感光ドラム８から退避した退避姿勢とに変位可能である。 - 特許庁

To actualize the lamp illumination control method which can extend the time for an exposing process within the life time of a lamp by reducing the power consumption and making the service life of the lamp long.例文帳に追加

消費電力を減少させ、かつ、ランプを長寿命化させ寿命時間内での露光処理を行っている時間を増やすことができるランプ点灯制御方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure device that forms a desired device pattern on a substrate by removing an unnecessary liquid, when exposing a pattern on the substrate via a projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To detect an alignment mark from a second surface side, even if a semiconductor substrate becomes thicker than 800 nm, when exposing a pattern on a second surface in accordance with a circuit pattern of a first surface.例文帳に追加

第１面の回路パターンに合わせて第２面にパターンを露光する場合半導体基板が８００ｎｍより厚くなっても第２面側からアライメントマークを検出できるようにする。 - 特許庁

To provide an optical beam spot position detector, an optical beam spot position detecting method, a focus control device and an optical disc original exposing device capable of reducing the influence of disturbance light on the detection of an optical beam spot position.例文帳に追加

光ビームスポット位置検出の外乱光の影響を低減する光ビームスポット位置検出装置、フォーカス制御装置および光ディスク原盤露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide exposure equipment capable of forming a desired device pattern onto a substrate and exposing the substrate by removing an unnecessary liquid when projecting a pattern onto the substrate via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

When the exposure conditions of the lots subject to exposure is determined, on the basis of the data of processed lots in the exposing work of semiconductor manufacture step, the quantity of change in data of the processed lots is calculated by adding/reducing the gains which reflects parameters for exposing condition on the basis of the number of data of the processed lots.例文帳に追加

半導体製造工程における露光作業において既に処理されたロットのデータに基づいてこれから露光作業を行うロットの露光条件を決定する場合、 既に処理されたロットのデータの変位量を露光条件を与えるパラメータに反映するゲインを既に処理されたロットのデータの数に基づいて加減して算出する露光条件決定方法。 - 特許庁

To form an image with good quality by ensuring the amplitude of an oscillating mirror surely for any exposing means in an image forming apparatus having a plurality of exposing means for forming a latent image on a latent image carrier by deflecting a light beam being emitted from a light source by means of the oscillating mirror performing resonance oscillation and scanning the latent image carrier with the deflected light beam.例文帳に追加

共振振動する振動ミラーにより光源から射出される光ビームを偏向させるとともに該偏向光ビームを潜像担持体に走査させて該潜像担持体上に潜像を形成する露光手段を複数個有する画像形成装置において、いずれの露光手段においても振動ミラーの振幅を確実に確保して良好な品質で画像を形成する。 - 特許庁

The aligner which exposes the pattern of an original plate to a substrate by using the exposing light emitted from a laser light source is provided with a plurality of purging spaces which are demarcated by enclosures having exposing light-permeable boundary members in the optical path between the laser light source and substrate and a pressure adjusting means which controls the pressure in each purging space so that the pressure may become a prescribed value.例文帳に追加

レーザ光源から発光した露光光により原版のパターンを基板に露光するための露光装置において、レーザ光源と基板の間の光路中に、露光光透過性の境界部材を有する筐体で区切られた複数のパージ空間を有し、各々のパージ空間内部が所定の圧力となるように制御する圧力調節手段を有する。 - 特許庁

As one embodiment, the method for removing the masking material from the substrate comprises the steps of: providing the substrate having the exposed low-dielectric-constant material and the masking material; exposing the masking material to a first plasma formed from the reduction chemical reaction material, during the first period; and exposing the masking material to a second plasma formed from the oxidation chemical reaction, during the second period.例文帳に追加

一実施形態において、基板からマスキング材料を取り除くための方法は、露出した低誘電率の材料及びマスキング材料を有する基板を提供し、第１の期間、還元化学反応物質から形成された第１のプラズマに前記マスキング材料を曝し、第２の期間、酸化化学反応物質から形成される第２のプラズマにマスキング材料を曝すことを含む。 - 特許庁

A method for acquiring an image from a sample flake repeats steps of acquiring an image of a surface layer of a sample (1) and steps of slicing the surface layer of the sample and exposing the next flake on the surface, and includes the step of exposing the sample to a staining agent after at least one of the steps of slicing the surface layer of the sample.例文帳に追加

試料(1)の表面層の画像を取得するステップと、前記試料の表面層を除去し、それにより次の薄片を表面にもたらすステップとが繰り返される、試料の薄片から画像を得る方法であって、少なくとも、前記試料の表面層の除去のうちの一つの除去の後に、前記試料は染色剤にさらされるステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

