「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for preserving a cell and a nucleic acid in a sample by exposing the sample to an agent having an inhibitory effect on a proteolytic agent and/or a nucleic acid degradative agent in the sample.例文帳に追加

サンプル中でタンパク質分解薬剤および／または核酸分解薬剤に対して阻害効果を及ぼす組成物にそのサンプルを曝すことによってサンプル中の細胞と核酸を保存する方法を提供する。 - 特許庁

The mask for defect inspection is produced by forming the basic pattern on a photomask substrate, applying a resist on the basic pattern, and exposing and developing the resist to form a specified pattern defect.例文帳に追加

また、この欠陥検査用マスクは、フォトマスク基板に、基本パターンを形成し、この基本パターン上に、レジストを塗布した後、レジストに、露光及び現像処理を施し、所定のパターン欠陥を形成することにより形成される。 - 特許庁

A layer insulating film 70 containing an impurity is formed on a semiconductor wafer 44, and a pad contact hole for exposing a prescribed area on the semiconductor wafer 44 is formed by patterning the layer insulating film 70.例文帳に追加

半導体基板４４の上に不純物を含む層間絶縁膜７０を形成し、層間絶縁膜７０をパターニングして半導体基板４４の所定領域を露出させるパッドコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

The resist pattern-forming method includes steps of: forming a resist film on a support using the positive resist composition; exposing the resist film; and developing the resist film to form a resist pattern.例文帳に追加

支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

An electrostatic latent image formed on an image carrier 1 by exposing the image carrier 1 by an exposure means is developed by plural developing means 41, 42, 43 and 44 storing plural kinds of color toner Y, M, C and BK, respectively.例文帳に追加

露光手段により像担持体１を露光して像担持体上に形成された静電潜像を、複数の色のトナーＹ，Ｍ，Ｃ，ＢＫをそれぞれ収納した複数の現像手段４１，４２，４３，４４により現像する。 - 特許庁

The method for forming the hologram and the apparatus 300 therefor includes a technique of forming the three-dimensional hologram of the physical system by exposing a film substrate 319 or other photosensitive medium to continuous two-dimensional images indicating a three-dimensional system.例文帳に追加

ホログラムを形成する方法および装置（300）は、フィルム基板（319）または他の感光性媒体を、共に３次元システムを示す連続した２次元画像に露光し、物理システムの３次元ホログラムを生成する技術を含む。 - 特許庁

A first lamination pressurization process is performed for making tips of the bumps 3 pass through the synthetic resin sheet 5 and exposing them by laminating and pressurizing the synthetic resin sheet 5 on a conductive support 1 having a plurality of bumps 3.例文帳に追加

複数のバンプ３を備える導電性支持体１に合成樹脂系シート５を積層し加圧することにより合成樹脂系シート５にバンプ３の先端を貫通、露出させる第１の積層加圧工程を行う。 - 特許庁

To less expensively provide a wiring board which makes density higher by utilizing the conventional double side exposing technology and the selective etching technology to form the wiring board by using a four layer laminated foils with barrier layers.例文帳に追加

バリア層を有する四層積層箔を用いて、既存の両面露光技術及び選択エッチング技術を利用し配線板を形成することで、高密度化に対応できる配線板をより安価に提供する。 - 特許庁

After plasma etching treatment, interior of the vacuum vessel 1 in a plasma etching apparatus is cleaned by means of plasma P while exposing the surface of a susceptor 3, and reaction products A adhering to the interior of the vacuum vessel 1 are removed.例文帳に追加

プラズマエッチング処理後に、サセプタ３の表面を露出した状態でプラズマエッチング装置の真空容器１の内部をプラズマＰによりクリーニングし真空容器１の内部に付着した反応生成物Ａを除去する。 - 特許庁

To provide a countertop reinforcement structure of a counter kitchen, which is capable of improving appearance quality and reducing costs without exposing reinforcement metal fittings to the outside or using a cover member.例文帳に追加

