「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(68ページ目) - Weblio英語例文検索

The integrated circuit photofabrication mask is provided with a light-transmissive substrate 43 and a mask layer 45 which is formed on the light-transmissive substrate and in which a circuit pattern for exposing a photosensitive material is formed.例文帳に追加

集積回路用露光マスクは、光透過性基板４３と、この光透過性基板上に形成され、感光性材料を露光するための回路パターンが形成されたマスク層４５とを備えている。 - 特許庁

Here, the process of exposing the aluminum wiring partially or wholly and the process of the anti-corrosion treatment for the aluminum wiring layer are successively carried out in a condition where the substrate 201 does not contact with the atmosphere air.例文帳に追加

ここで、アルミ配線の一部或いは全部を露出させる工程とアルミ配線層の腐食防止処理を行う工程とを、基板２０１が大気に触れない状態で連続して行う。 - 特許庁

The transformation method includes: a step of pre-culturing the explants in the presence of an Agrobacterium inducer; and a step of exposing the transformed explants to a shoot regeneration media that accelerates shoot development.例文帳に追加

アグロバクテリウムインデューサーの存在下で移植片を前培養する段階、および形質転換された移植片をシュート再生を加速するシュート再生培地に曝露する段階を含む形質転換方法。 - 特許庁

Micro particles having a means particle diameter of more than 0.01 μm and less than 1.0 μm are contained on a glass plate 2, and a reflection suppressing film 1 on which surface inegularity is formed by exposing the micro particles is formed.例文帳に追加

ガラス板２上に、０．０１μｍ以上１．０μｍ以下の平均粒径を有する微粒子を含み、この微粒子が露出して表面に凹凸が形成された反射抑制膜１を形成する。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of exposing a complementary split pattern on a mask with high precision and high efficiency, an alignment method therefor, and a semiconductor device manufacturing method capable of enhancing the yield thereof.例文帳に追加

マスク上の相補分割パターンを高精度かつ高効率で露光できる露光方法と、そのためのアライメント方法と、半導体装置の歩留りを高くできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solid electrolyte fuel cell enhancing durability, power generation efficiency, and simply utilizing heat by exposing the whole surface of an anode layer to a frame.例文帳に追加

本発明は、火炎が固体電解質基板上のアノード層全面を晒すようにして、耐久性の向上と、発電効率の向上と、簡単な熱利用とを図る固体電解質燃料電池を提供する。 - 特許庁

In the exposure device for exposing a substrate, the exposure device has a cooling means 106 for radiation-cooling the substrate and a changing means 104 for changing the quantity of the radiation of the cooling means.例文帳に追加

基板を露光するための露光装置において、基板を輻射冷却するための冷却手段１０６と冷却手段の輻射量を変更するための変更手段１０４とを有する。 - 特許庁

Then, the support is etched in the state of the upper part of the support in the SOI formation region being covered with a resist pattern to form an opening surface in the support for exposing part of the end of the SiGe layer 3.例文帳に追加

そして、ＳＯＩ形成領域の支持体上をレジストパターンで覆った状態で支持体をエッチングすることにより、支持体にＳｉＧｅ層３の端部の一部を露出させる開口面を形成する。 - 特許庁

A carrier driving roller 53 is a cylindrical body made of a metallic member and a high friction coating film 11 with ceramic particles exposing on the surface is uniformly formed in a region in contact with recording paper P.例文帳に追加

搬送駆動ローラ５３は、金属部材から成る円柱体であり、その表面にセラミック粒子が露出した高摩擦被膜１１が、記録紙Ｐの接する領域に一様に形成されている。 - 特許庁

To provide a method for driving an image recorder capable of optimizing a developing processing speed and an exposing speed without making the developing and processing speed higher than needed and without providing a buffer part.例文帳に追加

現像処理速度を必要以上に大きくすることなく、バッファ部をも設けることなく、かつ現像処理速度と露光速度との最適化を可能とする画像記録装置駆動方法を提供する。 - 特許庁

A mask and a photosensitive substrate 3 are synchronously moved to plural parallel optical paths, and the image of the mask is projected to transfer regions P1-P5 on the photosensitive substrate 3 with an exposing light from each optical path.例文帳に追加

並列する複数の光路に対しマスクと感光基板３とが同期移動して各光路からの露光光によりマスクの像を感光基板３上の転写領域Ｐ１〜Ｐ５に投影する。 - 特許庁

To provide a child seat fixing device of a stroller for suppressing enlargement of the size of a child seat and preventing external appearance from being impaired without exposing a pin for fixing the child seat to an outside surface of an armrest.例文帳に追加