The exposing device EX is equipped with a first exposure station ST 1 and a second exposure station ST 2 capable of exposing a photosensitive substrate P and a control system CONT for controlling the exposure in such a manner that after the first exposure is performed in the first exposure station ST 1, the photosensitive substrate P undergoing the first exposure is continuously subjected to second exposure at the second exposure station ST 2.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、感光基板Ｐを露光可能な第１露光ステーションＳＴ１及び第２露光ステーションＳＴ２と、第１露光ステーションＳＴ１で第１の露光を行った後、この第１の露光を行った感光基板Ｐに対して第２露光ステーションＳＴ２で第２の露光を連続して行うように制御する制御系ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

The optical master disk exposing device in which an exposing pattern is formed by intensity-modulating the laser light emitted from a gas laser 12 with a light modulator 13 and irradiating the surface to be exposed of a resist plate 29 with the intensity-modulated laser light by means of an objective lens 28, is provided with a beam expander 17 which expands the beam diameter of the exposed beam emitted from the gas laser 12.例文帳に追加

ガスレーザ（１２）から発射されたレーザ光を光変調器（１３）により強度変調し、強度変調されたレーザ光を対物レンズ（２８）によりレジスト板（２９）の被露光面に照射することにより露光パターンを形成する光ディスク原盤露光装置において、ガスレーザ（１２）から発射された露光ビームのビーム径を拡大するビームエキスパンダ（１７）を設けた。 - 特許庁

The method has a cross section exposing process for exposing a cross section of a sample by irradiating the sample Wa, formed by laminating the organic insulating film and another insulating film, with a focused ion beam 20A; and a cross section treating process for treating so that each film on the cross section can be discriminated by irradiating with the focused ion beam, while supplying water or steam to the cross section.例文帳に追加

有機絶縁膜と他の絶縁膜とが積層されてなる試料Ｗａに対して集束イオンビーム２０Ａを照射して試料の断面を露出させる断面露出工程と、断面に対して水または水蒸気を供給しつつ、集束イオンビームを照射して断面の各膜が判別可能となるように処理する断面処理工程と、を有している。 - 特許庁

A plurality of sectioned areas S1-S3 on a substrate are exposed by alternately repeating a scanning step for exposing one sectioned area S1-S3 on the substrate by moving the substrate, while scanning, in the first direction Y with respect to the illumination area A of exposing light, and a moving step for moving the substrate in the second direction X intersecting the first direction Y.例文帳に追加

露光光の照明領域Ａに対して基板を第１方向Ｙに走査移動させることによって基板上の１つの区画領域Ｓ１〜Ｓ３を露光する走査ステップと、基板を第１方向Ｙと交差する第２方向Ｘへ移動させる移動ステップとを交互に繰り返し行うことによって、基板上の複数の区画領域Ｓ１〜Ｓ３を露光する。 - 特許庁

The exposure device for exposing the plural circuit patterns 121, 122 disposed on a negative film 110 to a substrate 120 having photosensitiveness has a alignment device 20 for aligning the substrate 120 and the negative film 110 by each of the circuit patterns, a light source 11 for exposing the film by each of the circuit patterns and an exposure area moving means 30 for moving the exposure area of the light source 11.例文帳に追加

感光性のある基板１２０に、原版フィルム１１０に設けられた複数の回路パターン１２１，１２２を露光する露光装置において，基板１２０と原版フィルム１１０とを、回路パターン毎に整合する整合装置２０と，回路パターン毎に露光する光源１１と，光源１１の露光エリアを移動する露光エリア移動手段３０を備えている。 - 特許庁

When switching an operation mode in the testing device 1, the air velocity of air introduced into the testing chamber 10 during a shift period until an atmosphere temperature in a testing part reaches a predetermined temperature is higher than the air velocity of air introduced into the testing chamber during a testing period until the high temperature exposing mode or the low temperature exposing mode is completed after reaching the predetermined temperature.例文帳に追加

試験装置１は、運転モードの切替に際して、試験部内の雰囲気温度が所定温度に到達するまでの移行期間において試験室１０に対して導入される気体の風速が、所定温度に到達してから高温晒しモードあるいは低温晒しモードが完了するまでの試験期間において試験室に対して導入される気体の風速よりも高くなる。 - 特許庁

A two-step method of polymerizing a composition containing a free radical photoinitiator includes the sequential steps of exposing the composition to a first radiation source having a maximum spectral output occurring at a wavelength of longer than 300 nm and, thereafter, exposing the composition to a second radiation source having a maximum spectral output occurring at a wavelength of 200-280 nm.例文帳に追加

