Exposingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6240件
To make it possible to perform an interrupting processing for reprinting photographs of a preceding customer which were printed in preceding processing during the processing of a succeeding customer' order in a photograph processing system for printing out photographs by exposing and developing a photosensitive material.例文帳に追加
感光材を露光し現像処理することにより写真をプリントする写真処理システムにおいて、ある顧客のオーダー処理中に、先に処理した他の顧客の写真をプリントし直すための割り込み処理を可能とする。 - 特許庁
To provide a catalyst carrier for modification which is sufficiently high in durable stability against exposing by sulfur on a catalyst carrier at a modification temperature, and sufficiently improves the stability of the passage of time of modification properties.例文帳に追加
改質作動温度における触媒担体の硫黄被毒に対する耐久安定性が十分に高く、改質特性の経時的安定性を十分に向上させることが可能な改質用触媒担体を提供すること。 - 特許庁
The method for manufacturing a planographic printing plate includes the steps of forming a photosensitive layer containing the polymerizable composition on a support body exposing the plate to laser light at ≤450 nm wavelengths and developing with a developer having ≤ pH13.0.例文帳に追加
本発明の平版印刷版の製造方法は、支持体上に該重合性組成物を含む感光層を設け、450nm以下の波長を有するレーザ光で露光し、次いでpH13.0以下の現像液で処理する工程を含む。 - 特許庁
To provide a wooden partition device composing a classroom equipped with a glass window as a light for the classroom and a rotary panel for ventilation without exposing metal portions to the outer surfaces in wooden partitions for building a school building into individual classrooms.例文帳に追加
学校の教室を仕切る為の木製間仕切りであって、外部に金属部分が露出することなく、明かりを通すガラス窓と通気性を有す回転パネルを備えた教室を構成する木製間仕切り装置の提供。 - 特許庁
In this method of manufacturing the color conversion film from a color conversion film material containing an ethylenic unsaturated group, the color conversion film is manufactured by an exposing process and/or a heating process implemented in a low oxygen atmosphere.例文帳に追加
エチレン性不飽和基を含む色変換膜材料から色変換膜を製造する方法において、露光工程及び/又は加熱工程を、低酸素雰囲気で実施することを特徴とする色変換膜の製造方法。 - 特許庁
The package 4 for vacuum includes a container body 4a to be used by evacuating the inside into vacuum and the gas adsorption element 3a disposed inside the container body 4a and composed by exposing the broken surface of a metallic body containing a getter material.例文帳に追加
真空用パッケージ4において、内部を真空に排気して使用する容器本体4aと、容器本体4a内に配置され、ゲッター材料を含む金属体の破断面が露出して成るガス吸着素子3aと、を備えている。 - 特許庁
To provide a hologram printer which is capable of printing full-color holographic stereogram, capable of simultaneously exposing a plurality of basic holograms, and which has flexibility of adjusting the hologram printer quickly and readily so that printing can be conducted in different basic hologram sizes.例文帳に追加
フルカラーホログラフィックステレオグラムをプリント可能で、複数の基本ホログラムを同時に露光でき、異なる基本ホログラムサイズでプリントし得るようにホログラムプリンタを迅速且つ容易に調節し得るようなフレキシビリティを有するホログラムプリンタを提供する。 - 特許庁
The projection exposing machine projects illumination luminous flux on a reticle 800 having a target reticle pattern 810 and projects illumination luminous flux having passed through the reticle on the sample 900 to expose the reticle pattern.例文帳に追加
本実施の形態の投影露光機は、照明光束を目的のレチクルパターン810を有するレチクル800に投射し、当該レチクルを透過した照明光束を試料900上に投影して、レチクルパターンの露光を行う。 - 特許庁
The oxide film 603 exposing over the semiconductor substrate 600 is removed, and a silicide film 607 is formed on the surfaces of the gate electrode 602 and first impurity diffusion layer 605, and then the sidewall 604 is removed.例文帳に追加
半導体基板600の上に露出する酸化膜603を除去した後、ゲート電極602及び第1の不純物拡散層605の表面部にシリサイド膜607を形成し、その後、サイドウォール604を除去する。 - 特許庁
To prevent a group of metallic atoms from spreading into a dielectric layer deposited on the sidewall of a double damask hole by forming an isometric barrier/an adhesive layer prior to performing the RIE treatment for exposing a metallized layer.例文帳に追加
金属化層を露出する為のRIE処理を行う前に、等角障壁/接着層を形成することにより、二重ダマスク穴の側壁に蒸着された金属原子群が誘電体層内に拡散するのを防止する。 - 特許庁
