「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(85ページ目) - Weblio英語例文検索

In exposing the photosensitive material layer 3a on the plastic base 2, the exposure device 15 is controlled with a controller 16 on the basis of the water content measured with the water content measuring device 14 to enlarge or reduce the pattern to be exposed.例文帳に追加

プラスチック基材２上の感光性材料層３ａを露光する際、含水率測定装置１４により測定された含水率に基づいて、制御装置１６により露光装置１５が制御されて、露光されるパターンが拡大または縮小される。 - 特許庁

To provide a novel method for affecting, controlling and/or directing various reactions and/or reaction pathways or systems by exposing one or more components in the whole reaction system to at least one spectral energy pattern.例文帳に追加

本発明は、全反応系中の１または２以上の成分を少なくとも１つのスペクトラムエネルギーパターンに暴露していろいろな反応および／または反応経路または系に影響を与え、制御し、および／または方向付けをする新規な方法に関する。 - 特許庁

A cooking table device with the stove is constituted by fitting the stove body 4 of the stove 2 from an upper opening 10 arranged in the upper surface of a cooking table 1 and exposing a stove top board 5 arranged on the stove body 4 to the upper surface of the cooking table 1.例文帳に追加

コンロ２のコンロ本体４を調理１台の上面に設けた上面開口１０から嵌め込んでコンロ本体４上に設けたコンロ天板５を調理台１の上面に露出させてコンロ付調理台装置を構成する。 - 特許庁

A pin 14b is inserted into a sending hole 6b, and the tractor paper 6 is set in the pin belt 14, and in a state of closing a movable cover 17, an upward exposing paper pressing-down area Ae is formed in a part of a placing area Ap of the tractor paper 6.例文帳に追加

ピン１４ｂが送り孔６ｂに挿入されてトラクタ用紙６がピンベルト１４にセットされ、かつ可動カバー１７が閉じられた状態で、トラクタ用紙６の載置領域Ａｐの一部に、上方に露出する紙押さえ領域Ａｅが形成される。 - 特許庁

A method of manufacturing a device includes repeating, inside a deposition device: an insulating film-forming step of forming an insulating film on a substrate where the functional film is formed so as to cover the functional film; and a plasma-processing step of exposing a surface of the formed insulating film to plasma.例文帳に追加

成膜装置内で、機能膜が形成された基板上に、上記機能膜を覆うように、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、形成した上記絶縁膜の表面をプラズマに曝すプラズマ処理工程とを繰り返すこと。 - 特許庁

To provide a structure for attaching a partitioning member by which sufficient fixing strength can be secured even though the thickness of a counter is reduced and appearance is not deteriorated even in the case of exposing the deep side lower position of a cooking stove or others in a counter to a dining room side.例文帳に追加

カウンターの厚みを薄くしても十分な固定強度を確保することができ、カウンターにおけるコンロ等の奥側下部をダイニングルーム側に露出させる場合でも、体裁が悪くならない仕切部材の固定構造を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing a resist pattern for a printed circuit board comprises a step of exposing a specific pattern to a roll sheet type laminated material based on digital data, and cutting the laminated material to a specific size before or after the exposure.例文帳に追加

ロールシート状の積層材を用い、デジタルデータに基づいて所定のパターンの露光を行い、その露光の前後いずれかで所定のサイズに積層材の切断を行うようにしてプリント配線板用レジストパターンを作製する事により解決される。 - 特許庁

The grounding wire 27 having exposure parts 44 exposing a core wire 41 by removing a coating layer 42 on a surface so as to correspond to clamp members 43 and 43t of respective duct members 31 is inserted into a plurality of the respective duct members 31 connected to one another.例文帳に追加

各ダクト部材３１のクランプ部材４３，４３ｔに対応するように表面の被覆層４２を除去し、芯線４１が露出する露出部分４４を有する一本のアース線２７を、複数個連結された各ダクト部材３１内に挿通させる。 - 特許庁

The original document tray 1 is rotated upward, thereby exposing the bottom surface of the original document tray 1 having the CIS 20 attached thereon to the outside, and thus, the access to the CIS 20 itself and the position where the CIS 20 is disposed in the main transfer path 3 is available from the outside.例文帳に追加