フリーラジカル光開始剤を含有する組成物を重合させる二段法が、３００ｎｍより大きい波長で起こる最大スペクトル出力を有する第１の放射線源に前記組成物を露光する工程と、その後、２００〜２８０ｎｍの波長で起こる最大スペクトル出力を有する第２の放射線源に前記組成物を露光する工程と、の順次の工程を含む。 - 特許庁

When display devices and the semiconductor devices having fine elements are manufactured on the same substrate, a resist is exposed by using a first exposure means for exposing the patterns of the display devices and a second exposure means for exposing the patterns of the semiconductor devices to a workpiece which requires micro-fabrication, by which the semiconductor devices varying in line width rules may be manufactured with the good productivity.例文帳に追加

同一基板上に表示装置と、微細素子を有する半導体装置とを作製する際に、微細加工が必要な被加工物に対して、表示装置のパターンを露光する第１の露光手段と、半導体装置のパターンを露光する第２の露光手段とを用いてレジストを露光することにより、線幅ルールの異なる半導体装置を生産性良く作製することができる。 - 特許庁

The casket is manufactured by a first step of preparing the gasket 13 by molding rubber or resin, a second step of exposing to at least one kind of gas plasma selected from gaseous hydrogen, gaseous nitrogen, gaseous oxygen, gaseous fluorine, gaseous fluoride and inactive gas, and a third step of forming the film 16 on the exposed surface of the gasket 13 by exposing to the plasma of a gaseous hydrocarbon.例文帳に追加

また、ゴムや樹脂を成形してガスケット１３を作成する第１の工程と、水素ガス、窒素ガス、酸素ガス、フッ素ガス、及びフッ化物ガス、不活性ガスから選ばれた少なくとも一種のガスのプラズマに上記ガスケット１３を曝す第２の工程と、炭化水素ガスのプラズマに曝すことにより上記ガスケット１３の暴露面に非晶質炭素膜１６を形成する第３の工程とからなる。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a semiconductor element having a plurality of electrodes formed on a first major surface, a resin layer formed while exposing the electrodes to the first major surface, and a resin layer exposing the semiconductor element at least at one position of a second major surface facing the first major surface on which the electrodes are formed wherein the resin layer on the second major surface is formed of photosensitive resin.例文帳に追加

第一主面に複数の電極が形成された半導体素子と、第一主面に電極が露出した状態で樹脂層を形成し、電極が形成された第一主面に相対する第二主面の少なくとも一箇所に半導体素子を露出させた樹脂層を形成し、第二主面に形成された樹脂層が感光性樹脂で形成されたものである。 - 特許庁

In successive shooting mode wherein a plurality of images are successively photographed, the relative position relationship between the taking lens and imaging device begins to be put back to a given reference position relationship after exposing operation for a given photographed image and when a given condition is met, exposing operation or exposure preparing operation for a next photographed image is allowed even before the returning operation is completed.例文帳に追加

複数の撮影画像を連続的に撮影する連写モードにおいて、所定の撮影画像の露光動作後、撮影レンズと撮像素子との相対的な位置関係を所定の基準位置関係に復帰させる復帰動作を開始し、所定の条件が満たされれば、復帰動作が完了する前であっても次の撮影画像の露光動作または露光準備動作を許可する。 - 特許庁

A layer can be formed by exposing the low-dielectric-constant layer to the plasma of an inert gas to densify the low-dielectric-constant layer, by exposing the low-dielectric-constant layer to nitrating plasma to form a passivation nitride surface 236 on the layer 234 or by depositing a thin passivation layer 236 on the low-dielectric-constant layer to reduce oxygen diffusion therein.例文帳に追加

層は、低誘電率の層を不活性ガスのプラズマに暴露して低誘電率の層を高密度化するか、低誘電率の層を硝化プラズマに暴露して層２３４上にパッシベーション窒化物表面２３６を形成するか、或いは低誘電率層２３４上に薄いパッシベーション層２３６を堆積してその中の酸素拡散を低減することにより、形成可能である。 - 特許庁

A silicon oxide film 19a is formed on the surface of the lower electrode 19 by exposing the lower electrode 19, formed of polycrystalline, having the rough surface to oxygen plasma 61, and the surface of the oxide film 19a and the periphery thereof are transformed into the silicon nitride film 19b by exposing the lower electrode 19 where the oxide film 19a is formed to the nitrogen plasma 62.例文帳に追加

多結晶シリコンからなり表面が粗面化された下部電極１９を、酸素プラズマ６１にさらすことにより、下部電極１９の表面にシリコン酸化膜１９ａを形成し、該酸化膜１９ａが形成された下部電極１９を窒素プラズマ６２にさらすことにより、酸化膜１９ａの表面及びその近傍をシリコン窒化膜１９ｂに変質する。 - 特許庁