The scaffold forming member 10 is provided with a corrugated face part 23a extending by corresponding to corrugated shapes of slates S and a clearance W for exposing a bolt C and a nut D for attaching the slate A to aggregates of the roof.例文帳に追加
足場形成部材10には、スレートSの波形状に対応して延びる波形面部23aと、スレートAを屋根の骨材に取り付けるためのボルトC及びナットDを露出させるための隙間Wとが設けられている。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing semiconductors in which the throughput of semiconductor device manufacturing can be improved by collectively exposing a large part of a signal wiring pattern to resist on a wafer by using only one block mask.例文帳に追加
ウエハ上のレジストに信号配線パターンの大部分を1個のブロックマスクを使用して一括露光できるようにし、半導体装置製造のスループット向上を図ることができるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A method comprises steps for forming a photoresist on a substrate, rinsing the photoresist using a rinse liquid agitated by at least one megasonic ultrasonic source, exposing the photoresist to radiation while being immersed in liquid, and developing the photoresist.例文帳に追加
基板上にフォトレジストを形成する工程と、少なくとも一つのメガソニック超音波源で振動されているリンス液によりフォトレジストをリンスする工程と、フォトレジストを液体に浸すときに、フォトレジストを放射源で露光する工程とを含む。 - 特許庁
The ion generating device 20 can supply the moisture discharged from the humidifying filter 4 to a space between the needle-like electrode 1 and the counter electrode 2 without exposing it to the outside space of the ion generating device 20.例文帳に追加
イオン発生装置20は、加湿フィルター4から放出された水分を、イオン発生装置20の外部空間に曝すことなく、針状電極1と対向電極2との間の空間に供給できるように構成されている。 - 特許庁
To provide an immuno-enhancing agent for fishes capable of healthily growing fishes without exposing fishes being cultured including seedling fishes to disease damage, a feed composition using the same, and a producing method of cultured fishes.例文帳に追加
種苗を包含する養殖時の養魚が病害に曝されることなく、健常に成長させることのできる魚類用免疫能増強剤ならびにそれを用いた餌料組成物および養殖魚の生産方法を提供すること。 - 特許庁
A semiconductor substrate 10 is prepared at first that is comprised of integrated circuits 12, and is provided with a plurality of aluminum electrodes 14 and a passivation film 16 having an opening 18 exposing the central part 15 of the respective aluminum electrodes 14.例文帳に追加
集積回路12が形成されてなり、複数のアルミニウム電極14とそれぞれのアルミニウム電極14の中央部15を露出させる開口18を有するパッシベーション膜16とを有する半導体基板10を用意する。 - 特許庁
Then, after bridging the polymer by heating the barrier film 103, it selectively radiates exposing light to the resist film 102 through the barrier film 103 to expose the pattern keeping the liquid 104 on the barrier film 103.例文帳に追加
続いて、形成されたバリア膜103を加熱してポリマーを架橋した後、バリア膜103の上に液体104を配した状態で、バリア膜103を介してレジスト膜102に露光光を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁
In the course of exposing a plating resist film to light to form post electrodes, a step exposure is first performed on semiconductor-device forming regions 21 and alignment-mark forming regions 22, using a first exposure mask for forming the post electrodes.例文帳に追加
ポスト電極を形成するためのメッキレジスト膜の露光を行なうとき、まず、ポスト電極形成用の第1の露光マスクを用いて、半導体素子形成領域21およびアライメントマーク形成領域22に対してステップ露光を行なう。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device to make the alignment of liquid crystal molecules substantially constant and stably drive the liquid crystal molecules by adjusting alignment of liquid crystal molecules in exposing a liquid crystal composition containing a photosensitive material.例文帳に追加
感光性の材料を含む液晶組成物を感光させるに際して液晶分子の配向を調整し、液晶分子の配向をほぼ一定にすることができ、安定に駆動させることのできる液晶表示装置の提供。 - 特許庁
The toner container is manufactured by helically winding a steel wire around the outer peripheral surface of the plastic toner container, thereafter, coating the steel wire with a plastic sheet, and also, partly exposing the steel wire outside the plastic sheet.例文帳に追加
このトナー容器は、プラスチック製トナー容器の外周面に鋼線を螺旋状に巻回した後、この鋼線をプラスチックシートで被覆するとともに、鋼線の一部をこのプラスチックシートから外部に露出させることにより作製される。 - 特許庁
