Exposingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6240件
In these load-lock chambers, the wafer is transferred from the wafer scrubber chamber to the vacuum ultraviolet ray treating chamber, and from the vacuum ultraviolet ray treating chamber to the CVD chamber without exposing to the atmosphere.例文帳に追加
これらロードロック室では、ウエハを大気に曝さない状態で、ウエハスクラバ室から真空紫外光処理室への移送、および真空紫外光処理室からCVD室への移送が行われる。 - 特許庁
Additionally, the method combines a kind of step function comprising ramps and steps, in a row of the threads so that the depths of the threads can have their respective relief angles and exposing positions.例文帳に追加
これに加えて、ねじ山列に、ランプと階段からなる一種の階段関数を重ね合わせ、そのようにして、ねじ山歯の逃げ角と露出した位置とをそれぞれ具体化することが提案される。 - 特許庁
To provide a sealing material coating device capable of coating a substrate with the sealing material without exposing an organic EL element to atmosphere and shortening the time required for manufacturing an organic EL display device.例文帳に追加
有機EL素子を大気に曝すことなく、基板上にシール材を塗布することができ、有機EL表示装置の製造に要する時間を短縮できるシール材塗布装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a near-field exposing method with which the pattern of a fine opening formed on an exposure mask can be accurately and efficiently exposed, with proximity EB lithography, to 1:1 with respect to an object to be exposed.例文帳に追加
露光用マスク上に形成された微小開口のパターンを、被露光物に対して正確に効率よく、1:1に等倍露光することが可能となる近接場露光方法を提供する。 - 特許庁
The battery pack 1 is prepared, by placing a protective circuit substrate 7 on one side of a battery 2 and by resin-molding the one side and the protective circuit substrate 7 in a state of exposing a terminal 7a and a check terminal 7a.例文帳に追加
電池パック1は、電池2の一側面に保護回路基板7を配し、端子7a及び検査端子7aが露出する状態で、前記一側面及び保護回路基板7を樹脂モールドしてなる。 - 特許庁
To obtain a high quality image by decreasing positional errors in a latent image in an image forming apparatus that forms a latent image by exposing a rotating latent image carrier, and in an image forming system equipped with the apparatus.例文帳に追加
回転する潜像担持体を露光して潜像を形成する画像形成装置および該装置を装備する画像形成システムにおいて潜像の位置誤差を低減して高品質な画像を得る。 - 特許庁
To provide a proximity exposing device and an proximity exposure method capable of providing stable exposure accuracy by performing idle operation regardless of the change of state of the device while preventing occurrence of tact loss.例文帳に追加
装置の状態変化に関わらず空運転を行って、タクトロスの発生を防止しつつ、安定した露光精度を提供することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。 - 特許庁
The semiconductor substrate 100 may further include a blocking body provided on the base substrate 102 and provided with a plurality of openings for exposing at least a part of the impurity region 104.例文帳に追加
当該半導体基板100は、ベース基板102上に設けられ、不純物領域104の少なくとも一部を露出する複数の開口が設けられた阻害体をさらに備えてもよい。 - 特許庁
On the cylindrical part 58, a hole 54 for exposing the bolt 35b to the outside of the cylindrical part 58 after the inflator assembly 30 is inserted and a belt 51 extending in a radial direction of the cylindrical part 58 are provided.例文帳に追加
筒状部58には、インフレータアセンブリ30を挿入した後にボルト35bを筒状部58の外部に出すための孔54と、筒状部58の径方向に延びるベルト51とが設けられている。 - 特許庁
To effectively prevent nozzle clogging due to droplets and foreign matters without exposing a nozzle, even if a burner cap is removed, in a burner for a cooking stove sucking in primary air by the radial Venturi effect.例文帳に追加