The diffusion prevention film forms an oxide of metallic materials contained in a conductive film by exposing the conductive film to a plasma generated from a mixed gas of an oxidizing gas and a halogen-based gas, and forms a conductive film in which the oxide of the metallic materials is formed by fluidizing the conductive film by exposing it to an atmosphere containing water and by solidifying the fluidized conductive film.例文帳に追加

拡散防止膜は、導電膜を酸化性ガス及びハロゲン系ガスの混合ガスから生成されるプラズマに暴露して該導電膜に含まれる金属材料の酸化物を形成し、金属材料の酸化物が形成された導電膜を、水を含む雰囲気に暴露して導電膜を流動化させ、流動化した導電膜を固化することで形成する。 - 特許庁

The exposing method of processing the exposure data having a plurality of exposure patterns by optical proximity correction and exposing a sample according to the corrected exposure data generates the corrected exposure data by converting exposure patterns (10, 20) to be corrected into subtracted object patterns (10L, 20L) and subtracted patterns (10M, 20M) deleted from the subtracted object patterns through the optical proximity correction processing.例文帳に追加

複数の露光パターンを有する露光データを光近接補正処理し，当該補正した補正露光データに従って試料を露光する露光方法において，光近接補正処理にて，補正対象露光パターン（10,20）を，マイナス対象パターン（10L,20L）と当該マイナス対象パターンから削除されるマイナスパターン（10M,20M）とに変換して補正露光データを生成することを特徴とする。 - 特許庁

To specify a component element which becomes the cause of abnormality when an error occurs in an apparatus for forming an image by exposing photographic paper with a plurality of laser beams whose intensity is modulated and color-developing photosensitive material.例文帳に追加

印画紙に強度変調させた複数のレーザ光を露光して感光材を発色させて画像を形成する装置において、エラーが発生した場合異常の原因となる構成要素を特定する。 - 特許庁

When a diaphragm preferentially exposing mode is set by an AE mode switching switch 464, the CPU 439 drives a diaphragm driving circuit 453 to rotate a step motor 415 to set the prescribed opening part of a diaphragm plate 215 on an optical path.例文帳に追加

ＡＥモード切換えスイッチ464により絞り優先露出モードに設定されると、ＣＰＵ439は絞り駆動回路453を駆動してステップモータ415を回動し、絞り板215の所定の開口部を光路上にセットする。 - 特許庁

An opening 74 for exposing part of the surface of the housing 60 is provided at the upper part of the concave 73 of the outer cover 70 for putting a hand thereon for lifting the ultrasonic diagnostic apparatus.例文帳に追加

外装カバー７０のうち窪み７３の上側部分には、当該超音波診断装置を持ち上げる際に手を掛けるための筐体６０の一部の面を露出させる開口７４が設けられる。 - 特許庁

On the top surface of the silicon substrate 11, an insulating film 18 with which a circuit element forming region at its central part is covered and that has openings 19 exposing contact pads 17 at its peripheral part, is formed.例文帳に追加

シリコン基板１１の上面には、中央部の回路素子形成領域を覆い周辺部に接続パッド部１７を露出する開口部１９を有する絶縁膜１８が形成されている。 - 特許庁

When irradiation is stopped, a fact that the rotational angle of the rotary stage 1 has entered the predetermined range with respect to the set angle is confirmed, and then the shutter 2c is closed to stop irradiation with the exposing light.例文帳に追加

また、光照射停止時は、回転ステージ１の回転角度が、設定角度に対し一定範囲内の角度に入ったことを確認しシャッタ２ｃを閉じ露光光の照射を停止する。 - 特許庁

The card extension part 4 is provided with a chip storage part 20 for storing the SIM card 2, and a chip cover 30 for exposing or shielding the storage part 20 by selecting an opened condition or a closed condition.例文帳に追加

カード拡張部４には、ＳＩＭカード２を収容するチップ収容部２０と、開状態又は閉状態の選択によりチップ収容部２０を露出又は遮蔽するチップカバー３０とが設けられている。 - 特許庁

Also, a DC jack 353 for connecting an external power supply and a cover 356 for exposing a connector for an external communicating part are provided on both left and right side faces of the electronic pocketbook 31.例文帳に追加

また、電子財布３１の左右両側面のそれぞれには、外部電源３１９を接続するためのＤＣジャック３５３、外部通信部のコネクタを露出するためのふた３５６が備えられている。 - 特許庁

To speedily coat an end of an electric wire in an exposed state when the end of the electric wire is released by mistake as well as coating and exposing the end of the electric wire according to operation.例文帳に追加

作業に応じて、電線の端部を被覆したり、外部に露出させたりすることに加えて、露出状態の電線の端部を誤って放した場合は、電線の端部を迅速に被覆できるようにする。 - 特許庁