原稿トレイ１を上方に回動させることで、ＣＩＳ２０が装着されている原稿トレイ１の底面が外部に露出し、ＣＩＳ２０自体、及び主搬送路３におけるＣＩＳ２０の配置位置へ外部からのアクセスが可能になる。 - 特許庁

A baking and heating cooking process includes a process for exposing the material to be heated in the steamed state by controlling the steam generating means 30 in a heating initial stage, and a process for baking and drying the object to be heated by controlling the heating means 40 in a heating latter stage.例文帳に追加

焼き加熱調理工程は、加熱初期段階に蒸気発生手段３０を制御して被加熱物を蒸し状態にさらす工程と、加熱後期に加熱手段４０を制御して被加熱物を焼成・乾燥する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a nursing brassiere capable of quickly exposing breasts from outside edges of cups to facilitate nursing, while enabling the safe and stable nursing in a natural posture without allowing foreign matters such as the cup and a holder interfere during the nursing.例文帳に追加

カップの外側縁から素早く乳房を露出して容易に授乳することができると共に、授乳時においては、カップや係止具など異物が当たらない安全で安定した自然体での授乳を可能にした授乳用ブラジャーを提供する。 - 特許庁

To provide a disinfecting apparatus which removes fungi and bacteria in air by exposing air to strongly acidic water, can disinfect the air continuously and effectively, and can perfectly remove chlorine gas by neutralizing air-conditioned air after disinfection.例文帳に追加

強酸性水に空気を晒して、空気中の真菌や細菌を除菌する除菌装置において、空気を連続して効果的に除菌できるうえ、除菌後の空調空気を中和処理して塩素ガスを完全に除去できる除菌装置を提供する。 - 特許庁

A folded part 23 covering over a part of the back of a camera 11 is provided to a cover 10, made of silicone rubber, and a large rectangular opening 22 for exposing a liquid crystal display part 20 provided to the back of the camera 11 is formed on the folded part 23.例文帳に追加

シリコンゴム製のカバー１０には、カメラ１１の背面の一部を覆う折り返し部２３が設けられており、折り返し部２３には、カメラ１１の背面に設けた液晶表示部２０を露呈させる矩形の大開口２２が形成されている。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method for exposing a wide range at once without using a photomask and for quickly correcting positional misalignment with high accuracy between a position of an exposure pattern in an underlay exposure pattern and an exposure position to form an overlay pattern.例文帳に追加

フォトマスクを用いずに、一括に広範囲を露光すると共に、下層の露光パターンの位置と上層パターンを形成するための露光位置との位置ずれを、高速かつ高精度に補正し得る露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

The multi-beam exposing apparatus 10 is provided with a two-dimensional light detecting means 100 for simultaneously measuring, on the recording surface, position, shape, and amount of light of each optical beam irradiated from the means for selectively turning ON/OFF a plurality of pixels.例文帳に追加

マルチビーム露光装置１０に、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から照射された各光ビームの位置、形状及び光量を同時に、記録面上で測定する二次元的な光の検出手段１００を設ける。 - 特許庁

Then, each of the pattern RMp1-RMp4, RMs1, and RMs2 is illuminated with exposing lights, and projected images passing through the projecting optical system of the patterns are detected through openings on a reference board arranged on a wafer stage by a light-receiving sensor.例文帳に追加

そして、各パターンＲＭｐ１〜ＲＭｐ４、ＲＭｓ１、ＲＭｓ２を露光光により照明し、そのパターンの投影光学系を通過した投影像を、ウエハステージ上に配設された基準板上の開口部を介して受光センサで検出する。 - 特許庁

In the case of exposing the image information on the original paper to the photosensitive material with a light beam from the ultraviolet lamp 9 of the light source, the light beam transmitted through the original paper is received by a sensor 20, converted into an electrical signal and inputted in a controller 8.例文帳に追加

光源の紫外線ランプ９の光線により感光材に原稿用紙のイメ−ジ情報を露光する際に、センサ２０により原稿用紙を透過する光線を受光し、電気信号に変換して制御装置８に入力する。 - 特許庁

The body case 3 is provided with a terminal block opening portion 31 for exposing the terminal block 4, on the side face 30, and the terminal block 4 is mounted inside the body case 3 by a mounting member 5 composed of a metallic plate of noncombustible material.例文帳に追加

