「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(78ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and an apparatus by which a resist pattern for a needed quantity of printed circuit boards when needed can be manufactured quickly, inexpensively and stably by using an exposing method which does not need a photo tool.例文帳に追加

フォトツールを必要としない露光により、必要な時に必要な量のプリント配線板用レジストパターンを迅速にかつコスト安く安定に作製することのできるプリント配線板用レジストパターン作製方法及び装置を提供する。 - 特許庁

A transparent synthetic resin-made cover 14 is transfer- operatably supported with a shaft between a protective position for covering a connection ring 12 and an open position for exposing the connection ring 12 below a main body housing 2 and a gear housing 10.例文帳に追加

本体ハウジング２及びギヤハウジング１０の下方には、透明な合成樹脂製のカバー１４が、連結リング１２を覆う保護位置と、連結リング１２を露出させる開放位置との間で移動操作可能に軸着されている。 - 特許庁

Then, after the resist film on the pre-baked substrate is exposed in an exposing step S3, the performance stability of the resist is improved by promoting the diffusion of exposure products in the resist film in a diffusion promoting step S4.例文帳に追加

次に、プリベークされた基板のレジスト膜を露光工程Ｓ３で露光した後、拡散促進工程Ｓ４により露光後にレジスト膜中の露光による生成物の拡散を促進することにより、レジスト性能の安定性が向上する。 - 特許庁

A production method of synergistic effect water comprises applying microbubble treatment simultaneously with magnetic treatment or before and after with magnetic treatment when the magnetic active water is produced by exposing raw water to a magnetic field to carry out magnetic treatment.例文帳に追加

原水を磁場に曝して磁気処理することにより磁気活性水を製造するに際し、磁気処理と同時に、若しくは磁気処理と相前後してマイクロバブル処理を施すことを特徴とする相乗効果水の製造方法。 - 特許庁

The keyboard unit 31 has a keyboard base 35 arranged in the housing 10, and a plurality of key caps 21 respectively supported by the keyboard base 35 at positions corresponding to the plurality of holes 15 and exposing to the outside of the housing 10.例文帳に追加

キーボードユニット３１は、筐体１０の内部に配置されたキーボードベース３５と、複数の孔部１５に対応する位置においてそれぞれキーボードベース３５に支持され、筐体１０の外部に露出した複数のキーキャップ２１とを有する。 - 特許庁

Therefore, after forming the metal electrode 3, the negative photo resist is coated so as to cover the metal electrode 3, and by exposing and developing from an underside of the transparent base material 21, the side face protection parts 7 can be formed.例文帳に追加

よって、金属電極３を形成した後に、金属電極３を覆うようにネガ型フォトレジストを塗布し、透明基材２１の下面側から露光および現像することによって、側面保護部７を形成することができる。 - 特許庁

To prevent occurrence of a problem such as interference with peripheral components, and to securely and accurately detect the load from an input member in connection with a brake pedal without exposing a strain gage to the outside of an actuator.例文帳に追加

アクチュエータの外部に歪みゲージが露出することなく、周辺部品との干渉という問題を生じにくいものとするとともに、ブレーキペダルに接続した入力部材からの荷重を、確実且つ高精度に検出可能とする。 - 特許庁

A pattern forming method of the present invention includes (A) forming a film with a resist composition; (B) exposing the film to light; and (C) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（Ａ）レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（Ｂ）前記膜を露光することと、（Ｃ）有機溶剤を含んだ現像液を用いて前記露光された膜を現像することとを含んでいる。 - 特許庁

To provide a fluidized bed drying apparatus exposing particles of a drying object including a great deal of moisture such as brown coal to gases with different temperatures and flow velocity conditions in regard to a fluidized bed drying apparatus.例文帳に追加

流動層乾燥装置に関するものであり、褐炭などのように多量の水分を含んでいる乾燥対象物粒子を温度と流速条件が異なるガスに露出させて乾燥させる流動層乾燥装置を提供する。 - 特許庁

