「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(71ページ目) - Weblio英語例文検索

The parallelogram barrier ribs 4 can be easily obtained by exposing a photosensitive material to light from a diagonal direction, and any photosensitive material is usable, so the cathodes 6 can be patterned at low cost through simple processes.例文帳に追加

平行四辺形の隔壁４は、感光性材料に斜め方向から露光することで、容易に得られ、また、感光性材料は任意のものが使用できるので、簡易な工程でかつ低コストに、陰極６がパターニングできる。 - 特許庁

To provide a simplified sash for Japanese clothes, which enables even a person who is inexperienced in wearing a sash when wearing kimono to simply easily wear, and is excellent in appearance after wearing without exposing an attachment tool to the outside.例文帳に追加

着物を着る時の帯の着用に不慣れな者であっても簡易的に容易に装着することができると共に、装着具が外部に露出することなく装着後の見栄えが良い簡易式和服用帯を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a damascene gate or a replaced gate, wherein the uneven gate pattern density is small, and in a CMP process of exposing the upper surface of a dummy gate, dishing does not occur.例文帳に追加

ダマシン型ゲートあるいはリプレース型ゲートを有する半導体装置において、ゲートパターン密度の偏りを小さくし、ダミーゲートの上面を露出させるＣＭＰ工程において、ディッシングが発生しないようにする。 - 特許庁

The second oxide film 35 extending in the vertical direction is then removed by etching along with underlying second nitride film 34 and first oxide film 32 to form a trench 38 for exposing the Si substrate 31.例文帳に追加

そして、エッチングによって垂直方向に延在する第２酸化膜３５とその下にある第２窒化膜３４と更にその下にある第１酸化膜３２を除去して、Ｓi基板３１を露出させる溝３８を形成する。 - 特許庁

To provide an image exposure device capable of obtaining an image of good reproducibility and high accuracy, as for an inexpensive image exposure device using long-life LEDs and for exposing with three or more exposure values.例文帳に追加

安価な装置で、長寿命なＬＥＤを用いた３値以上の露光量で露光する画像露光装置において、再現性がよくかつ高精度な画像を得ることができる画像露光装置を提供する。 - 特許庁

On an interlayer insulating film 109 serving as a patterning layer, a predetermined range is removed to have an etching region for exposing at least a part of the upper clad layer 106 or a second conductive semiconductor region 108.例文帳に追加

パターニング層としての層間絶縁膜１０９は、その所定範囲を除去して上部クラッド層１０６又は第２導電型半導体領域１０８の少なくとも一部を露出させるエッチング領域を有する。 - 特許庁

Such a part of a first semiconductor layer 22 as not covered with an insulation layer 23 is etched using an etching agent and removed thus exposing a part of the first principal surface 10b of a semiconductor substrate 10.例文帳に追加

エッチング剤を用いて第１の半導体層２２の絶縁層２３により覆われていない部分をエッチングすることにより除去し、半導体基板１０の第１の主面１０ｂの一部を露出させる。 - 特許庁

In the case of operating the previewing operation member 10 before exposing a film, the electronic object image exposed based on the set stop value and the second time value is displayed on the monitor device 4, then, the user can confirm the photographing state.例文帳に追加

フィルム撮影前にプレビュー操作部材１０を操作すると設定絞り値，秒時値に基づいた露光状態の被写体像の電子画像がモニタ装置４に表示され、撮影状態を確認することができる。 - 特許庁

To prolong the lifetime of a pellicle film while suppressing the absorption of exposing light by active gas by limiting the number of molecules in an active purge gas filling a space touching the pellicle film and keeping its concentration at a high level.例文帳に追加

ペリクル膜に接する空間に充填されるパージガスの活性ガスの分子の数を抑え、かつ、この濃度を高く保つことにより、活性ガスによる露光光の吸収を抑えつつ、ペリクル膜の延命化を図る。 - 特許庁