ラジアルベンチュリー効果で一次空気を吸い込むようにしたコンロ用バーナにおいて、バーナキャップを取り外してもノズルが露出せず、水滴や異物によるノズル詰まりを効果的に防止できるようにする。 - 特許庁
Here, in the support silicon layer in an area where the grating coupler is formed, a window 31 for exposing the BOX layer is formed, and a reflection film 80 is formed on the BOX layer exposed in the window.例文帳に追加
ここで、グレーティングカプラが形成された領域の支持シリコン層には、BOX層を露出する窓31が形成されており、窓内に露出したBOX層上に反射膜80が形成されている。 - 特許庁
After forming the inter-pixel insulating film 17, the upper metal layer 15b of the source/drain electrode layer 15 is selectively removed from the region 10A, thereby exposing the surface of the electrode layer 15a.例文帳に追加
画素間絶縁膜17の形成後、領域10Aにおいて、ソース・ドレイン電極層15のうち上部金属層15bを選択的に除去することにより、電極層15aの表面を露出させる。 - 特許庁
After the protective insulating film 3 having an opening 3a for exposing an electrode pad 2 is formed on a substrate (semiconductor substrate 1) where the electrode pad 2 is formed, a photosensitive resin film 4 is formed.例文帳に追加
電極パッド2が形成された基板(半導体基板1)上に、電極パッド2を露出させる開口3aを有する保護絶縁膜3を形成した後、感光性樹脂膜4を形成する。 - 特許庁
To provide a device which, after exposing an exposed substrate via a photomask, rotates the photomask by a predetermined angle using, for example, an optical axis as a center of rotation to perform the exposure again.例文帳に追加
被露光基板に対してフォトマスクを介した露光を行った後、フォトマスクを例えば光軸を回転中心として所定角度に亘り回転させて再度露光を行う装置を提供する。 - 特許庁
A preferred composition is useful to reduce reflection of exposing radiation from a substrate back into an overcoated photoresist layer and/or to function as a planarizing, conformal or via-fill layer.例文帳に追加
本発明の好ましい組成物は、基体から上塗りフォトレジスト層に戻る露光放射線の反射を低減させ、および/または平坦化、共形もしくはビアフィル層として機能させるのに有用である。 - 特許庁
To provide a mounting structure of an oil panel easily mounting an oil panel to a food body without exposing a mounting section to the hood body, to an outer surface of a hood section.例文帳に追加
フード本体に対する取付部がフード部の外表面に露出することがなく、しかも、フード本体に容易に取り付けることができるように開発されたオイルパネルの取付構造を提供する。 - 特許庁
To provide a generator for an electron-accompanying air flow, reducing a phenomenon exposing the human body or environment to a dangerous or insanitary state, with a simple structure and capable of discharging a large amount of electrons into air stably and continuously.例文帳に追加
人体や環境に対する危険や非衛生が少なく、構造簡易で、空気中へ大量の電子を安定して放出し続けることができる、電子同伴空気流発生器を提供すること。 - 特許庁
A lithographic manufacturing process comprises an input section 8, a preliminary imaging process 10, a section for measuring a substrate 12, a section for exposing a substrate 14, a post-imaging process 16 and an output section 18.例文帳に追加
リソグラフィック製造プロセスは、入力セクション8、予備画像化プロセス10、基板を測定するセクション12、基板を露光するセクション14、画像化後プロセス16及び出力セクション18からなっている。 - 特許庁
To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.例文帳に追加
位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
The plastic ferrule 10 is equipped with a tubular aligning part 16 having a port 14 for exposing optical fiber at the tip end and a flange 18 projecting outward radially at the base end of the aligning part 16.例文帳に追加
プラスチックフェルール10は、先端に光ファイバ素線露出口14を有する筒状の心出し部16と、心出し部16の基端で径方向外方へ突設されるフランジ部18とを備える。 - 特許庁
To provide a chipping method and a chipping device capable of providing a uniform cutting trace having the predetermined depth, by completely exposing a concrete skeleton surface, by starting work from an optional position.例文帳に追加