In addition to activating the oxidized surface layer, the step of exposing the oxidized surface layer to the flow of the first process gas facilitates reduction of the activated oxidized surface layer by the second process gas containing the hydrogen gas.例文帳に追加

前記の第1処理気体流へ酸化表面層を曝露する工程は、前記酸化表面層を活性化させるのに加えて、水素気体を含む前記第2処理気体による、前記活性化した酸化表面層の還元を助ける。 - 特許庁

An image forming unit 11 includes: a photoconductive drum 12; an LPH 14 in which plural light-emitting elements are arrayed and used for exposing the photoconductive drum 12; and a housing 19 accommodating and supporting the photoconductive drum 12 and LPH 14.例文帳に追加

画像形成ユニット１１は、感光体ドラム１２と、複数の発光素子が並べて設けられ、感光体ドラム１２を露光するＬＰＨ１４と、これら感光体ドラム１２とＬＰＨ１４を収容、支持するハウジング１９とを備えている。 - 特許庁

By preliminarily exposing the semiconductor substrate 10, having the gas detection part 90, to an atmosphere containing an organosilicon gas for a predetermined time, silicon oxide can be bonded preliminarily to the surface of a catalyst or the surface of a catalyst carrier over the entire region of the gas reaction layer 80.例文帳に追加

そして、予め、有機シリコンガスを含む雰囲気中に所定時間曝すことにより、ガス反応層８０の全域に渡って、触媒若しくは触媒担持体の表面に酸化シリコンを予め付着させることができる。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of exposing an image where pixel deviation and color slurring are prevented from occurring because the train of the pixels arranged in a main scanning direction is arched or meandered in a subscanning direction on photosensitive material.例文帳に追加

主走査方向に並ぶ画素の列が、副走査方向で弓なりになったり蛇行したりすることによる画素ずれや色ずれが生じていない画像を感光材料上に露光することが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

In the process for fabricating a microstructure of Si, SiGe crystal is deposited on an Si substrate and etched to form an SiGe crystal 504 exposing the sidewall onto which a planar microstructure of Si is grown.例文帳に追加

微細なＳｉ構造の製造方法では、Ｓｉ基板上にＳｉＧｅ結晶を堆積し、エッチングする事で側壁が露出したＳｉＧｅ結晶５０４を形成し、この側壁に板状Ｓｉ微細構造５０６を成長させる。 - 特許庁

To provide a folding type portable telephone set where reinforcing component having rigidity larger than that of an external appearance component is used for only a skeleton of folding structure, without exposing metal to external appearance, and productivity is improved.例文帳に追加

外観に金属を露出させないで折り畳み構造の骨格部分にのみ外観部品よりも強い強度を持つ補強部品を使用して生産性を向上させるようにした折り畳み式携帯電話機を提供する。 - 特許庁

Each ear pad part 40 includes a contact part 43 for concealing surroundings of another part 71b of an auricle 71 of each ear 70 and an external auditory meatus 72 of the ear 70 in a way of exposing a part 71a of the auricle 71 of the ear 70.例文帳に追加

イヤーパッド部４０は、耳７０の耳介７１のうちの一の部分７１ａを露出するように耳７０の耳介７１のうちの他の部分７１ｂ及び耳７０の外耳道７２の周囲を覆い隠す接触部４３を有する。 - 特許庁

A method of manufacturing the conductive film comprises the steps of exposing a photosensitive material which is provided on a support, and includes an emulsion layer containing silver salt emulsion; carrying out a development processing to form a metallic silver; and carrying out a smoothing treatment (carrying out a calendar processing).例文帳に追加

支持体上に設けられた、銀塩乳剤を含有する乳剤層を含む感光材料を露光し、現像処理することにより金属銀を形成した後、(カレンダー処理を行うなどの)平滑化処理をする。 - 特許庁

To provide a self-cleaning member which can easily wash off deposits or contaminations having diverse properties attached to a surface only by exposing to a rainfall or flowing water and a coating composition using a manufacture thereof.例文帳に追加

表面に付着した多種多様な性質の堆積物または汚染物を降雨または流水に曝すだけで容易に洗い流すことができる、自己浄化性部材およびその製造に用いられるコーティング組成物が開示される。 - 特許庁