A first insulating film 3a covering first wiring 6 formed on a substrate with an insulating film 2 interposed is formed, and a first opening 3a-1 exposing the first wiring 6 is formed in the first insulating film 3a.例文帳に追加

基板上に絶縁膜２を介して形成された第１配線６を被覆する第１絶縁膜３ａを形成し、第１絶縁膜３ａに第１配線６を表出する第１開口３ａ−１を形成する。 - 特許庁

When the disk tray 14 is located at either an exposing location or a storage location, static electricity advanced into the internal of a front panel 6 flows into a ground section of a drive control board through the metal plate 32 and the conductor 35.例文帳に追加

ディスクトレイ１４が露出位置及び格納位置のいずれに位置するときにも、フロントパネル６の内部に侵入した静電気は、金属板３２、導体３５を介して、駆動制御基板のグランド部に流れる。 - 特許庁

Further, after forming and exposing a second photosensitive resist film 4 on the first photosensitive resist film 3, etching resist patterns 3a, 4a by the first and the second photosensitive resist films 3, 4 are formed by development.例文帳に追加

そして、第１の感光性レジスト膜３上に第２の感光性レジスト膜４を形成し露光した後、現像によって第１および第２の感光性レジスト膜３、４によるエッチングレジストパタ−ン３ａ、４ａを形成する。 - 特許庁

To provide a photomask in which dispersion of line width is accurately corrected, and the line width can be adjusted to fluctuation of an exposing device, a method and device for correcting the line width of a photomask, and an electronic device using the same.例文帳に追加

フォトマスクの線幅のばらつきを精度良く補正し、露光装置の変動に対しても線幅を調整できるフォトマスク、フォトマスクの線幅補正方法、線幅補正装置及びそれを用いた電子デバイスを提供する。 - 特許庁

The worker can confirm the locked state of the lock visually by pressing an arm 32 of an indicator 10 by an operation piece 30 of the locking lever 8 and exposing a locked state display part 35 in a display board 31 through a display window 23 of the cover 6.例文帳に追加

また施錠レバー８の操作片３０がインジケータ１０のアーム３２を押して、表示板３１の施錠状態表示部３５をカバー６の表示窓２３から露出させ、作業者は目視確認できる。 - 特許庁

To provide a film exposure device capable of preventing the damage and vibrations of a film during carrying and exposing, enabling continuous exposure processing during carrying, and improving productivity.例文帳に追加

搬送時及び露光時のフィルムの傷つき及び振動を防止することができると共に、連続的に搬送中に露光処理することを可能とし、生産性を向上させることができるフィルムの露光装置を提供する。 - 特許庁

In this dew condensation indicator, a discoloring layer 1 formed on the observation face side of a base material 2 and exposing a water-soluble dye includes an ink vehicle diffusing the water-soluble dye by the water condensed on the surface.例文帳に追加

結露インジケータは、基材２の観察面側に設けられ水溶性染料の露出している変色層１に、その表面で結露した水により水溶性染料を拡散するインキビヒクルが含まれている。 - 特許庁

To provide a sheathed thermocouple fixable to a container when fluid in the container has a high pressure, in a procedure for exposing the sheathed thermocouple to the fluid in the container directly without using a protection tube.例文帳に追加

保護管を用いずにシース熱電対を直接容器内の流体に曝す手法において、容器内流体が高圧の場合に、容器に固定することの可能なシース熱電対を提供することを目的とする。 - 特許庁

A sticky gel 7 is attached to a mounting face 21 of a clamp 1, a surface 71 of the gel 7 is coated with a synthetic resin sheet 8, and the synthetic resin sheet 8 is provided with an opening portion 81 for exposing the gel 7.例文帳に追加

クランプ１の取付面２１に粘着性のゲル７が付着され、ゲル７の表面７１は合成樹脂シート８に被覆され、その合成樹脂シート８にはゲル７を露呈させる開口部８１が設けられている。 - 特許庁