任意の位置から作業を開始してコンクリート躯体面を完全に露出させることができ、所定の深さの均一な切削跡を得ることができるはつり方法及びはつり装置を提供する。 - 特許庁
After temporary setting has been carried out by exposing the resin only in the area on the resist pattern 4 (B), thermosetting for promoting three-dimensionalization due to cross-linking of the resist is carried out in a far infrared oven at 160 °C for 1 hour.例文帳に追加
レジストパターン4上の部分の樹脂のみを露光して仮硬化を行った(B)後、160℃で1時間遠赤外線オーブンにいれ、レジストの架橋による3次元化を促すための熱硬化を行う。 - 特許庁
The reflecting sections 15, 21 are formed of Fumed SiO2 having ultrafine porous structure and the heaters 16, 22 are embedded and secured while exposing a part thereof to the surface of the reflecting section 15.例文帳に追加
そして反射部15、21は超微細多孔構造を有するFumdSio2で形成され、また発熱体16、22はその一部が反射部15の表面に露出するようにして埋設・固定されている。 - 特許庁
To provide a method for arranging a micro structure by which exposing can be conducted even if there is any gap exceeding a field depth or a proximity gap allowable deflection in processing of an integrated circuit or a micro machine by lithography.例文帳に追加
フォトリソグラフィによる集積回路やマイクロマシンの加工において、被写界深度やプロキシミティギャップ許容偏差を超える段差があっても露光が可能な微細構造配置方法を提供する。 - 特許庁
At least a part of the substrate is removed for exposing a corresponding part of the first face of circuit structure and a device is mounted on the first exposed face of circuit structure.例文帳に追加
基板の少なくとも一部分は回路構造体の第1の面の対応した少なくとも一部分を露出させるため除去され、回路構造体の露出した第1の面に装置が実装される。 - 特許庁
In this case, it is effective to fit fins 9 for cooling to the exposing part of a core metal 4 at the upper part of the shaft part and further, the fins 9 for cooling can be improved to the durability by forming as an anchor-state.例文帳に追加
特に、軸部上部の芯金4の露出部に冷却用のフイン9を取り付けることも有効であり、さらに冷却用のフイン9をアンカー状として耐久性を上げることができる。 - 特許庁
Electrode 40 are not provided but exposed portions 11F exposing the foundations of the flange portions 11, 11 of a drum core 10 are provided on mounting surfaces 11C of the flange portions 11, 11 of the common mode filter 1.例文帳に追加
コモンモードフィルタ1の鍔部11、11の実装面11Cには、電極40が設けられておらずドラムコア10の鍔部11、11の素地が露出する露出領域11Fが設けられている。 - 特許庁
To obtain an information processor capable of exposing a component element, without having to detach a storage device from a processor body and completely securing the shock-resistance performance of the storage device.例文帳に追加
本発明は、記憶装置を装置本体から取り外すことなく構成要素を露出させることができ、記憶装置の耐衝撃性能を充分に確保できる情報処理装置を得ることにある。 - 特許庁
The highly heat-resistant plastic sheet good in transparency is manufactured by extruding a resin, in which gas is dissolved, from a mold and stepwise exposing the extrudate to an atmosphere of which the pressure is lower than that of a preceding stage.例文帳に追加
ガスを溶解させた樹脂を金型より押し出した後、段階的に前段階よりも低圧の雰囲気に曝すことによる、透明性が良好である高耐熱性プラスチックシートの製造方法。 - 特許庁
To provide a honeycomb filter which is capable of obtaining a high soot combustion velocity while obtaining a suppressing effect of pressure drop buildup before and after soot deposit, which also improves a regeneration efficiency, and which especially maintains durability while increasing contact opportunity of soot and a catalyst by exposing the catalyst group from pores.例文帳に追加
スート堆積前後の圧損上昇の抑制効果を得ながら、高いスートの燃焼速度を得ることができ、さらに、再生効率を向上させるハニカムフィルタを提供する。 - 特許庁