A first photo-resist is formed for exposing the field region defined in the peripheral region; and the pad nitride film 22, the pad oxide film 21, and the semiconductor substrate 20 are etched by using the first photo-resist as a mask so that a second trench 25 can be formed.例文帳に追加

ペリ領域に定義されたフィールド領域を露出させる第１フォトレジストを形成し、第１フォトレジストをマスクとしてパッド窒化膜２２とパッド酸化膜２１と半導体基板２０をエッチングして第２トレンチ２５を形成する。 - 特許庁

To provide a display device such that visibility of a light-emitting diode is satisfactory, even when a look-back plate having a second opening hole is disposed on a display plate, having a first opening hole for exposing the lens portion of the light-emitting diode.例文帳に追加

発光ダイオードのレンズ部を露出させる第１の開口孔を有する表示板上に第２の開口孔を有する見返し板が配置されていても、発光ダイオードの視認性が良好な表示装置を提供する。 - 特許庁

While exposing a target portion of the substrate edge by scanning, a radiation is prevented from being exposed on the substrate table or its radiation is decreased, or a position of an edge of an illuminating field is changed so as to expose an L-shaped region.例文帳に追加

基板の縁で標的部分を走査露光する間に、基板テーブルに放射線が当たるのを防止するか、その放射線を減少させる、またはＬ字形区域を露光するよう、照明フィールドの縁の位置を変更する。 - 特許庁

The electrode pad 13b is formed close to a crossing portion between the mounting surface and the side wall surface exposing the internal electrode terminals 21, 23, 25, and 27 so that a pad distance L3i between the electrode pad 13b and an electrode pad 17b is long enough.例文帳に追加

電極パッド１３ｂは、電極パッド１３ｂ、１７ｂのパッド間隔Ｌ３ｉが十分に長くなるように、実装面と内部電極端子２１、２３、２５、２７が露出する側壁面との交線部に近接させて形成されている。 - 特許庁

Since the de-smearing step is performed following the pattern etching step for exposing a substrate, the surface of the substrate can be smoothed by imparting a chemical to the surface of the substrate where multiple protrusions and recesses are formed by copper foil subjected to anchoring.例文帳に追加

基材が露出するパターンエッチング工程後にデスミヤ処理を行うことにより、アンカー処理された銅箔によって多数の凹凸が形成された基材表面に薬品を付与し、該基材の表面を平滑化することができる。 - 特許庁

On a reticle to form a writing pole of a thin film magnetic head, the area forming the main pole width is composed of a translucent area and a transparent area, and an exposing light phase shifter is disposed in the light passing area between them.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドの書き込み用磁極形成するためのレチクルにおいて、主磁極部の幅を形成する部分を半遮光部と透過部とで形成し、半遮光部と半遮光部の間の透過部に露光光の位相シフタを設ける。 - 特許庁

Wiring lines are fabricated by handling a holding plate obtained by integrating these plates as a single member and by subjecting the upper and lower faces together to plating and to steps of forming various films, exposing and developing on each surface side.例文帳に追加

配線形成は、これらプレートを合体させて得られる保持プレートを単一の部材として取り扱い、その上下面に対しての一括でのめっき、個々の面側から種々の膜形成、露光、現像の各処理を行うことにより為す。 - 特許庁

The method also comprises steps of exposing the first film 13B and the second film 15B to nitrogen plasma, and thereby forming a first gate insulating film 13C and a second gate insulating film 15C in which the nitrogen atom is further introduced.例文帳に追加

次に、第１のゲート絶縁膜１３Ｂ及び第２のゲート絶縁膜１５Ｂを窒素プラズマに暴露することにより、窒素原子をさらに導入された第１のゲート絶縁膜１３Ｃ及び第２のゲート絶縁膜１５Ｃを形成する。 - 特許庁

The skin care preparation is prepared by blending purified water and necessary ingredients to form a skin external agent, exposing the same to a mixed gas of hydrogen and oxygen so as to dissolve the mixed gas in the water whereby an oxidation-reduction potential is lowered.例文帳に追加