In this method, mask pillars 40 are formed by exposing and developing resist films at positions corresponding to contact hole forming areas on a source region 16 and a drain region 18 of a polycrystalline silicon film 14 and a gate electrode 34.例文帳に追加

多結晶シリコン膜１４のソース領域１６、ドレイン領域１８およびゲート電極３４の上の、コンタクトホール形成領域に対応した位置のレジスト膜を露光、現像してマスクピラー４０を形成する。 - 特許庁

An exposure method includes a correction function creation step of creating an optical condition correction function, a correction amount calculation step of calculating a correction amount of lighting parameter, and an exposure step of exposing a first substrate.例文帳に追加

実施の形態によれば、光学条件補正関数を作成する補正関数作成ステップと、照明パラメータ補正量を算出する補正量算出ステップと、第１の基板を露光する露光ステップと、を含んでいる。 - 特許庁

An angular distribution of exposure light exposing a substrate is measured using an exposure apparatus having an illumination optical system that illuminates a mask using light from a light source and a projection optical system that projects a mask pattern on the substrate.例文帳に追加

光源からの光を用いてマスクを照明する照明光学系と、マスクのパターンを基板に投影する投影光学系とを有する露光装置を用いて、基板を露光する露光光の角度分布を計測する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a photomask, which allows a process from heat treatment to drawing after resist coating to be performed without exposing a mask blank to the atmosphere, and to reduce a residual solvent after the resist coating.例文帳に追加

レジスト塗布後の熱処理から描画までの工程を、マスクブランクを大気に曝すことなく行なうことができ、かつレジスト塗布後の残留溶媒を低減することができるフォトマスクの製造装置を提供する。 - 特許庁

In another embodiment, a method of manufacturing a semiconductor device comprises steps of: a) providing an organic semiconductor layer; and b) exposing a surface of the organic semiconductor layer to a radiation to form a dielectric layer.例文帳に追加

別の実施形態において、半導体デバイスを作製する方法は、ａ）有機半導体層を提供する工程；ｂ）有機半導体層の表面を放射線に露光し、誘電層を形成する工程、を包含する。 - 特許庁

To provide a stencil mask for batch electron beam exposure having a stencil pattern region capable of exposing to high throughput in batch electron beam exposure while reducing the loss of yield due to connection.例文帳に追加

電子線一括露光において、高スループットに露光することが可能で、かつ、つなぎによる歩留まりの低下を軽減することが可能なステンシルパターン領域を持つ、電子線一括露光用ステンシルマスクを提供すること。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes the steps of: forming a resist film on a support by using the resist composition; exposing it; and alkali developing it to form a resist pattern.例文帳に追加

支持体上に、前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a tape cartridge and a tape printing apparatus which can create a mask for exposing a print surface formation part of a stamp and a print surface check label by a simple structure and by a simple procedure.例文帳に追加

簡単な構成で、且つ簡単な手順でスタンプの印面形成部を露光するためのマスクおよび印面確認ラベルを作成することができるテープカートリッジおよびテープ印刷装置を提供することである。 - 特許庁

The bonding agent is of a spherical particles exposing a plurality of crystal faces on its surface and contains particles having a side of 1 μm or longer out of a plurality of sides composing an outline of the crystal faces.例文帳に追加

この接合剤は、複数の結晶面が表面に露呈する球状の粒子であって結晶面の輪郭を構成する複数の辺のうちで長さが１μｍ以上の辺を有する粒子を含んでいる。 - 特許庁

The insulating film 140 is preferentially removed together with the reinforcing material 131 from the protruding portion by grinding treatment or the like, so that an opening 143 for exposing the protrusion 120 is formed in the insulating film 140.例文帳に追加

研削処理などにより、この隆起している部分から優先的に、補強材１３１と共に絶縁膜１４０を除去することで、突起１２０を露出させるための開口１４３を絶縁膜１４０に形成する。 - 特許庁