補強金具を外部に露出させることなく、また、カバー部材を用いることなく外観品質の向上を図ることができると共に、コストダウンを図ることができる対面式キッチンの天板補強構造を提供する。 - 特許庁

To provide a light-source exposing type signboard in which a board face is constituted by combining plurally divided segment panels and, therefore, the detachment and the attachment of components are facilitated.例文帳に追加

本発明は、複数に分割されたセグメントパネルを組み合わせて盤面が構成されることで、構成部品の取り外し及び取り付けを容易なものとする光源露出型看板を提案することを目的とする。 - 特許庁

Therefore, the transmittance of the exposed light EL can be maintained well and stably, well and stable, because the gas replacement in the spaces on all optical paths of the exposing light EL including the protective space SP can be realized easily.例文帳に追加

従って、保護空間ＰＳ内部を含む、露光光ＥＬの全ての光路上の空間のガス置換を容易に実現することが可能となり、露光光透過率を良好にかつ安定して維持することができる。 - 特許庁

In the air cleaner 1, a disk layer part 34 composed by laminating a plurality of humidification disks 32 at predetermined intervals from each other carries out humidification by exposing a portion of a pan 22 by water to air following rotation.例文帳に追加

空気清浄機１では、複数枚の加湿ディスク３２が互いに所定間隔を空けて重ねられることで構成されたディスク層部３４が、回転に伴って、受皿２２の水で濡れた部分を空気に曝して加湿する。 - 特許庁

To tighten a front case and a rear cover rigidly while ensuring keys arranged on the housing in wide and free layout without exposing a screw to the housing surface and to enhance shieldability and electric characteristics of a shield cover.例文帳に追加

ねじを筐体表面に露出させることなく、筐体に配設されるキーを広く、かつ、自由なレイアウトで確保しつつ、フロントケースとリアカバーとを堅固に締結し、シールドカバーのシールド性，電気特性も向上させる。 - 特許庁

The production method for the head comprises a step of forming an ink discharging unit with an opening part for exposing the upper surface of a semiconductor wafer, and a step of forming a nozzle part penetrating through the semiconductor wafer.例文帳に追加

このヘッドの製造方法は半導体ウェーハ上にその上部面を露出させる開口部を具備するインク放出装置を形成した後に、半導体ウェーハを貫通するノズル部を形成する段階を含む。 - 特許庁

To provide a plurality of features provided by a single exposing process and characterized by an about half interval to a hard mask using a single hard mask etching process and without a photoresist treatment for defining the hard mask.例文帳に追加

１回のハードマスクエッチング工程を用いて、かつハードマスクを定義するためのフォトレジスト処理なしで、単一露光プロセスで設けられた約半分の間隔で特徴づけられた複数のフィーチャをハードマスクに提供する。 - 特許庁

Next, the substrate 300 is held in the treatment chamber as it is, and a surface protection film 303 comprising a silicon nitride film is formed without cooling the substrate 300 and exposing the substrate 300 to the atmosphere.例文帳に追加

次に、同じ処理室内に基板３００をそのまま保持し、基板３００を冷却することなく、また基板３００を大気に晒すことなく、シリコン窒化膜などからなる表面保護膜３０３を形成する。 - 特許庁

The device is realized that can manufacture the fiber grating having a reduced variance in optical characteristics, by irradiating and exposing the clad part 4 with the ultraviolet rays through the phase mask.例文帳に追加

このクラッド部４に対して位相マスクを介して紫外光を照射して露光すると、光学特性のばらつきの小さいファイバグレーティングを製造することが可能なファイバグレーティング製造装置を実現することができる。 - 特許庁

The method for forming an interlayer insulating film and a microlens includes the steps of: (i) forming a coating film of the above composition on a substrate; (ii) exposing to radiation; (iii) developing; and (iv) heating.例文帳に追加

