「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(77ページ目) - Weblio英語例文検索

A color filter component 40G with the first color is formed by selectively etching a color filter coating film 32 containing no photosensitive component and color filter components with the second and subsequent colors are formed by exposing and developing a color filter coating film containing a photosensitive component.例文帳に追加

感光材成分を含まないカラーフィルタ被膜３２を選択エッチングして、１色目のカラーフィルタ成分４０Ｇを形成し、感光材成分を含むカラーフィルタ被膜を露光、現像して、２色目以降のカラーフィルタ成分を形成する。 - 特許庁

To form an image free of unexposed part by moving a liquid crystal element in a prescribed orbit, thereby increasing the density of a liquid crystal element image on a photosensitive material, in exposing thereon the image displayed on a liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネルに表示された画像を感光材に露光するに際して、液晶素子を所定の軌道上を移動させることにより感光材上の液晶素子像の密度を高くして未露光部のない画像を形成すること。 - 特許庁

Moreover, the pressure is detected and indicated by installing a built-in pressure sensor facing the air passageway and exposing the takeoff terminal of the sensor on the outside of the spray gun, and by retrieving sensor data by contacting the takeoff terminal at the time of the measurement.例文帳に追加

また圧力感知体を空気通路に面して内蔵させ、その感知体の取り出し端子をスプレーガン外面に露出しておき、測定時にこの取り出し端子に接触して感知データを取りだし、圧力を検出表示する。 - 特許庁

This method comprises a step for exposing the wax pattern 2 into a specific state in order to recover the wax from e.g. the wax pattern 2 used in the investment casting method by using the lost wax technique without damaging included ceramic cores 1;21;31.例文帳に追加

組み込まれたセラミックコア１；２１；３１を損傷させずに、ロストワックス技術を使用してインベストメント鋳造法にて使用したワックス模型２からワックスを回収するため、ワックス模型２を特定の状態に露呈させるステップを備えている。 - 特許庁

To provide an exposure uneveness measuring instrument capable of measuring the degree of exposure uneveness, caused when exposing an image for printing by scanning sheet type photographic sensitive material with exposure light, and of accurately performing evaluation to the exposure uneveness.例文帳に追加

シート状写真感光材料に露光光を走査して画像を焼付露光する場合に生じる露光ムラの大きさを測定すると共に、露光ムラに対する評価を正確に行うことができる露光ムラ測定装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a first process of exposing to temperatures of 200°C or more, a second process of over-discharging until the voltage becomes less than 2.0 V after the first process, and a third process of charging after the above second process.例文帳に追加

２００℃以上の温度に晒す第一工程と、前記第一工程の後、電圧が２．０Ｖ未満になるまで過放電する第二工程と、前記第二工程の後、充電する第三工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of positioning an LED head (exposing member) accurately with respect to a photoreceptor drum (photoreceptor), in any of the direction of an optical axis and the rotational direction of the photoreceptor.例文帳に追加

本発明は、ＬＥＤヘッド（露光部材）を感光ドラム（感光体）に対して光軸方向および感光体の回転方向のいずれの方向にも精度良く位置決めすることができる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a temperature controller for predicting suppressibility when disturbance enters or the like and realizing temperature control of higher performance and to provide an exposing device for improving the temperature controllability of the temperature controller and also improving productivity.例文帳に追加

外乱が入った場合の抑圧性の予測等を行い、より高性能な温度制御の実現を図る温度調節計を提供し、この温度制御性の向上を行うとともに、生産性の向上を図る露光装置を提供する。 - 特許庁

A mark M is arranged at a position overlapped with the hologram seeing from a direction in which the laser beam is made incident on the optical disk 1, and it is formed at such a position that it avoids an optical path of the laser beam exposing the recording layer 11 to record the hologram.例文帳に追加

マークＭは、レーザ光が光ディスク１に入射する方向から見てホログラムと重なる位置であって、ホログラムを記録するために記録層１１を露光するレーザ光の光路を避ける位置に形成されている。 - 特許庁

The 1st mask plate covers the 1st surface, and has 1st circumferences (52, 512, and 522), corresponding to the outer circumference of the substrate and at least one cut part (53, 513, or 523) exposing a portion of the 1st surface.例文帳に追加