The method for regenerating the pattern of a photomask, for regenerating a pattern 2 formed by using chromium or molybdenum silicide on the substrate 1 of a photomask 10, includes an exposure step of exposing the pattern 2 to an argon fluoride laser beam 3.例文帳に追加
フォトマスク10の基板1上にクロム又はモリブデンシリサイドを用いて形成されたパターン2を再生するためのフォトマスクのパターン再生方法は、パターン2にフッ化アルゴンレーザ3を露光する露光工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an inexpensive exposure apparatus having a simple configuration that can draw with high accuracy by correcting positions of drawing pixels when drawing is performed by exposing pixels by beams emitting from a means side which selectively modulates a plurality of pixels.例文帳に追加
複数の画素を選択的に変調する手段側から出射された各ビームによって露光して描画するときの描画画素位置を補正して高精度で描画可能とした、構成が簡素で廉価な露光装置を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor element using this phase shift mask includes the steps of: forming a photoresist layer on the substrate; exposing the photoresist layer to light with the use of the phase shift mask; and developing the photoresist layer.例文帳に追加
この位相シフトマスクを使用する半導体素子の製造方法は、基板にフォトレジスト層を形成する工程と、位相シフトマスクを用いてこのフォトレジスト層を露光する工程と、このフォトレジスト層を現像する工程とを含む。 - 特許庁
The suboxide substance is formed by exposing a semiconductor substrate to an electron beam evaporator source employing a silicon source and a semiconductor wafer is set in an atmosphere containing oxygen having a partial pressure during the step.例文帳に追加
他の実施形態において、亜酸化物物質は、シリコン源を用いる電子ビーム蒸発器源に半導体基板をさらすことによって形成され、半導体ウエハは、このステップの間分圧を有する酸素含有雰囲気に置かれる。 - 特許庁
A protective film having contact holes each exposing a portion of the drain electrode and consisting of an organic insulating substance is formed thereon and pixel electrodes connected to the drain electrodes through the contact holes are formed at an upper part of the protective film.例文帳に追加
その上には、ドレイン電極の一部を露出するコンタクトホールを有して有機絶縁物質からなる保護膜が形成され、保護膜上部には、コンタクトホールを通じてドレイン電極と接続されている画素電極が、形成されている。 - 特許庁
To provide a photopolymer medium for color hologram image recording and a color hologram image recording method which allow acquisition of a color image of high diffraction efficiency by exposing the same recording layer to light having a plurality of wavelengths.例文帳に追加
同一の記録層に複数の波長光による露光を行なって、回折効率の高いカラー画像を得ることが出来るようにしたカラーホログラム画像記録用フォトポリマー媒体及びカラーホログラム画像記録方法を提供する。 - 特許庁
Further, since the smell is similar to 'Takuan zuke' (yellow pickled radish) takes up the whole room when the grated daikon radish is directly heated without any treatment, it is good to first squeeze out moisture, and then exposing it in water to drain out the sulfuric constituent. 例文帳に追加
なお、卸した大根はそのまま火にかけると「沢庵漬け」のような匂いが部屋中に充満する場合があるため、いったん絞ってから水にさらし、大根に含まれる硫黄成分を抜いてから使ったほうがよい。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To provide an exposure apparatus capable of suppressing scattering of a liquid to be used for forming an immersion region and capable of exposing a substrate with a desired pattern accuracy without interrupting the movement of a substrate stage by piping for supplying and collecting the liquid.例文帳に追加
液浸領域を形成するための液体の飛散を抑え、液体の供給、回収用の配管類で基板ステージの移動を妨げずに所望のパターン精度で基板を露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a folding portable telephone set where reinforcing component having rigidity larger than that of an external appearance component is used for only a skeleton of folding structure, without exposing metal to external appearance, and productivity is improved.例文帳に追加
外観に金属を露出させないで折り畳み構造の骨格部分にのみ外観部品よりも強い強度を持つ補強部品を使用して生産性を向上させるようにした折り畳み式携帯電話機を提供する。 - 特許庁
To provide an aligner, an exposing method and a device manufacturing method by which time required to measure positional information on a mask and a substrate is shortened, so that production efficiency is improved.例文帳に追加
マスク及び基板の位置情報の計測に要する時間を短縮することができ、その結果として生産効率の向上を図ることができる露光装置、露光方法及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