チャイルドシートサイズの拡大を抑えるとともに、チャイルドシート固定用のピンがアームレストの外表面に露出することがなく外観が損なわれないようにしたベビーカーのチャイルドシート固定装置を得ること。 - 特許庁

A protective layer and a resist mask 13 are layered on a magnetic layer 12, a protective layer pattern 14P is obtained by using the resist mask 13 as a mask and then the resist mask 13 is decomposed and removed by exposing the resist mask 13 to hydrogen plasma PLH.例文帳に追加

磁性層１２に保護層とレジストマスク１３を積層し、レジストマスク１３をマスクにして保護層パターン１４Ｐを得た後に、レジストマスク１３を水素プラズマＰＬＨに晒して分解除去させた。 - 特許庁

First and second conductive patterns 31, 32 and a via hole 2a exposing a third conductive pattern 33 provided inside of the second substrate 2 are provided respectively.例文帳に追加

第２の基板２の両面には、第１及び第２の導電パターン３１，３２と、第２の基板２の内部に設けられた第３の導電パターン３３を露出させるビアホール２ａとがそれぞれ設けられている。 - 特許庁

To provide a device to grow a thin film on a substrate by exposing the substrate to the alternative surface reaction of a vapor phase reactant to form a thin film on the substrate through the surface reaction.例文帳に追加

表面反応によって基板上に薄膜を形成する気相反応物の交互の表面反応に基板を曝すことにより、前記基板上に前記薄膜を成長させる装置を提供する。 - 特許庁

Then, with the resist pattern 9 as a mask; the support 7', the Si layer 5, and the SiGe layer 3 are subjected to dry etching successively, and an open surface H for exposing the side of the SiGe layer 3 is formed under the support 7'.例文帳に追加

次に、レジストパターン９をマスクに支持体７´、Ｓｉ層５及びＳｉＧｅ層３を順次ドライエッチングして、支持体７´下にＳｉＧｅ層３の側面を露出する開口面Ｈを形成する。 - 特許庁

Also, since the tool 1 for wiring boards has a window 11 for exposing the underside of the wiring board regions, the toll 1 for wiring boards itself does not come into contact with the cluster 3 of the wiring boards either.例文帳に追加

そして配線基板用治具１は配線基板領域５の下面を露出させる窓部１１を有しているので、配線基板用治具１自体も配線基板領域５に接触することもない。 - 特許庁

The substantial whole of aggregate 40 having excellent visual recognizing properties is buried to at least a part of the surface layer of a curb body 10 placed on an execution surface, exposing parts of each surface of the aggregate.例文帳に追加

施工面に打設される縁石本体１０の表面層の少なくとも一部に、視認性の良好な骨材４０の実質的全部を、前記骨材それぞれの表面の一部を露出させて埋設した。 - 特許庁

An electrophotographic apparatus is mounted with this single layer type electrophotographic photoreceptor as a photoreceptor equipped with an electrifying device, an imagewise exposing device, a developing device, a transfer device, a cleaning device, a de-electrifying device, etc.例文帳に追加

この単層型電子写真感光体を帯電手段、像露光手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段などを備えた感光体として電子写真装置に搭載する。 - 特許庁

In addition, a plurality of alumina nuggets 11 are embedded in an inner bottom surface and a side wall of an alumina die 22 in such a way that its exposing area of about 0.01 to 4 cm^2 and an embedding depth of about 0.5 to 30 mm may be attained.例文帳に追加

また、アルミナ製鋳型２２の内部の底面および側壁に複数のカーボン塊１１が露出面積：０．０１〜４ｃｍ^2、埋め込み深さ：０．５〜３０ｍｍとなるように埋め込まれている。 - 特許庁

A large window hole 46 is bored for exposing the holes 41, 42, and 43 in a lower part of a lower piece 5a of the top rail 5 for the display part and the operation part 37a of the indicating lamps 35 and 36 and the reset switch 37.例文帳に追加

表示灯３５、３６及びリセットスイッチ３７の表示部や操作部３７ａのための孔４１、４２、４３が上框５の下片５ａの下方に露出する大きい窓孔４６を穿設する。 - 特許庁

The downstream side of a transfer means with respect to the rotating direction of a photoreceptor and the upstream side of a cleaning means are provided with a means for exposing the photoreceptor from the side face direction in the longitudinal direction of the photoreceptor.例文帳に追加