第１のマスクプレートは、第１の表面上にかぶさり、基板の外周に対応する第１の外周（５２、５１２、５２２）と、第１の表面の一部を露出する少なくとも１つの第１の切取り部（５３、５１３、５２３）を有する。 - 特許庁

To provide an airtight cosmetic case capable of mass production by improving the filling property of cosmetics, and improving usability by widely exposing a storage part for cosmetics at the time of using cosmetics.例文帳に追加

化粧料の充填性を向上させることによって大量生産を可能にし、かつ、化粧料使用時に化粧料の収容部を広く露出することによって使用性を向上させた気密化粧料容器を提供する。 - 特許庁

Exposing light passes through a plurality of electron beam through-holes 244, and allows an effect caused by the electron beam through- holes 244 having a shortcoming to be reduced, and an unevenness index showing nonuniformity on the fluorescent screen to decrease.例文帳に追加

複数個の電子ビ−ム通過孔２４４を通過した光を重畳して露光形成することで、欠点のある電子ビ−ム通過孔２４４の影響を軽減し、蛍光面の均一性を表すむら指数を低下させる。 - 特許庁

A grease nipple 88 is attached to the communication hole 86, a fixed scroll body is detached from a housing when replenishing grease, exposing an orbiting scroll body, and grease is injected with a grease gun from the grease nipple 88 into the first rolling bearing 54.例文帳に追加

連通孔８６にグリスニップル８８が装着されており、グリス補給時に、固定スクロール体をハウジングから取り外し、旋回スクロール体を露出させ、グリスニップル８８からグリスガンでグリスを第１転がり軸受５４に注入する。 - 特許庁

The first blasting holes 81 are bored into the exposing part of the residual iron 6 and also, the second blasting holes 82, 83 are bored into the residual iron 6 by penetrating the iron shell 2 existing at the position except the opening part 5 in the lower outer periphery of the blast furnace 1.例文帳に追加

残銑６の露出部に第１の発破孔８１を穿設するとともに、高炉１の下部外周のうち開口部５以外の位置に存する鉄皮２を貫通して残銑６に第２の発破孔８２，８３を穿設する。 - 特許庁

A non-pressure-sensitive part 42 for exposing the texture of a tape substrate 21 is formed at a part of a pressure-sensitive adhesive layer 4 formed almost all over the surface of one surface of the tape substrate 21 so that the non-pressure-sensitive part 42 is left in the pressure-sensitive adhesive layer 4.例文帳に追加

テープ基材２１の一方の面のほぼ全面にわたって形成された粘着剤層４の一部にテープ基材２１の地肌が露出する未粘着部４２を粘着剤層４内に残されるように設ける。 - 特許庁

When it is determined that the measured time of the exposure waiting timer is within the upper limit value of the exposure waiting time (S29, YES), the processing is advanced to a step S30, and a message for urging the correction of the placing position or exposing position of the medium to the customer is displayed.例文帳に追加

かざし待ちタイマの計測時間が、かざし待ち時間の上限値以内と判定されたときには（Ｓ２９、ＹＥＳ）、ステップＳ３０に進み、顧客に媒体の置き位置又はかざし位置の修正を促すメッセージを表示する。 - 特許庁

This photograph printer has an exposure means 9 for executing the exposure of the image data, a transporting means 8 for supplying the photosensitive material to the exposing means 9 at the prescribed speed and a control means 16 connected to the exposure means 9 and the transporting means 8.例文帳に追加

画像データの露光を行うための露光手段と、該露光手段に、感光材料を所定の速度で供給するための搬送手段と、上記露光手段及び搬送手段に接続された制御手段とを備える。 - 特許庁

To provide a down pipe support which is applicable when a down pipe of various shapes is fixed to a wall and which firmly fixes the down pipe to a building without exposing a holding part of the down pipe support to the front side of the down pipe.例文帳に追加

様々な形状の竪樋を壁に固定する場合に適用できると共に、竪樋支持具の抱持部が竪樋の正面に表出せず、竪樋を強固に建物に固定することができる竪樋支持具を提供する。 - 特許庁

