「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

As for four blades 20, 21, 22 and 23 constituting a 2nd blade group, each end edge in an exposing operation direction is formed to a conventional shape, but, each end edge in a setting operation direction is formed to the unique shape.例文帳に追加

後羽根群の４枚の羽根２０，２１，２２，２３は、露光作動方向の端縁は従来のように形成されているが、セット作動方向の端縁が独特な形状に形成されている。 - 特許庁

To provide a photolithography method capable of well forming an immersion region when immersion-exposing an edge region of a substrate and making exposure while preventing a liquid from flowing out of a substrate stage.例文帳に追加

基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成し、液体の基板ステージ外部への流出を抑えた状態で露光できる露光方法を提供する。 - 特許庁

In the method for producing the stamper for the optical information recording medium, a master 6 with a projecting and recessing pattern is produced by exposing and developing a master substrate 3 for recording in which the resist 2 composed of the inorganic material is formed on a substrate 1.例文帳に追加

基板１上に、無機材料から成るレジスト２が形成されている記録原盤３に、露光および現像を行って凹凸パターンを有する原盤６を製作する。 - 特許庁

The semiconductor manufacturing system generates exposure end time data, based on the exposing condition data read from a storage device 73 by means of the exposure end time data generating means 71 of an exposure system 70.例文帳に追加

露光装置７０の露光終了時間データ生成手段７１により、記憶装置７３から読み出した露光条件データに基づいて、露光終了時間データを生成する。 - 特許庁

In this embodiment, coils 5, 6, and 7 are wound horizontally around the lens barrel 1 of a lighting optical system and the lens barrel 2 of an exposing and transferring optical system, respectively, as shown in the figure.例文帳に追加

本実施の形態においては、コイル５、６、７が、図に示すように照明光学系の鏡筒１、露光転写光学系の鏡筒２に、それぞれ水平方向に巻回されている。 - 特許庁

To provide a cleaner device suitably used for a cellphone or the like, presenting fine appearance without exposing a cleaner face, and having excellent design and practicability without soiling the cleaner face.例文帳に追加

クリーナー面が露呈せずに見栄えが良いとともに、クリーナー面が汚れることのない、意匠性、実用性ともに優れる携帯電話機等に好適に使用されるクリーナー装置を提供する。 - 特許庁

The optical element having the anti-reflection film film thickness of which becomes thicker from a center to an outer periphery of the optical element, the optical system, the projection exposing device and the device manufacturing method are provided.例文帳に追加

前記光学素子の中心部から外周へ向かい膜厚が厚くなる反射防止膜を有する光学素子、光学系、投影露光装置、デバイス製造方法を構成する。 - 特許庁

To provide a carrier seal-up bag which can easily form an opening for volatizing contents in a sufficient size with an unsealing part cut-off and which houses a carrier can be held easily without exposing the carrier.例文帳に追加

開封部を切断して十分な大きさの揮散開口を容易に形成できると共に、収納した担体を露出させることなく容易に保持できる担体封入袋を提供する。 - 特許庁

Since the drying of substrates W is performed in the same chamber 37 as that used for cleaning the substrates W, it is not required to move the substrates W for drying by exposing the substrates W to the outside air of the chamber 37.例文帳に追加

乾燥処理を洗浄処理と同じチャンバー３７内で実施するので、乾燥処理のために基板Ｗをチャンバー３７外の空気に晒して移動する必要がない。 - 特許庁

To provide a structurally simple and inexpensive goods display device which can house a distribution cable, connected to electric equipment arranged in a display part, without exposing the distribution cable to the outside.例文帳に追加

簡単かつ安価な構造で、陳列部に配置される電気機器に接続される配線ケーブルを、外部に露呈することなく収容することができる商品陳列装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can attain improvement of an image quality formed onto a recording medium at a low cost, and to provide a method for adjusting a position of an exposing means in an image forming apparatus.例文帳に追加

記録媒体に形成される画質の向上を低コストで図り得る画像形成装置及び画像形成装置における露光手段位置調整方法を提供すること。 - 特許庁

A peripheral edge of the backside surface of the substrate is cleaned, by raising the substrate above the receiving surface of the substrate support to a raised position, and exposing the backside surface of the substrate to an energized cleaning gas.例文帳に追加