精製水に所要の成分を配合して調製せしめた皮膚外用剤の調製品に、水素と酸素の混成ガスを曝気せしめ、該混成ガスを水分に溶存せしめて酸化還元電位を低下せしめたものである。 - 特許庁

Scanning start points within one pixel in each pixel are controlled to be different between a first light beam and a second light beam, among a plurality of light beams pulse-width modulated based on image data, exposing the identical pixel position.例文帳に追加

画像データに基づいてパルス幅変調された複数の光ビームのうち、各画素における１画素内での走査開始起点を、同一の画素位置を露光する第１の光ビームと第２の光ビームとで異なるように制御する。 - 特許庁

A substrate 100 includes: multiple pads (104 and 106) formed on one surface of a base material; and a solder resist 120 formed on the multiple pads and in which multiple openings 120a exposing the respective pads are formed.例文帳に追加

基板１００は、基材の一面に形成された複数のパッド（１０４および１０６）と、その上に形成されるとともに、各パッドをそれぞれ露出させる複数の開口部１２０ａ形成されたソルダーレジスト１２０とを含む。 - 特許庁

Projecting parts 119 consisting of a photosensitive resin are patterned and formed on a substrate 111 by forming a photosensitive resin layer on the substrate, then exposing and developing the photosensitive resin layer through a photomask formed of a plurality of the prescribed patterns.例文帳に追加

基板１１１上に感光性樹脂層を形成した後、所定のパターンが複数形成されたフォトマスクを介してこの感光性樹脂層に露光，現像し、基板上に感光性樹脂からなる凸部１１９をパターン形成する。 - 特許庁

To perform projection and transfer operation on a circuit pattern, irrespective of the change of conditions of illumination and the exposing operation in performed in a stationary state or in a scanning state.例文帳に追加

マスクを照明する照明条件の変更、及び、静止状態または走査状態での露光動作に関わらず精確な回路パターンの投影転写を可能とする露光システム及び走査型露光装置並びにその露光方法を提供する。 - 特許庁

A protective coating is formed on the steel base exposing portion, and accordingly by forming of the coating, corrosion of the steel base is prevented.例文帳に追加

空気調和機の外郭やドレン水に直接接触する内部部品に、高耐食性のＺｎ−Ａｌ−Ｍｇからなる溶融めっき鋼鈑を用い、鋼素地露出部分へ保護被膜を形成させ、この被膜の生成により鋼素地の腐食を防止する。 - 特許庁

To provide a method for preserving a cell and a nucleic acid in a sample by exposing the sample to a composition producing an inhibitory effect on a proteolytic substance and/or a nucleic acid-degrading substance in the sample.例文帳に追加

試料中の蛋白質分解物質および／または核酸分解物質に阻害効果を引き起こす組成物に対して試料を曝露することによって試料中の細胞および核酸を保存するための方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist monomer for preventing the acid generated by an exposed part by an exposing process in a photolithography step from migrating into an unexposed part, and further to provide a copolymer of the monomer and a photoresist composition containing the copolymer.例文帳に追加

フォトリソグラフィー工程のうち露光工程により露光部から発生した酸が非露光部に拡散されることを防ぐためのフォトレジスト単量体、その共重合体及びこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The influence of an optical proximity effect is eliminated by utilizing different phase shift masks 10, 12 depending on the distances W1, W2 between the adjacent patterns, and then introducing the optimum exposing condition for the respective distances W1, W2.例文帳に追加

隣接パターン間距離Ｗ１，Ｗ２に応じて異なる位相シフトマスク１０，１２を用い、それぞれの隣接パターン間距離Ｗ１，Ｗ２に最適な露光条件を採ることにより、光近接効果の影響が排除される。 - 特許庁

The facial instrument 100 has a pearl holding section 10a rotatably holding pearls in a state of exposing parts of spherical surfaces of the pearls on a pressing surface 13 and a grip section 20 continuously contacting the pearl holding section 10a.例文帳に追加