The allergen inactivating apparatus comprises a treatment bag 120 for receiving and sealing an animal 110 while exposing its nose, mouth and ears and a treatment gas supply unit 30 for supplying a treatment gas to the treatment bag 120.例文帳に追加

動物１１０を少なくともその目、鼻、口および耳を露出させた状態にして収容し密閉可能な処理袋１２０と、処理袋１２０内に処理ガスを供給する処理ガス供給装置３０とを備えた。 - 特許庁

This method for arranging the scribed lines on a wafer consists in exposing chip data regions 9 of a rectangular shape and a reticle pattern 3 consisting of scribed line data regions 10 and 11 around the same onto the wafer.例文帳に追加

本発明に係るスクライブラインの配置方法は、矩形のチップデータ領域９及びその周囲のスクライブラインデータ領域１０，１１からなるレチクルパターン３をウェハー上に露光することにより、該ウェハー上にスクライブラインを配置する方法である。 - 特許庁

Thereafter, the upper and lower-layer photoresist films 52 and 50 on the polysilicon film 8 are removed, except those in the trench region so that the film 50 is left in the trenches by exposing and developing the films 50 and 52.例文帳に追加

次いで、上層及び下層フォトレジスト膜に露光処理及び現象処理を施して、トレンチ内に下層フォトレジスト膜を残し、トレンチ領域以外のポリシリコン膜８上の上層フォトレジスト膜及び下層フォトレジスト膜を除去する。 - 特許庁

To provide a bivalent iron aqueous solution which is stable as bivalent iron for a long time even under the condition of exposing to air and the condition of heating at constant temperature and which does not precipitate iron hydroxide even under temporary alkali condition.例文帳に追加

大気解放条件下及び一定温度の加温条件下においても長期間に渡って二価鉄として安定であり、かつ一時的なアルカリ性条件下でも水酸化鉄の沈殿を生じない二価鉄水溶液を提供する。 - 特許庁

Accordingly, before exposing the wafer W to light, water can be held between the projection optical system and the auxiliary plate, thus starting the exposure without requiring time for supplying water and hence improving throughput accordingly.例文帳に追加

従って、ウエハＷの露光に先立って、投影光学系と補助プレートとの間に水を保持させることができ、水の供給のための時間を経ることなく、その露光を開始することが可能となり、その分スループットが向上する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 has an application and development block 14 for forming a resist film on the substrate W and developing the substrate W, an exposure machine 16 for exposing the substrate W and an etching portion 17 for etching the substrate W which are integrally constituted.例文帳に追加

基板処理装置１は、基板Ｗにレジスト膜を形成し、基板Ｗを現像する塗布現像ブロック１４と、基板を露光する露光機１６と、基板をエッチングするエッチング部１７とは一体に構成されている。 - 特許庁

The bottom of the recess portion includes a cover layer 224 which covers the lead frame, is located between the edge T1 of the first electrode and the edge T2 of second electrode, and includes an opening portion 224a exposing a spacer connecting them.例文帳に追加

凹部の底面は、リードフレームを覆い、且つ第１の電極の端部Ｔ１、第２の電極の端部Ｔ２、これらの間に配置され、これらの間を接続するスペーサを露出する開口部２２４ａを有するカバー層２２４を備える。 - 特許庁

To provide a handle support fitting for a filled lid, and the filled lid using the handle support fitting for mounting a handle to the filled lid without exposing it to the road surface to facilitate lid mounting and demounting work.例文帳に追加

路面に露出することなく充填製蓋に取手を取り付けて、蓋の取り外しや取り付けなどの作業を簡単に行うことができる充填製蓋の取手支持金具及びそれを利用した充填製蓋を提供する。 - 特許庁

To suppress pattern peeling in the periphery of materials to be exposed even at the time of exposing the whole face of the materials to be exposed by using a positive photoresist.例文帳に追加

ポジ型フォトレジストを使用して被露光材を全面露光する場合も、被露光材の周辺でのパターン剥がれが抑制でき、これに伴うダストの問題等を解消したパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