基板を基板支持体の受け面上方の上昇位置へと上昇させ、基板の背面を励起させたクリーニングガスに曝露することで基板背面周縁部をクリーニングする。 - 特許庁

An opening 14 for exposing the diffusion layer 13 and an interconnection trench 15 are made and filled with an interconnection material principally comprising a Cu interconnection member 16.例文帳に追加

この拡散層１３が露出する開孔１４及び配線溝１５が形成されており、主にＣｕ配線部材１６により配線材料が埋め込まれた構成となっている。 - 特許庁

In addition, the inclination angle of the camera body 3 can be changed by adjusting the exposure amount of the sliding member 11 exposing from the opening formed at the lower edge of the indicator 4.例文帳に追加

また、表示器４の下端に形成された開口から露出しているスライド部材１１の露出量を調節することにより、カメラボディ３の傾斜角度を変えることができる。 - 特許庁

The air shower head 200 is disposed between a lens section 240 and wafer stage of an aligner and is provided at the center with a hole for exposing a wafer carried onto the wafer stage.例文帳に追加

エアシャワーヘッド２００は、露光装置のレンズ部２４０とウェーハステージとの間に配置され、中央部にはウェーハステージ上に提供されるウェーハを露光するためのホールを具備する。 - 特許庁

A first opening part and second opening part are formed in a phase-shift layer 402 by patterning for exposing part of a mask substrate 400.例文帳に追加

位相シフト層がマスク基板上に形成され、かつ、第１および第２開口部が、前記マスク基板の一部を露光させるためにパターン化により前記位相シフト層内に形成されている。 - 特許庁

To prevent deterioration and deformation of a mask due to forces applied to the mask from an exposure apparatus at accelerating, when a mask is moved at high speed for transferring a pattern by exposing with an electron beam.例文帳に追加

電子線露光によるパターン転写を行う場合に、マスクを高速移動すると、加速時に露光装置からマスクに加わる力によってマスクが劣化、変形するため、これを防止する。 - 特許庁

To prevent drawing data from being very large in amount owing to a smaller beam diameter and higher resolution which are inevitable for a finer pattern to be exposed in a laser beam exposing method.例文帳に追加

レーザビーム露光方法において、露光するパターンの微細化に対応するために不可避となる描画ビーム径や分解能の微細化による描画データの肥大化を防ぐことを課題とする。 - 特許庁

To provide a cushion material which has soft hand and high elasticity and has high thermal permanent set resistance particularly to the applications for vehicles or the like having many chances of exposing the material to a high temperature.例文帳に追加

柔らかな風合いと弾力性に富み、特に高温度下に晒される機会の多い車両用などの用途に対し、高熱耐へたり性を有するクッション材を提供すること。 - 特許庁

The instrument is provided with a collating member driving device for exposing the radiation collating member to a radiation field or saving it from the field which is obtained by an irradiation from the radiation source.例文帳に追加

放射線源から放射される放射野に放射線照合用部材を露出または上記放射野から退避させる照合用部材駆動装置を備えた放射線治療装置。 - 特許庁

To provide an earthquake resisting reinforced wall capable of realizing earthquake resisting reinforcement without exposing post, beam, sill or the like by removing interior finishing material or the like for the existing wall of the existing building.例文帳に追加

既存建物の既存壁の内装材等を除去し、柱、桁、土台等を露出することなく耐震補強を実現することができる耐震補強壁を提供すること。 - 特許庁

A center ornament of the pachinko machine comprises an opening for exposing a pattern display device, a lighting unit which can move in the vertical direction, and a lifting device 74 for moving the lighting unit upward/downward.例文帳に追加

パチンコ機では、センター飾りが、図柄表示装置を露出させる開口と、昇降動作し得る照明ユニットと、照明ユニットを昇降作動させる昇降作動装置７４とを備える。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can form a desired device pattern on a substrate by removing unnecessary liquid, when exposing the substrate by projecting the pattern on the substrate via a projection optical system and liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板にパターンを投影して露光する際、不要な液体を除去して所望のデバイスパターンを基板上に形成可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

The hard mask layer HM is removed in the chamber same as the chamber where the etching for forming the groove TR for wiring is formed, thereby exposing the upper surface of the Low-k film II2.例文帳に追加