感光体の回転方向に対して転写手段の下流側で、かつクリーニング手段の上流側に、感光体の長手方向の側面方向から感光体を露光する手段を設ける。 - 特許庁

The method is characterized by changing the surface energy by forming a coating film on the projecting and recessing parts, subsequently exposing them via a mask and making the projecting part or the recessing part of the coating film be subjected to a photochemical reaction.例文帳に追加

凸部及び凹部に被膜を形成し、然る後にマスクを介して露光することで凸部若しくは凹部の前記被膜に光反応させることにより表面エネルギーを変えることを特徴とする。 - 特許庁

A switch plate 32 is attached to the inner wall of the front cover in the state of exposing a charging switch 17 to the outside and is operated to move in the arcuate form so as to intersect with the moving path of the member 14.例文帳に追加

スイッチ板３２は、充電スイッチ１７を外部に露呈した状態で前カバーの内壁に取り付けられ、バリア操作部材４１の移動路に交差するように円弧状に移動操作される。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of exposing a body to be scanned with good quality by preventing a light transmission member from being soiled by dust such as developer accumulated on a shutter member when the shutter member is operated.例文帳に追加

シャッタ部材の動作時に、シャッタ部材上に堆積した現像剤等の粉塵によって光透過部材が汚損されず、被走査体を高品位に露光することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical element by which the non-exposing light unnecessary for exposure is restrained from reaching a wafer to keep excellent the precision when the wafer is exposed and to provide an exposure apparatus and a method for manufacturing a device using the optical element and the exposure apparatus.例文帳に追加

露光に不要な非露光光のウエハへの到達を抑制し、露光精度を良好に維持できる光学素子、露光装置、及びこれらを用いたデバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

This polishing wheel 20 is formed by spirally winding a sheet 24 provided with a polishing layer 25 on a surface thereof, and an exposing end of a side edge portion in a width direction of the sheet forms a polishing surface.例文帳に追加

研磨層２５をその表面に設けたシート２４を渦巻き状に巻装して成り、シートの幅方向の側端部が露出する端面を研磨面とするようにした研磨ホイール２０に関するものである。 - 特許庁

The method comprises, before, during or after a step for synthesizing or extracting a substance to be modified, a step for exposing the substance or a raw material substance thereof to an atmosphere having appropriate concentration of deuterium.例文帳に追加

改質対象の物質を合成もしくは抽出する工程の前、工程中または工程後に、当該物質またはその原料物質を、適宜な重水素濃度の雰囲気に曝す工程を有する。 - 特許庁

To provide an air returning machine uniforming an indoor temperature, reducing energy consumption of air conditioning, and not directly exposing a person in a room to cold air or the like from the air returning machine.例文帳に追加

室内温度を均一化し冷暖房のエネルギー消費を少なくし、且つ、室内に居住等する者などが、空気還流機からの冷気等に直接さらされない空気還流機を提供する。 - 特許庁

To achieve practical application of a pattern transfer process by using a gray-tone mask having a gray-tone part which is constituted by a micro- light-shielding pattern lower than a limit of resolution of an exposing equipment that uses the gray-tone mask.例文帳に追加

グレートーンマスクを使用する露光機の解像限界以下の微細遮光パターンで構成されるグレートーン部を有するグレートーンマスクを用いたパターン転写プロセスの実用化を目的とする。 - 特許庁

A space between the lens of an aligner and the upper layer film 14 is filled with an immersion substance 15, and an exposing light is irradiated from the aligner to the resist film 13 through the immersion substance 15 and the upper layer film 14.例文帳に追加

そして、露光機のレンズと上層膜１４との間に液侵物質１５を充填し、露光機から液侵物質１５及び上層膜１４を通してレジスト膜１３に露光光を照射する。 - 特許庁

To obtain an apparatus and method for imaging in which high speed image processing is realized in monochromatic mode without increasing the data transfer rate or shortening the exposing time.例文帳に追加

データ転送速度を高くすることなく、露光時間を短くすることなく、単色モード時において画像形成処理速度の高速化を可能にした画像形成装置および画像形成方法を得る。 - 特許庁

To provide a construction machine driving cab and a construction machine, capable of simply carrying out work for exposing a filter attaching portion and an ambient air filter, and work for covering the filter attaching portion and the ambient air filter.例文帳に追加

フィルタ装着部および外気フィルタを露出させる作業と、フィルタ装着部および外気フィルタを覆う作業とを簡単に行える建設機械用運転室および建設機械の提供。 - 特許庁

A photography mode switching dial 9 is embedded in an outer cover 10 on the rear surface of the camera by exposing only a necessary part and a thumb place 11 is arranged at the same position as that of the switching dial 9.例文帳に追加