(i) The chemical sensor array is constituted by including processes of: exposing the chemical sensor including at least two arrays of chemical/electroactive materials to the multicomponent gas system; detecting responses; and directly measuring the responses of each chemical/electroactive material.例文帳に追加

（ｉ）少なくとも２つの化学／電気活性材料のアレイを含んでなる化学センサーを多成分ガス系に暴露する工程、応答を検出する工程、各化学／電気活性材料の応答を直接測定する工程とを含んでなる。 - 特許庁

To more accurately form a layer thickness in a three-dimensional shaping method to form a three-dimensional article from a plurality of layers continuously formed from a curable polymerizable liquid by exposing with a curing means such as a laser beam or the like.例文帳に追加

レーザビーム等の硬化手段への露出により硬化可能な重合性液体の連続的に形成された複数の層から３次元物体を形成する立体造形方法において、層厚の形成をより正確にする。 - 特許庁

Influence of the UV ray to the switching active element 5 in the exposing process when the color filter film 11 is formed, is improved by the protective film 3 and a color filter on TFT array substrate 16 of high performance can be obtained in high yield.例文帳に追加

カラーフィルタ膜１１を形成する際の露光工程におけるスイッチング能動素子５へのＵＶ光の影響が保護膜３により改善され、高歩留りの高性能なカラーフィルタオンＴＦＴアレイ基板１６を得る事ができる。 - 特許庁

The method of producing the ink-jet recording head includes the step of forming a resin layer 8 on a substrate 1 as a mold taking up an area forming a plurality of ink channels, by exposing and developing a photosensitive resin.例文帳に追加

本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法は、基板１上に、複数のインク流路となる部分を占有する型材としての樹脂層８を、感光性樹脂を露光及び現像することによって形成する工程を有する。 - 特許庁

With respect to the semiconductor device, there is formed in an insulating hydrogen barrier film 12 formed on a ferroelectric capacitor Cap an opening 12A for exposing to the external an inside portion 11A-2 of a top surface 11A of an upper electrode 11 of the ferroelectric capacitor Cap.例文帳に追加

この半導体装置では、強誘電体キャパシタＣａｐ上に成膜した絶縁性水素バリア膜１２に、上部電極１１の上面１１Ａの内側部１１Ａ-２を露出させる開口１２Ａを形成した。 - 特許庁

The nitride semiconductor crystal 2 is so grown on the SiC substrate 1 exposing an M surface (10-10) that the m-axis direction of the SiC substrate 1 makes an off-angle with respect to the m-axis direction of the nitride semiconductor crystal 2.例文帳に追加

Ｍ面（１０−１０）を露出させたＳｉＣ基板１上に窒化物半導体結晶２を成長させ、ＳｉＣ基板１のｍ軸方向と、窒化物半導体結晶２のｍ軸方向とがオフ角を生じるように形成される。 - 特許庁

After laminating a photoresist layer on a substrate having a circuit formed thereon and exposing and developing the photoresist layer and before the exposed circuit portion is plated, heat treatment (I) is performed at a temperature of 80-120°C, and heat treatment (II) is also performed after plating.例文帳に追加

回路形成された基板上にフォトレジスト層を積層し、露光、現像後、露出した回路部分にめっき処理を行なう前に８０〜１２０℃の温度で加熱処理（Ｉ）を行ない、更にめっき処理後にも加熱処理（ＩＩ）を行なう。 - 特許庁

Secondly, a pool is formed of the treating liquid in the cylinder 12 and, at the same time, an electrolytic cell is formed by dipping a reference electrode 26 in the pool of the treating liquid and exposing the internal surface of the cylinder 12 and electrode 6 in the pool.例文帳に追加

次に、ボンベ１２内に処理液１０のプールを形成すると共にプール内に参照電極２６を浸漬し、ボンベ１２の内面と参照電極２６とを処理液１０のプール内に曝すことにより電解セルを形成する。 - 特許庁

The system includes a process that forms a first liquid immersion region on the substrate to expose the substrate by radiating exposing beam onto the substrate through the first liquid and an immersion process that immerses the substrate in a second liquid before an exposure process.例文帳に追加