配線用溝ＴＲ形成のためのエッチングを行なったチャンバーと同じチャンバー内でハードマスク層ＨＭが除去されてＬｏｗ−ｋ膜ＩＩ２の上面が露出される。 - 特許庁

An exposing unit 18 is disposed on the inside of the toner carrier 12 and a light beam projected therefrom is passed through the supporting layer 14 and collected at the magnetic layer 16 which is thereby heated.例文帳に追加

また、トナー担持体１２の内側には露光装置１８が配置され、この露光装置から発した光ビームが支持層１４を通って磁性層１６に集光し、磁性層１６を加熱する。 - 特許庁

To enhance the strength of a cover provided on a closing cover covering over an outlet fitting hole formed in a floor panel and exposing a cord insertion hole by bending it down.例文帳に追加

フロアパネルに形成されるコンセント取付孔に被せられる塞ぎ蓋に設けられるところの、下方に折り曲げてコード挿通孔を現出させる覆蓋部の強度を高めたもの。 - 特許庁

To improve the workability of detection and maintenance by greatly exposing a heat exchanger, a hydraulic oil tank, a fuel tank, etc., and to enable a plurality of covers to be locked with one key.例文帳に追加

熱交換器、作動油タンク、燃料タンク等を大きく露出させて点検、整備の作業性を向上すると共に、１つの鍵で複数のカバーを施錠できるようにする。 - 特許庁

[2] A semiconductor member is manufactured by applying the positive photosensitive composition described in [1] on a substrate, exposing, developing the exposed part and hardening the unexposed part by heat.例文帳に追加

［２］基板上に［１］記載のポジ型感光性組成物を塗布して露光し、露光部を現像した後、未露光部を熱により硬化させることを特徴とする半導体用部材の製造方法。 - 特許庁

Further, with the semiconductor element 3 mounted on the mounting surface and with the exposing surface of the die pad 1 exposed, the semiconductor element 3, the protrusions 9, and inner leads etc. are sealed with the sealing resin 7.例文帳に追加

そして、搭載面上に半導体素子３を搭載し、ダイパッド１の露出面を露出させて、半導体素子３、突起部９、インナーリード等を封止樹脂体７で封止する。 - 特許庁

To provide a lower bracket for a partition panel and its fixing method, capable of installing and fixing a partition panel lower part, without exposing the bracket to a surface of a floor slab.例文帳に追加

床スラブの表面に取付金具が露出することがなく、間仕切パネル下部を取付固定することができる間仕切パネル用の下部取付金具およびその固定方法の提供。 - 特許庁

A support opening fixed with a gate support part is formed at the thick film part of a resist layer 10 by exposing a support opening pattern 40 for the unexposed part of the resist layer 10.例文帳に追加

レジスト層１０の未露光部分に対して支持開口パターン４０を露光しすることで、レジスト層１０の厚膜部にゲート支持部が被着される支持開口を形成するようにする。 - 特許庁

The cell word lines WL0 to WL31 are fine-processed up to the limit of the exposure processes of an exposing apparatus, denoting distance between lines as "A" and width of line as "B", for example, in the NAND memory unit MU.例文帳に追加

たとえば、ＮＡＮＤ型メモリユニットＭＵにおいて、セルワードラインＷＬ０〜ＷＬ３１は、ライン間距離を“Ａ”、ライン幅を“Ｂ”とし、露光装置の露光限界まで微細加工されている。 - 特許庁

The first light-shielding pattern 6 includes a first semi-light-shielding portion 2A and an auxiliary pattern 3 which is arranged within the first semi-light-shielding portion 2A and allows the exposing light to pass through in an opposite phase.例文帳に追加

第１の遮光パターン６は、第１の半遮光部２Ａと、第１の半遮光部２Ａ内に配置され且つ露光光を反対位相で透過させる補助パターン３とを有する。 - 特許庁

It is characterized by forming an insulating layer with paste, thereafter polishing surface of the insulating layer, and exposing a bump electrode, after preforming the bump electrode on a lower electrode.例文帳に追加