A lower resist layer 13 is developed, including a pattern exposing region lower part of the surface resist layer 15 inverted to the negative type, and hence results in a profile shape undercut into the surface resist layer 15.例文帳に追加

そして、下層のレジスト層１３はネガ型に反転した表面レジスト層１５のパターン露光領域下部も現像されるため、下層のレジスト層１３は表面レジスト層１５に対し、アンダーカットされた断面形状となる。 - 特許庁

A gate insulating film 9, channel silicon films 8a, 8b and a resistance change material layer 7 are provided in the order from an internal wall of a connection hole for passing through the laminated body and exposing an upper surface of the polysilicon diode PD.例文帳に追加

積層体を貫通してポリシリコンダイオードＰＤの上面を露出する接続孔の内壁には、前記内壁側から順にゲート絶縁膜９、チャネルシリコン膜８ａ、８ｂおよび抵抗変化材料層７を設ける。 - 特許庁

This aligner is constituted in such a manner that plural exposure units for exposing identification codes are respectively movably disposed on the substrate which is coated with photosensitive material and the light source of the exposure unit can be shared.例文帳に追加

感光材が塗布された基板上に識別コードを露光するための複数の露光ユニットを夫々移動可能に配設せしめると共に、前記露光ユニットの光源を共有できる構成にせしめたことを特徴とする。 - 特許庁

In an optical fiber-drawing step in the process for manufacturing an optical fiber, around and optical fiber obtained by heat drawing a preform for an optical fiber, an ultraviolet-curing resin is applied using a resin applicator and cured by exposing it to UV irradiation in an ultraviolet-curing over.例文帳に追加

このため、長尺線引きを行おうとすると、照射される紫外線照度が徐々に低下してＵＶ樹脂の硬化が一定せず、全長を通して、より安定な特性をもつ光ファイバが得られない。 - 特許庁

This method comprises exposing a diseased part for about one hour to the smoke obtained by fumigating 5 kg of leaves of japanese cedar or applying a liquid collected 50 cc from the smoke of the 10 kg leaves of japanese cedar and then washing the part with rice-water after two hour.例文帳に追加

杉の葉５ｋｇを燻した煙を１時間程度患部にあてるか、杉の葉１０ｋｇを燻した煙より５０ｃｃの液体を採取その液体を患部に塗り、２時間後に米のとぎ汁で洗う。 - 特許庁

Then, a hole for exposing the Si substrate 1 is formed at the Si layer 5 and the SiGe layer, and an SiO_2 film 11 is formed on the Si substrate 1 so that the hole is buried and the Si layer 5 is covered.例文帳に追加

次に、Ｓｉ層５及びＳｉＧｅ層にＳｉ基板１を露出させる穴を形成し、穴が埋め込まれ且つＳｉ層５が覆われるようにして、Ｓｉ基板１上にＳｉＯ_２膜１１を形成する。 - 特許庁

The bottom cap 4 exposing a seal member 21 on the outer peripheral edge part of the upper end surface is fitted inside the base shell 3, bead 19, 20 are projected inside the base shell 3 with beading processing, and the bottom cap 4 is fixed to the base shell 3.例文帳に追加

上端面の外周縁部にシール材21を焼付けたボトムキャップ4をベースシェル3内に嵌合し、ビーディング加工によってベースシェル3の内側にビード19,20を突出させて、ボトムキャップ4をベースシェル3に固定する。 - 特許庁

To provide a lead-free detonator applied for a percussion cap of a live cartridge or blank cartridge used for a fire arm such as a rifle or a machine gun and used for fire training or the like without exposing a surrounding area to lead.例文帳に追加

小銃、機関銃等の火器に使用される実包又は空包の雷管に適用される爆粉としての、鉛害にさらされることなく射撃訓練等を実行することができる無鉛爆粉を提供する。 - 特許庁