押当面１３上に真珠の球面の一部を露出した状態で当該真珠を回転可能に保持する真珠保持部１０ａと、真珠保持部１０ａに連接する把持部２０とを有する美顔器１００である。 - 特許庁

In relation to a sealing material formed by covering a flexible foamed body formed of synthetic rubber, natural rubber or a thermoplastic resin with adhesive butyl rubber, this butyl rubber composite sealing material is characterized by one part of its upper surface being a foamed body exposing layer.例文帳に追加

合成ゴム、天然ゴムまたは熱可塑性樹脂よりなる柔軟な発泡体を粘着性ブチルゴムで被覆したシール材において、上面の一部分が発泡体露出層であることを特徴とするブチルゴム複合シール材。 - 特許庁

One example of such a member includes preconditioning that is performed by exposing abrasive particles having the same density as bulk density, at about half the height of the abrasive elements, by forcibly removing the binder-rich upper parts of the abrasive elements.例文帳に追加

実施形態には、固定研磨要素のバインダに富む上部を強制的に除去して、要素の約１／２の高さにおけるバルク濃度と同程度の濃度を有する研磨粒子を露出させることによるプレコンディショニングが含まれる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can ensure a photolithography and etching margin during contact hole formation and can carry out good wiring without exposing a wiring layer inside a contact hole.例文帳に追加

コンタクトホール形成時の写真製版およびエッチングのマージンを確保することができ、配線層がコンタクトホール内において露出することがなく、良好な配線を行なうことのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Subsequently, a second resist layer 30 opening on the pad electrode 23 is used as a mask to etch the first and second passivation films 25 and 26 and the cap metal layer 24 on the pad electrode 23, thereby exposing the surface of the pad electrode 23.例文帳に追加

その後、パッド電極２３上で開口する第２のレジスト層３０をマスクとして、パッド電極２３上で第１及び第２のパッシベーション膜２５，２６及びキャップメタル層２４をエッチングしてパッド電極２３の表面を露出する。 - 特許庁

Various kinds of patterns such as a conductor pattern and a resistor pattern can be efficiently formed by applying a photosensitive paste on the ceramic multilayer green sheet, drying, then selectively exposing according to a specified pattern and developing.例文帳に追加

このセラミック積層グリーンシート上に感光性ぺ一ストを塗布、乾燥し、次いで所定のパターン通りに選択的に露光した後、現像することにより、導体パターン、抵抗体パターン等の各種パターンを効率的に形成できる。 - 特許庁

This method for manufacturing a multilayered wiring structure for preventing an etching damage and oxidation caused by exposing lower wirings in an etching atmosphere by using a dual damascene wiring method introducing a via capping process.例文帳に追加

ビアキャッピング工程を導入したデュアルダマシン方法を使用して下部配線がエッチング雰囲気に露出されることによって惹起しうるエッチング損傷及び酸化を防止できる多層金属配線構造を形成する方法を含む。 - 特許庁

A square surface exposing pattern 9 is formed on a dielectric separation wafer 100 and a cross-shaped mask-side alignment mark 14 is formed at a position corresponding to the pattern 9.例文帳に追加

誘電体分離ウェハ１００上に四角形状の表面露出パターン９を形成すると共に、この表面露出パターン９の位置に対応するマスク２００上の位置に十字形状のマスク側位置合わせマーク１４を形成する。 - 特許庁

The separator 4, for instance, has an exposure layer 4a for exposing fine-porous polyolefin resin, and a covering layer 4b wherein the surface of a fine skeleton 4c of the fine-porous polyolefin resin is covered by a glass layer 4d.例文帳に追加

セパレータ４は、例えば、微多孔性のポリオレフィン系樹脂が露出する露出層４ａと、微多孔性のポリオレフィン系樹脂の微細骨格４ｃの表面がガラス層４ｄで被覆されている被覆層４ｂと、を備えるものである。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a resist film by using the above resist composition for EUV on a substrate, exposing the resist film to EUV light, and forming a resist pattern by developing the resist film.例文帳に追加

支持体上に、前記ＥＵＶ用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜をＥＵＶ露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