In the insulating holder 8, the ring portions of the bus rings 3-5 are fitted in the engaging grooves 81-83, and a closing portion 88 is provided to close the opening of the engaging grooves 81-83 while exposing the terminal portion from the insulating holder 8.例文帳に追加
絶縁ホルダ8において、係合溝81〜83にバスリング3〜5のリング部が嵌合すると共に端子部を絶縁ホルダ8から露出させる状態で係合溝81〜83の開口を塞ぐ閉鎖部88が設けられている。 - 特許庁
In the dust collecting head, a brush-exposing aperture 10 is bored at the bottom of a housing 1 and a brush-housing chamber 14 for housing a rotary brush 3 and a decompression chamber 15 connecting to the brush- housing chamber 14 are formed inside the housing 1.例文帳に追加
本発明に係る集塵ヘッドにおいては、ハウジング1の底部にブラシ臨出口10を開設し、ハウジング1の内部には回転ブラシ3を収容するブラシ収容室14と、該ブラシ収容室14に繋がる減圧室15とを形成している。 - 特許庁
A barrier operating member 41 is attached to the inner wall of a front cover in the state of exposing an operating control 14 to the outside and is operated to move in an arcuate form to encircle a body tube 11 when the lens barriers 38 and 39 are opened.例文帳に追加
バリア操作部材41は、操作つまみ14を外部に露呈した状態で前カバーの内壁に取り付けられており、レンズバリア38,39を開閉するときに鏡筒11を取り巻く円弧状に移動操作される。 - 特許庁
To improve throughput by changing an exposure method at the time of plotting a device pattern and at the time of exposing the periphery of a molded chip area, so called, at the time of peripheral exposure by using a variable molding type EB(electron beam) direct plotting device.例文帳に追加
可変成形型のEB直描装置を用いて、デバイスパターンの描画時と成形チップ領域の外周を露光する、いわゆる周辺露光時の露光方法を変えることにより、スループットを向上させることを課題とする。 - 特許庁
The pattern forming method includes steps of: laminating a photosensitive layer in a pattern forming material having at least the photosensitive layer on a support on a substrate to be processed; carrying out prebaking; and exposing the photosensitive layer.例文帳に追加
支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、プリベーク処理した後、該感光層に対し露光が行われることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁
A magnetic disk cartridge 1 is provided with a plurality of magnetic disk media 41, center cores 42 for rotating integrally these media, and a cartridge case 2 having an opening part 16 for exposing a lower end of the laminated center cores 42 to the outside.例文帳に追加
磁気ディスクカートリッジ1は、複数の磁気ディスクメディア41と、これらを一体に回転させるためのセンタコア42と、積層されたセンタコア42の下端を外部に露出させるための開口部16を有したカートリッジケース2とを備えている。 - 特許庁
Moreover, the compression molding is performed after closely contacting the coil with the kneading material, an exposed part of the coil and a mold sequentially by exposing a coil terminal to the outside of the mold resin at embedding and pressing a sliding mold surface to the exposed part.例文帳に追加
また、コイル端末は埋設時混練樹脂の外部に露出させ露出部に摺動する金型面を押し付けることにより混練材料、巻き線露出部、金型の順に密着させた後圧縮成形することを特徴とする。 - 特許庁
A laser exposing apparatus has a structure capable of rotating around a point near the center of a plurality of beam emission points and is so adjusted that a laser beam with a shorter wavelength has a longer optical path and a laser light with a longer wavelength has a shorter optical path.例文帳に追加
複数の発光点の中心付近を回転運動の中心として回転が可能な構造とし、波長の短い方のレーザ光を長い光路、波長の長いほうのレーザ光を短い光路となるよう調整可能にする。 - 特許庁
The disk device 1 is constituted by housing a disk 2 in a disk cartridge 3 provided with a main body case 11 having a shutter main body 25 for opening a window part for exposing the recording surface 5 of the disk 2 and moving the window part to be opened/closed.例文帳に追加
ディスク2の記録面5を露出する窓部を開口し、窓部を開閉可能に移動するシャッタ体25を有した本体ケース11を備えたディスクカートリッジ3にディスク2を収容してディスク装置1を構成する。 - 特許庁
The television camera includes means (6, 2) for sweeping out electric charges in the transmission line of a solid-state imaging element 1 by a first trigger signal 5 and exposing the solid-state imaging element by a second trigger signal 4 so as to output a video signal.例文帳に追加
第1のトリガー信号5で固体撮像素子1の伝送路の電荷を掃き出し且つ第2のトリガー信号4で前記固体撮像素子を露光させて映像信号を出力する手段(6,2)を備えることを特徴とする。 - 特許庁
To reduce or eliminate the inprint effect of ferroelectric devices such as capacitive elements and memory cells without exposing the devices to a too high temperature and ultraviolet light or without conducting a post-annealing process.例文帳に追加