予め下層電極上に突起状電極（バンプ電極）を形成した後、ペーストで絶縁層を形成し、その後絶縁層表面を研磨し、バンプ電極を露出させることを特徴とする。 - 特許庁

This method for color developing the surface of silicon is characterized by forming the oxide film on the surface of the silicon by exposing the silicon to an atmosphere of a silicon chloride gas and supplying moisture.例文帳に追加

シリコンをシリコン塩化物ガスの雰囲気に晒し、水分を供給することにより前記シリコン表面に酸化膜を形成することを特徴とするシリコン表面の発色方法である。 - 特許庁

The method is for processing the photoresist by exposing light from the electrodeless UV bulb and is applicable to both positive and negative photoresists.例文帳に追加

本発明の方法は、無電極ＵＶ電球に由来の光に暴露することによりフォトレジストを処理する方法であって、ポジティブフォトレジストおよびネガティブフォトレジストの両方に適用できる。 - 特許庁

To provide a multiple flash photographing system by which a photographer photographes a main photographing subject with proper exposing simply without requiring detailed setting even under any photographing condition.例文帳に追加

どのような撮影条件であっても、撮影者が細かい設定を行うことなく簡単に主要被写体を適正露出で撮影することができる増灯撮影システムを提供する。 - 特許庁

A predetermined pattern is formed by exposing and developing the positive resist layer 13 as the upper layer with an ionizing radiation in a wavelength range capable of having decomposing reaction of the positive resist layer (PMIPK) 13.例文帳に追加

次に、ポジ型レジスト層（ＰＭＩＰＫ）１３が分解反応する波長域の電離放射線にて上層のポジ型レジスト層１３を露光、現像して所定のパターンを形成する。 - 特許庁

A predetermined pattern is formed by exposing and developing the positive resist layer 12 as the lower layer with an ionizing radiation in a wavelength range capable of having decomposing reaction of the positive resist layer (PMMA) 12.例文帳に追加

次に、ポジ型レジスト層（ＰＭＭＡ）１２が分解反応する波長域の電離放射線にて下層のポジ型レジスト層１２を露光、現像して所定のパターンを形成する。 - 特許庁

After a semiconductor substrate 1 is covered with a resist mask RM, an opening part OP for exposing the entire upper surface of a polysilicon gate 12 is formed using photolithography and dry-etching.例文帳に追加

半導体基板１上をレジストマスクＲＭで覆った後、フォトリソグラフィーおよびドライエッチングを用いて、ポリシリコンゲート１２の上面全体を露出させる開口部ＯＰを形成する。 - 特許庁

To provide a gas generating agent composition which can improve heat resistance, particularly heat aging resistance and further, can sufficiently maintain a combustion completion time even after exposing to high temperature.例文帳に追加

耐熱性、特に耐熱老化性を向上させることができ、高温に晒された後にも燃焼完了時間を十分に維持することができるガス発生剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a molding mold and a molding method which can promote the functionality of functional particles by exposing them to the surface of a molded product simultaneously with the molding process of a resin material.例文帳に追加

機能性粒子を表面に露出させることによるその機能性の促進を、樹脂材料の成形工程と同時に行う成形用金型及び成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which can correct the critical dimension nonuniformity of a photoresist pattern on a semiconductor substrate and can be used versatilely for various phototmasks, and to provide a method of exposing a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上のフォトレジストパターンの限界寸法不均一性を補正でき、いろいろなフォトマスクに汎用で使用できる露光装置及び半導体基板の露光方法を提供する。 - 特許庁

This film unit is equipped with a photographing lens 6 guiding light to loaded film and exposing the film and a shutter which opens the optical path of the lens 6 at prescribed speed by the depressing of a release button 9.例文帳に追加

装填されているフィルムに光を導いてフィルムを露光する撮影レンズ６と、レリーズ釦９への押下によって所定速度で撮影レンズの光路を開くシャッターとを備える。 - 特許庁

The suspension lead 8 is arranged inside a resin sealing area 17 in the semiconductor device and a part other than a heat radiating fin 4 exposing over the sealing resin in the lead frame.例文帳に追加

吊りリード８は、半導体装置における樹脂封止エリア１７の内部と、リードフレームにおける封止樹脂から露出した放熱フィン４の部分以外の部分とにわたって配置されている。 - 特許庁