層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成方法は、少なくとも、（ｉ）前記組成物の塗膜を基板上に形成する工程、（ii）放射線の露光工程、（iii)現像処理工程および（iv）加熱処理工程を含む。 - 特許庁

For example, the MEMS substrate in such an etching chamber can be etched by connecting the chamber to the etching station and exposing the MEMS substrate to an etching agent for etching the MEMS substrate.例文帳に追加

例えば、このようなエッチングチャンバ内のＭＥＭＳ基板は、チャンバをエッチングステーションに接続すること、そして、ＭＥＭＳ基板をエッチングするためにＭＥＭＳ基板をエッチング剤に曝露すること、によりエッチングされ得る。 - 特許庁

An electroless plating layer 5 is formed on a conductor exposing surface 4 of a circuit board, the lead-free solder is stuck on this electroless plating layer 5, and a lead-free solder layer 6 is formed by fusing that lead-free solder.例文帳に追加

回路基板に於ける導体露出面４に無電解メッキ層５を形成し、この無電解メッキ層５上に鉛フリ−半田を付着させ、その鉛フリ−半田を溶融させて鉛フリ−半田層６を形成する。 - 特許庁

This method comprises a process of exposing a substrate surface to water or alcohols before coating the coating liquid to a substrate by using the coating liquid containing silica sol where the density of water and alcohols are entirely ≤1 wt.%.例文帳に追加

水分およびアルコール類の濃度を全て１重量％以下とするシリカゾル含有塗布液を用いて、前記塗布液を基板へ塗布する前に基板表面を水またはアルコール類に晒す工程を有する。 - 特許庁

The image forming part is equipped with an image carrier for carrying an electrostatic latent image by exposing a charged surface and a developing part for forming a visible image by providing toner to the electrostatic latent image formed on the image carrier.例文帳に追加

画像形成部は、帯電させられた表面を露光することにより静電潜像を担持する像担持体と、像担持体上に形成された静電潜像にトナーを付与して可視像を形成する現像部とを備える。 - 特許庁

By exposing the surface of the substrate to atomic hydrogen, the ratio of Ge atoms attached to H atoms to all Ge atoms present on the outermost surface, where growth is proceeding, is increased compared with that prior to exposure to the atomic hydrogen.例文帳に追加

原子状水素を基板上に暴露することにより、成長が起こっている最表面に存在するＧｅ原子のうちＨ原子が付着しているＧｅ原子の割合は、原子状水素暴露前よりも増加する。 - 特許庁

But when Amenouzume climbed up onto an overturned bowl and began a powerful sensual dance, straightening her back, exposing her breasts, letting the cord to her skirt dangle in front of her crotch, lowering her waist and stamping with her feet, the deities burst out laughing. 例文帳に追加

そして、アメノウズメがうつぶせにした桶の上に乗り、背をそり胸乳をあらわにし、裳の紐を股に押したれて、低く腰を落して足を踏みとどろかし、力強くエロティックな動作で踊って、神々は大笑いした。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a pierce catch with which an auxiliary decorative part is formed by exposing an external ornamental member integrated into the pierce catch at the time of wearing a pierce and the external ornamental member is attachable/detachable and separable from the main body part of the pierce catch.例文帳に追加

ピアス装着時に、ピアスキャッチに組み込まれた外装部材が露出して補助的な装飾部を形成するとともに、外装部材が着脱可能でピアスキャッチ主体部と分離可能となるピアスキャッチを提供する。 - 特許庁

To provide an image recorder in which the color is prevented from blurring in the edge region of a thin line without having any effect on the density at a solid part when an image is recorded by irradiating a photosensitive material with an exposing light beam.例文帳に追加

感光材料に露光ビームを照射して画像を記録する際、べた部の濃度に影響を与えることなく、細線等のエッジ領域の色の滲みの防止を行う画像記録装置を提供する。 - 特許庁

The plural holograms 2 are respectively discretely produced by irradiating a photosensitive material 20 with object light and reference light 42 and exposing the photosensitive member and are then integrally arranged so as to two-dimensionally have a spread.例文帳に追加