第１の液体の液浸領域を基板上に形成し、第１の液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光する工程と、露光工程の前に、基板を第２の液体に浸漬する浸漬工程とを含む。 - 特許庁

Then, the Si layer 10 outside the transistor forming region and the SiGe layer 3 outside thereof are etched and eliminated, thereby exposing the side surface of the SiGe layer 3 along the periphery of the transistor forming region.例文帳に追加

そして、トランジスタ形成領域の外側にあるＳｉ層１０と、当該外側にあるＳｉＧｅ層３とを順次エッチングして取り除くことにより、トランジスタ形成領域の周囲に沿ってＳｉＧｅ層３の側面を露出させる。 - 特許庁

To provide an image forming device precisely positioning plural image forming devices and exposing means by preventing inclination of a main body side plate by facilitating improvement of the rigidity of a main body.例文帳に追加

本発明は、本体剛性を容易に向上することにより、本体側板の倒れを防止し、複数の像担持体及び露光手段を精度良く位置決めすることのできる画像形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method for producing spring mud by geothermal steam by which spring mud containing various kinds of mineral components is obtained by exposing high quality clay to the geothermal steam and dissolving the same.例文帳に追加

本発明は、良質粘土を地熱蒸気によって晒して溶解させることで各種鉱物成分が含まれた温泉泥を得ることができる地熱蒸気による温泉泥の製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a heat exchange device capable of being easily constructed from the outside without exposing fixing members such as screws and bolts to an outer face, easily performing maintenance from a front side of the heat exchange device, and securing water-proof performance.例文帳に追加

ネジ、ボルト等の固定部材を外面に出さず、外側から容易に施工ができ、熱交換装置前面側から簡単にメンテナンスでき、防水性能を確保することのできる熱交換装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for forming the lubricating film comprises a step of applying a lubricant 21 having an OH group to the surface of a substrate 10 and exposing the lubricant 21 to an infrared laser beam capable of exciting vibration of an OH bond of the OH group.例文帳に追加

基材１０の表面に塗布されたＯＨ基を有する潤滑剤２１に対して、ＯＨ基のＯＨ結合の振動を励起する赤外レーザ光を照射する工程を備える潤滑膜形成方法である。 - 特許庁

The method comprises a hologram recording process of recording a hologram of a predetermined pattern 5 on a hologram recording medium 1 from the mask original plate 6 on which the predetermined pattern 5 is formed, a hologram regenerating process of exposing a regenerated image of the hologram on a substrate.例文帳に追加

所定のパターン５が形成されたマスク原盤６からホログラム記録媒体１にパターン５のホログラムを記録するホログラム記録工程と、ホログラムの再生像を基板上のレジストに露光するホログラム再生工程とを有する。 - 特許庁

Then an insulating film 33 for covering the gate electrode 31b and exposing the dummy gate electrode 32 is formed, and a metallic film 35 made of a second metal having a work function lower than the work function of the first metal is formed.例文帳に追加

それから、ゲート電極３１ｂを覆いかつダミーゲート電極３２を露出する絶縁膜３３を形成してから、第１金属の仕事関数よりも低い仕事関数を有する第２金属からなる金属膜３５を形成する。 - 特許庁

The coloring layers 2 and 3 are composed of a covering part C for covering the surface of the base 1 by containing the rainbow hologram pattern HG, and exposed parts W1 and W2 for exposing the surface of the base 1 by containing the rainbow hologram pattern HG.例文帳に追加

着色層２，３を、レインボーホログラム模様ＨＧを含んで基材１の表面を覆う被覆部Ｃとレインボーホログラム模様ＨＧを含んで基材１の表面を露出する露出部Ｗ１，Ｗ２とから構成する。 - 特許庁

Finally, the remaining DF 3 is removed from the surfaces of the electrode 7 to complete it by exposing the board 1 to a DF removing solution, and plated layers 8 are formed on the electrodes 7 by performing plating on the conductive material 2.例文帳に追加

最後に、配線基板１をＤＦ除去用溶液に曝して残ったＤＦ３を突起状電極７上から除去し導電材２上にメッキ処理を施してメッキ層８を形成して突起状電極７が完成する。 - 特許庁