To provide a handle cover structure in which a handle is covered by a covering member to prevent a direct external force on the handle and a covering and exposing the handle by the covering member is made easy.例文帳に追加
ハンドルをカバー部材にて覆うことにより、ハンドルに直接外力がかかる事態の確実な防止を図るとともに、カバー部材によるハンドルの被覆/露出が容易なハンドルカバー構造を提供する。 - 特許庁
The methods for sterilizing silicone hydrogel contact lenses include exposing one or more silicone hydrogel contact lenses to high energy radiation, such as gamma radiation or electron beam radiation.例文帳に追加
本発明によるシリコーンヒドロゲルコンタクトレンズを滅菌する方法は、1以上のシリコーンヒドロゲルコンタクトレンズを、ガンマ放射線または電子ビーム放射線のような高エネルギー放射線に露出させることを含むものである。 - 特許庁
Further, an ink containing a conductive material is continuously applied by printing to the external peripheral part of the metal exposing surface 3b necessary for solder bonding or mounting to its vicinity, thereby forming a conductive thin film layer 20.例文帳に追加
さらに、半田接合又は実装に必要な金属露出面3bの外周部からその近傍にかけて、導電性材料を含むインクを連続的に印刷して導電薄膜層20を形成する。 - 特許庁
Exposure light is projected through a master mask onto a focal position adjusted based on light reflected by the light reflective film when projecting focus detecting light onto the semiconductor substrate, thereby exposing the photoresist.例文帳に追加
半導体基板にフォーカス検出光を照射して光反射膜で反射される反射光に基づいて調整された焦点位置に原盤マスクを介して露光光を照射してフォトレジストを露光する。 - 特許庁
Since the image pickup unit is automatically set to the shielded position of the opening 5 and the exposing position of the photographing lens 231 corresponding to the state change of the main switch, protection and position control can be surely performed.例文帳に追加
メインスイッチの状態変化に応じて撮像ユニット22を開口部5の遮蔽位置と撮影レンズ231の露出位置とに自動設定することで保護及び位置制御を確実にできるようにした。 - 特許庁
To provide a method for producing semiconductor device exposing a planarized upper portion of a projected electrode from the surface of a sealing resin without cutting an upper portion of the sealing resin.例文帳に追加
封止樹脂の上部を切削する加工を行うことなく、封止樹脂の表面から突起電極の平坦化された上部を露出させることが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A sprocket exposure window 74 for exposing the tooth parts of a sprocket 73 is formed at a position which is opposed to the perforation of a photographic film at the right under part of a picture frame 19 of a main body unit 2.例文帳に追加
本体ユニット2の画枠19の右側下方には写真フィルムのパーフォレーションと対向する位置にスプロケット73の歯部を露出させるためのスプロケット露出窓74が形成されている。 - 特許庁
The antenna connection terminal 81 is installed inside an area sealed with the sealing resin 7 and a partial opening part 71 exposing the antenna connection terminal 81 is formed at the sealing resin 7.例文帳に追加
アンテナ接続端子81が、封止樹脂7にて封止した領域内に設置されていると共に、アンテナ接続端子81を露出させる部分開口部71が封止樹脂7に形成されている。 - 特許庁
With the cam plate 75 rotated, the liquid crystal panel 61 is rotatably moved, exposing the image displayed on the liquid crystal panel 61 on the photosensitive material 5 at a plurality of places in the middle of the rotation.例文帳に追加
カム板75を回動させることにより液晶パネル61が回動運動を行い、その回動途中の複数の位置で該液晶パネル61に表示された画像を感光材5に露光する。 - 特許庁
To improve an appearance at non-lighting of a lighting fixture for a vehicle by fitting a lens-fixing means inside a lens holder and not exposing the lens-fixing means outside a projection type light source unit.例文帳に追加
レンズ固定手段をレンズホルダーの内側に設けて投射型光源ユニットの外部にレンズ固定手段を露呈させないようにすることで、車両用灯具の非点灯時の見栄えを改善する。 - 特許庁