カメラ背面の外装カバー１０内に、必要な部分のみを露出して撮影モード切替ダイヤル９を埋め込み、この切替ダイヤル９と同じ位置に親指置き場１１を配置する。 - 特許庁

It is preferable to include a heat treating step for heating the silica raw material at 400°C or higher and charging the same into cooling liquid before the pulverizing step for the purpose of effectively exposing the grain boundaries.例文帳に追加

効果的に結晶粒界を露出する目的で、前記粉砕工程の前に、４００℃以上に前記ケイ石原料を加熱し冷却液に投入する熱処理工程を有することが望ましい。 - 特許庁

A control section 30 controls the exposing section to perform scanning a plurality of times with a light beam based on the same line data and when scanning is performed a plurality of times with that light beam, the carrying section moves the print sheet.例文帳に追加

制御部３０は、露光部によって、同一のラインデータに基づく光ビームを複数回走査させるとともに、この光ビームを複数回走査させる間に、搬送部によって、印画紙を移動させる。 - 特許庁

To improve in design and operability by fitting a reset switch 7 inside a fixture main body 3 so as to enable the reset switch 7 operated with a simple tool without exposing an operating part of the reset switch 7 outside the fixture.例文帳に追加

器具の外郭にリセットスイッチ７の操作部を露出させず、簡単な工具によりリセットスイッチ７を操作できるようリセットスイッチ７を器具本体３内に設け、意匠性と操作性を改善する。 - 特許庁

Accordingly, the plurality of light source devices arrayed on the board face 1 emit light and, thereby, it seems that the light-source exposing type signboard itself emits light in a shape of letters or figures patterned on the board face 1.例文帳に追加

そして、盤面１上に配列された複数の光源装置が発光することにより、光源露出型看板自体が、盤面１の象った文字や図形形状に発光したように見える。 - 特許庁

This machining distortion removing device is provided with a chuck means 34 for holding the workpiece by exposing the face to be worked and a polishing means 114 for polishing the face to be worked of the workpiece held on the chuck means.例文帳に追加

被処理面を露呈せしめて被加工物を保持するためのチャック手段（３４）と、チャック手段上に保持された被加工物の被処理面を研磨するための研磨手段（１１４）とを具備する。 - 特許庁

The exposure apparatus for exposing a substrate includes a lighting optical system 30 to light an original plate 15 by lighting light, and a projection optical system 16 to project the pattern of the original plate 15 to a substrate 17.例文帳に追加

基板を露光する露光装置は、照明光で原版１５を照明する照明光学系３０と、原版１５のパターンを基板１７に投影する投影光学系１６とを備える。 - 特許庁

An aligner EX fills an optical path space of the exposing device EX with a liquid LQ, and exposes a substrate P by irradiating the substrate P with the exposure light EL through the projection optical system PL and the liquid LQ.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たし、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光する。 - 特許庁

A plurality of openings 21 are formed in the insulating substrate 11, and lands 23b are formed of the conductor pattern 13 exposing from the openings 21 and are connected with solder balls 18, respectively.例文帳に追加

絶縁基板１１には複数の開口部２１が設けられ、各開口部２１から露出する導体パターン１３によりランド２３ｂが形成され、各ランド２３ｂには半田ボール１８が接続されている。 - 特許庁

This method for knitting the stone-wash-like knitted fabric is provided by feeding a colored yarn which becomes a base, and a knitting yarn having a different color from the above colored yarn, and exposing the knitting yarn at random from the base part consisting of the colored yarn.例文帳に追加

筒状編み地の表面部分にベースとなる色糸と、この色糸の色と異なる編み糸とが供給され、色糸からなるベース部分に編み糸をランダムにのぞかせるようにしたものである。 - 特許庁

(b) An exposure part 14 is formed by exposing the sill 1 and a column base part of the column 3 by removing the column base side of the mortar backing 10 when the mortar backing 10 is safely left as a surface.例文帳に追加

モルタル下地１０が面として安全に残されている場合に、モルタル下地１０の柱脚側を除去して、土台１及び柱３の柱脚部を露出させて、露出部１４を形成する（ｂ）。 - 特許庁

Moreover, the control unit 161 changes settings of the exposing conditions of the exposure unit 5 to provide the constant line width of the wafer treated later by the coating development treatment system based on the trend of the line width.例文帳に追加

そして，制御装置１６１は，当該線幅の傾向に基づいて，今後塗布現像処理システムで処理されるウェハの線幅が一定になるように，露光装置５の露光条件の設定を変更する。 - 特許庁