A material surface treatment method comprises the steps of: adhering a water-soluble persimmon tannin component onto a material surface; and exposing the material surface, on which the water-soluble persimmon tannin component has been adhered, to an aldehyde gas.例文帳に追加

水溶性柿渋成分を材料表面に付着させる工程、及び、上記水溶性柿渋成分が付着した材料表面をアルデヒドガスに暴露する工程を有する材料表面処理方法。 - 特許庁

To provide an accumulating system in which suppression of an illegal copy can be realized easily by preventing the decoded signal of contents from being leaked to the outside of a case and by exposing no key to the outside of the case.例文帳に追加

本発明の課題は、鍵が筐体外にさらされることがなく、解読されたコンテンツの信号が筐体外に出ないことにより容易に不正コピーの抑止を実現できる蓄積システムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a vacuum chamber device having load lock chamber that enables a pressure manometer provided to a vacuum chamber to be replaced, without exposing the vacuum chamber, a load lock chamber, or the like, to the atmosphere, when the pressure manometer is replaced.例文帳に追加

真空チャンバーに設けられている圧力計を交換する際に、真空チャンバー内やロードロック室等を大気開放することなく交換できるロードロック室を有する真空チャンバー装置を提供することである。 - 特許庁

Then, an exposing operation and a diaphragming operation are surely performed, and also, a space required when the shutter blade 30 and the diaphragm blade 40 are retreated from the aperture part 10a is narrowed, then, the miniaturization of the device is accomplished.例文帳に追加

これにより、露光動作及び絞り動作が確実に行なわれると共に、シャッタ羽根３０及び絞り羽根４０が開口部１０ａから待避する際のスペースを狭くでき、装置の小型化が行なえる。 - 特許庁

To provide a production method for a carrying belt by which much rubber can ooze out through texture of a fabric material arranged on a carrying belt and the friction coefficient on the carrying face can be enhanced by exposing the rubber on the carrying face.例文帳に追加

搬送面に配置した布材の布目を通して多くのゴムが滲み出すことができ、搬送面にゴムが露出させて搬送面の摩擦係数を高めることができる搬送用ベルトの製造方法を提供する。 - 特許庁

A film can be formed without exposing an interval between a cleaning step and a film forming step to air by connecting a cleaning chamber to a film forming chamber, and to hold clean an interface between respective films constituting TFT.例文帳に追加

洗浄室と成膜室をつなげることにより、洗浄工程と成膜工程の間を大気に曝すことなく成膜を行うことができ、ＴＦＴを構成する各被膜界面を清浄に保つことが可能となる。 - 特許庁

The 2nd color filter (18) is manufactured by providing a layer of color sensitive material on the 2nd substrate (2), exposing the layer with the light passed through the 1st color filter (15) using the reflection film (13) as a light shielding mask.例文帳に追加

第２のカラーフィルタ（１８）は、カラー感光性材料の層を第２の基板上（２）に形成し、この層を、反射膜（１３）を遮光マスクとして、第１のカラーフィルタ（１５）を通過した光により露光して製造する。 - 特許庁

To provide an ink composition for oil marking pen capable of writing without trouble after exposing a penpoint in atmosphere for a long time by removing a cap from the penpoint, giving handwriting excellent in water resistance.例文帳に追加

ペン先からキャップを外して、ペン先を長時間にわたって大気中に露出しても、支障なく筆記することができ、しかも、筆跡が耐水性にすぐれるマーキングペン用油性インキ組成物を提供することにある。 - 特許庁

To obtain a camera system using an imaging device which is comparatively easily controlled and whose cost is reduced, because the imaging device realizing accurate control is used in order to make the subject image pickup and exposing timing of silver halide imaging and electronic imaging coincident in a camera system used both for silver halide photography and electronic image pickup.例文帳に追加

銀塩撮影と電子撮像兼用カメラシステムにおいて、銀塩と電子撮像の被写体撮像露光タイミングを一致させることは、精度の高い制御を可能とする撮像素子を用いている。 - 特許庁