複数のホログラム２は，それぞれ個別に，感光部材２０に対して物体光と参照光４２とを照射して露光することにより作製された後，二次元的に広がりを有するように一体配置されている。 - 特許庁

To prevent visually recognizable uneven film thickness of an organic flattening film caused by light passing through a TFT array substrate and reflected on a stage in an exposing process to form the organic flattening film.例文帳に追加

有機平坦化膜を形成するための露光処理時に、ＴＦＴアレイ基板を透過した光のステージでの反射光により、有機平坦化膜の膜厚に視認可能なムラが生じるのを防止することを目的とする。 - 特許庁

When the SiO_2 films are exposed to the ammonia gas atmosphere, a method of exposing substrates having the inorganic alignment films formed thereon, to the ammonia gas atmosphere in a closed vessel is effective, and exposure for 1 to 60 minutes under a room-temperature condition is effective.例文帳に追加

アンモニアガス雰囲気中に晒す場合には、密閉された容器内で無機配向膜が形成された基板をアンモニアガス雰囲気中に晒す方法が有効であり、室温条件下で１分〜６０分で効果がある。 - 特許庁

The first and second jaw members can be sufficiently connected together in order to prevent, or at least reduce the possibility of, the first and second jaw members from becoming detached from one another and exposing a cutting member.例文帳に追加

第１および第２顎部材は、第１および第２顎部材が互いから分離されて切断部材を露出する可能性を防ぐ、または少なくともその可能性を減ずるために、共に十分に接続され得る。 - 特許庁

To provide a folding door having a good exterior appearance and publicity and advertisement functions by simplifying electric wiring in the door main body for supplying electric power to a luminous device without exposing the luminous device or the like to the outside.例文帳に追加

発光装置に電気を供給するための扉本体の配線を簡素化すると共に、発光装置等が外部に露出せず、外観を良好にした宣伝広告機能を有する折畳み式扉を提供する。 - 特許庁

The optical channel (OC) is formed in a tellurite glass (T) by selectively (M) exposing the surface of the tellurite glass to UV laser radiation (L), and the exposed region defines the photoinduced optical channel (OC) in the glass (T).例文帳に追加

光学的チャンネル(OC)は、テルライトガラスの表面をUVレーザ放射線(L)に選択的(M)にさらすことにより、テルライトカ゛ラス(T)に形成され、それによって露光された領域がガラス(T)に光誘起された光学的チャンネル(OC)を画定する。 - 特許庁

To suppress leakage of sound generated from an exposing unit to the outside of an imaging apparatus effectively through an economic means without causing any increase in weight.例文帳に追加

本発明の画像形成装置は、重量増加を伴わず且つ経済的な手段により露光装置から発生する音が画像形成装置本体の外部へもれ出る度合を効果的に低減することを課題とする。 - 特許庁

To provide a thienothiophene copolymer which exhibits semiconductor properties, has a high conductivity under a condition doped with an anion, and has an atmospheric stability without decreasing the conductive properties by exposing in the atmospheric condition.例文帳に追加

半導体性を示し、アニオンでドープされた状態において高い導電性を有し、かつ大気暴露によって導電性が低下することなく大気安定性を有するチエノチオフェン共重合体を提供する。 - 特許庁

The cover body 29 can be opened by being rotated by using the rear part side of the upper surface of the machine body 11 as a rotation axis, and is moved to a closed state for covering the upper surface through the front surface of the machine body 11 and an opened state for exposing them.例文帳に追加