A method for performing coagulation and settlement treatment on aluminum-containing waste water or waste water to which an aluminum-based inorganic coagulant is added includes exposing the waste water to a gas including carbon dioxide under a condition of pH 9 to 12.例文帳に追加
アルミニウム含有排水又はアルミニウム系無機凝集剤が添加された排水を凝集沈殿処理する方法において、pH9〜12の条件下に該排水に炭酸ガスを含むガスを曝気する。 - 特許庁
To secure convenience of an operator while avoiding a risk of excessively exposing an object to X-rays in an X-ray image diagnosis apparatus which can accept operations from a plurality of operation panels.例文帳に追加
複数の操作パネルからの操作を受け付け可能なX線画像診断装置において、被検体における過剰被爆の危険を回避しつつ、操作者の利便性を確保できるようにする。 - 特許庁
A sacrificial film is formed on a floating gate film formed on a semiconductor substrate and patterning is performed thereon, so that a sacrificial film pattern is formed which has an opening exposing a part of the floating gate film.例文帳に追加
半導体基板上に形成されたフローティングゲート膜上に犠牲膜を形成しパターニングして前記フローティングゲート膜の一部を露出させる開口部を有する犠牲膜パターンを形成する。 - 特許庁
In the exposure device 1 exposing a mask pattern on a substrate 100 by aligning the substrate 100 and a mask 4, an alignment mark 51 arranged on a stage 2, a laser-length measurement system 6, and cameras 7 are mounted.例文帳に追加
基板100とフォトマスク4とを位置合わせして基板100にマスクパターンを露光する露光装置1において、ステージ2に配置されたアライメントマーク51と、レーザー測長系6と、カメラ7とを備える。 - 特許庁
To provide a charging camera case in which a chargeable battery in the camera can be charged by a solar cell without enlarging the case nor exposing the camera to high temperature environment.例文帳に追加
ケースを大型化することなく、かつ、カメラを高温の環境下にさらすことなく、太陽電池によってカメラ内の充電可能な電池を充電することができる充電用カメラケースを提供する。 - 特許庁
A surface on which the second electrode of the ohmic contact formation layer of the diode is a crystal surface inclined in a direction for exposing a (111)A surface from a (100) surface.例文帳に追加
このダイオードの前記オーミックコンタクト形成層の第2の電極を形成する面が、(100)面から(111)A面を表出させる方向へ傾斜した結晶面であることが特徴である。 - 特許庁
To provide a method for forming films capable of improving controllability in low film forming speed at the time of evaporation, and solving problems occurring in organic materials by not exposing the organic materials to a high temperature.例文帳に追加
蒸着時の低製膜速度におけるコントロール性を高め、かつ、有機林料を高温に晒すことなく有機材料に発生する問題を解決することが可能である製膜方法を提供する。 - 特許庁
The portion exposing from the through hole H of the dielectric layer 28A is rubbed on the platen 48 to generate friction charge, generating electrostatic attractive force between the conveyor belt 28 and the platen 48.例文帳に追加
誘電層28Aの貫通孔Hから露出した部分をプラテン48に摺擦させて摩擦帯電を発生させ、搬送ベルト28とプラテン48との間に静電吸引力を発生させる。 - 特許庁
Subsequently the color filter layer 4 is formed by back-exposing a photoresist 4a from the substrate side and color filter layers 4b are formed to bury gaps between the color filter layers to flatten the surface.例文帳に追加
そして、感光性レジスト4aを基板側から背面露光して、カラーフィルタ層4を形成すると共に各カラーフィルタ層の隙間を埋めるようにカラーフィルタ層4bを形成して表面を平坦化する。 - 特許庁
When housed commodities A are to be displayed, the cutting part 20 is cut off to separate and remove the outer case part 3' from the tray part 2' for exposing the commodities A contained in the tray part 2'.例文帳に追加
収納した商品Aの陳列展示時には切取り部20を切り取ることによってトレー部2′に対して外箱部3′を分離して取除きトレー部2′内の商品Aを表出させる。 - 特許庁
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