強誘電体素子を過大な温度にさらしたり、紫外光にさらしたり、あるいはポストアニーリング処理を行ったりすることなく、容量素子やメモリセルなどの強誘電体素子におけるインプリント効果を少なくしあるいはなくす。 - 特許庁
A part of the laminated body is eliminated, thereby eliminating the first through hole and a surface electrode for polarization and exposing an end part of the conductive film for the wiring 2 on an outer peripheral surface of the laminated body to manufacture a laminated piezoelectric element 1.例文帳に追加
積層体の一部を除去することで、第1のスルーホール及び分極用表面電極を除去し、積層体の外周面に配線用導電膜2の端部を露出させることにより、積層圧電素子1を製造する。 - 特許庁
At the time of exposing a substrate to a pattern by projecting the image of the pattern upon the substrate through a projection optical system and a liquid, the condition of the liquid immersion performed on the substrate is decided in accordance with a film member formed on the liquid-contacted surface of the substrate.例文帳に追加
投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、基板上の液体接触面に形成される膜部材に応じて、基板の液浸条件を決定する。 - 特許庁
In the device, when an image signal is outputted by a control means 18, an exposing means 102 carrying out exposure of an image carrier 1 is driven by an optical beam driving means 17 based on the image signal and an electrostatic latent image is formed on the image carrier.例文帳に追加
制御手段18が画像信号を出力すると、この画像信号に基づき光ビーム駆動手段17は像担持体1に対して露光を行う露光手段102を駆動し、像担持体上に静電潜像を形成する。 - 特許庁
To provide a hinge apparatus which connects a plurality of electronic apparatuses so as to be relatively rotatable around a plurality of directions while not exposing a wiring member outside the electronic devices and which is improved in simplifying the assembly process, and to provide a wiring member used in the hinge device.例文帳に追加
簡単な構成で複数の電子機器を相互複数の回転方向へ回動できると共に、相互間に電気的な信号交換が可能に連結できるヒンジ装置及びヒンジ装置に使用される配線部材を提供する。 - 特許庁
To provide a printing device printing a desired image on photosensitive material by using the expensive display of desired equipment in common without necessitating a light source for exposure dedicated to printing and without necessitating a large-sized focusing means for exposing the photosensitive material.例文帳に追加
プリント専用の露光用光源を必要とせず、また、感光材料を露光する大型の合焦手段を必要とせず、所望機器の高価なディスプレイを共用して感光材料に所望画像をプリントするプリント装置を提供する。 - 特許庁
To prevent the shaking of a subject image due to the shake of a camera from being imprinted in an image pickup means by avoiding the lowering of a shaking correcting operation due to the consumption of a battery in exposing operation while performing the shaking correcting operation.例文帳に追加
振れ補正動作を行いながらの露光中に、電池の消耗によって振れ補正動作がダウンすることを回避し、当該カメラの振れに応じた被写体像の振れが撮像手段に写し込まれることを防止する。 - 特許庁
To provide a method for exposure by which the intensity unevenness (illumination unevenness) of exposing light is reduced as much as possible by roughly uniformizing the distribution of the arriving amount of a gas discharged from a resist at the surface of an optical element at the lowermost position of a projection optical system.例文帳に追加
レジスト放出ガスが投影光学系の最下端にある光学素子の表面に到達する到達量の分布を略均一にすることができ、露光光強度ムラ(照度ムラ)を可及的に少なくすること。 - 特許庁
To mount a wall panel on skeleton side concrete in a building easily, securely, and highly precisely with high resistance to shearing force without exposing the hardware for mounting the wall panel to any side of a front side and a back side of the wall panel.例文帳に追加
壁パネルの表側、裏側のどちら側にも壁パネル取付用の金物類を露出させることなく、壁パネルを容易に確実、かつ精度良く、ローコストで、しかも高耐剪断力で、建物の躯体側のコンクリートに取り付けること。 - 特許庁
A pair of external electrodes 11 and 14 are provided on both end faces exposing the conductor layers 3A and 5A of the laminate 13, and the conductor layers 3A and 5A and the conductor layer 4B have an overlapping part with the piezoelectric layer 2A in between.例文帳に追加
そして、積層体13の導体層3A,5Aが露出した両端面に設けた1対の外部電極11,14を備え、導体層3A,5Aと、導体層4Bとは圧電体層2Aを挟んで重なる部分を有する。 - 特許庁
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