カバー体29は、機体11の上面後部側を回動軸として回動開放可能とし、機体11の上面から前面にわたって覆い隠す閉状態と露出させる開状態とに移動する。 - 特許庁

The liquid is thereby brought into contact only with the end surface of the outer peripheral portion of the wafer when the wafer is inserted into a penetration portion 35 of the collection body 31 for exposing the liquid stored in the storing portion 34 to the outside.例文帳に追加

これにより、貯留部３４に貯留された液体を外部に露出するための、回収本体３１の貫通部３５に、ウエハを挿入した際、ウエハの外周部端面のみ液体を接触させることができる。 - 特許庁

To provide a heat treating device for sheet material and a post- exposing device which adjusts the quantity of heat received by the sheet material by means of the heat treatment performed concurrently with UV irradiation treatment without changing the quantity of UV (light quantity × time) received by the sheet material.例文帳に追加

シート材加熱処理装置及び後露光装置は、シート材が受ける紫外線の量（光量×時間）を変更することなく、同時に実行される加熱処理によるシート材が受ける熱量を調整する。 - 特許庁

Thus, when the sensor performing position check of the tissue location is removed, one of the adhesive layers is also removed and discarded, exposing a fresh adhesive surface below for reattachment to a patient's skin.例文帳に追加

このように、組織位置の位置チェックを実行するセンサが取り除かれる場合、接着層の１つも取り除かれ、かつ、処分される、患者の肌に再取り付けするために、フレッシュな接着表面を下に露出する。 - 特許庁

At the time the residual toner after transfer passes through the latent image forming region, the toner is again returned to the surface of the photoreceptor at such a timing at which the writing on the surface of the photoreceptor by an exposing means 3 is not carried out.例文帳に追加

そして、転写残トナーが潜像形成領域を通過する際に、露光手段３によって感光体表面に書き込みが行われていないようなタイミングで再び感光体表面にもどされる。 - 特許庁

Depending on the structure of a thin film transistor 100, oxidation treatments (plasma treatments, etc.) 131 and 132 are continuously performed between deposition of an oxide semiconductor film 14 and deposition of insulation films 12 and 18 without exposing to the atmospheric air.例文帳に追加

薄膜トランジスタ１００の構造に応じて、酸化物半導体膜１４と絶縁膜１２，１８の成膜の間に、大気に曝すことなく連続して酸化性処理（プラズマ処理など）１３１，１３２を施す。 - 特許庁

In the method for forming a pattern, a process of preliminarily forming an alignment marker is included in the process of forming a first thick film, and then the alignment marker is referred to, in the process of exposing a second thick film.例文帳に追加

第１厚膜形成工程において、あらかじめアライメントマーカーを形成する工程を有し、第２厚膜の露光工程において、前記アライメントマーカーを参照することを特徴とするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a holding device which brings about desired optical performance by reducing the deformation of an optical member to be deterioration of imaging performance and aberration of positional deviation and to provide an exposing device and a device manufacturing method.例文帳に追加

結像性能の劣化となる光学部材の変形及び位置ずれによる収差を低減することで所望の光学性能をもたらす保持装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

The upper and lower boards 2 and 3 are furnished with a wick outer frame hole 17 and a condenser outer frame hole 18 to admit fitting-in of the outer frames of the wick 4 and the condenser 5 for exposing their end faces at the board surfaces.例文帳に追加

上下の各基板２，３にはウィック４およびコンデンサ５の外枠部を嵌め込んで基板表面にそれらの外枠部の端面を表出させるウィック外枠口１７およびコンデンサ外枠口１８を設ける。 - 特許庁

A cover 26 for exposing only a selected one between the modular jacks 25a and 25b is mounted on the facsimile unit 20, and small holes 28 for sound volume adjustment are formed on the cover 26, overlapping the small holes 27 for sound transmission.例文帳に追加

ファクシミリユニット２０にはモジュラージャック２５ａ、２５ｂのうち選択したもののみ露出させるカバー２６を取り付け、カバー２６には音通過用小孔２７と重なる音量調整用小孔２８を形成する。 - 特許庁