本体ケース３は、端子台４を露出させる端子台開口部３１が側面３０に形成され、端子台４は、不燃性材料である金属板で構成された取付部材５により、本体ケース３の内側に取り付けられる。 - 特許庁

A pattern forming method using the photosensitive resin composition can be carried out by a step of applying the composition on a substrate to be worked, a step of exposing the composition with a beam of ≤250 nm, a step of heating the same and a step of developing the same.例文帳に追加

この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法は、被加工基板上に前記組成物を塗布する工程、２５０ｎｍ以下の光線で露光する工程、加熱する工程、及び現像する工程によって行うことができる。 - 特許庁

To provide a reinforced complex pipe and its joining method involving no risk of a drop or dispersion of the pipe strength and capable of easily exposing the pipe end of a thermoplastic synthetic resin pipe certainly when FRP layers are exfoliated at joining of pipes with each other.例文帳に追加

管強度の低下やばらつきがなく、かつ管同士の接合に際しＦＲＰ層を剥離した時に、熱可塑性合成樹脂管の管端部を確実に容易に露出させることができる補強複合管及びその接合方法を提供する。 - 特許庁

The p-side electrode 36 is provided with a cut-out part 36a partially exposing the main light-emitting face 10 in a position of an angled part of the main light-emitting face 10 formed into a rectangular shape, and an exposed portion is thereby made to serve as the light-emitting face 11.例文帳に追加

このｐ側電極３６には、主発光面１０の一部を露出させる切欠部３６ａが矩形状に形成された主発光面１０の角部の位置に設けられていることで、露出部分を光出射面１１としている。 - 特許庁

In the image processing part 12, based on the resist data, the device is allowed to control exposing light quantity so as to make correction quantity of light beams with regard to the sub-scanning direction within 45% of the scanning pitch or in the range of 55% to 100%.例文帳に追加

画像処理部１２では、レジストデータに基づいて、光ビームの副走査方向に対する補正量を走査ピッチの４５％以内または走査ピッチの５５％以上でかつ１００％以内となるように光ビームの露光量を制御する。 - 特許庁

To obtain a rebound inhibitor having suppressing effect on pigmentation and suppressing a recoil phenomenon such as relapse or exacerbation of pigmentation such as spot, freckle when exposing to UV after stopping the use of the inhibitor, and to provide a skin care preparation for external use containing the same.例文帳に追加

色素沈着に対する抑制効果を有し、且つ、使用を止めた後、紫外線暴露した際にシミやソバカスの色素沈着が再発・悪化する反動現象を抑制するリバウンド抑制剤、並びにそれを含有する皮膚外用剤を提供する。 - 特許庁

The film reduces the possibility of contamination until the removable film is removed so as to permit the mounting of the weight to the rotating element by exposing the side of the tape opposite to the side to which the dispersion/arrangement type weight pieces are bonded.例文帳に追加

該フィルムは、上記分散配置式錘片が接着される側の逆となる該テープの側を露出して当該錘が上記回転要素に装着されるのを許容すべく該取外可能フィルムが除去されるまで、汚染の可能性を減少する。 - 特許庁

To realize a flatness simulation system for a mask substrate effective for solving the problem of lowering in the yield of products due to degradation in the flatness of the mask substrate by chucking the mask substrate to a mask stage of a water exposing device.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の平坦度シミュレーションシステムを実現すること。 - 特許庁

Furthermore, the detector element 12 is made longer than the detector element 13 by a dimension L, thereby partially exposing the signal read electrode 12C which is either of the signal read electrodes 12C, 13C from the signal read electrode 13C being the other electrode.例文帳に追加

また、検出器エレメント１２を検出器エレメント１３よりも寸法Ｌだけ長尺に形成することにより、信号読出電極１２Ｃ，１３Ｃのうち、一方の信号読出電極１２Ｃを他方の信号読出電極１３Ｃから部分的に露出させる。 - 特許庁

The exposure system comprises 6 mirrors and has the projection optical system for projecting and exposing images of a reticle pattern on a wafer, and also has a detection system for detecting a positional offset amount of the images during the projection and exposure.例文帳に追加

６枚のミラーから成り、レチクルのパターンの像をウエハ上に投影露光する投影光学系を有する露光装置であって、前記投影露光中に、前記像の位置ずれ量を検出する検出系を有することを特徴とする露光装置。 - 特許庁

The image forming apparatus which uses a digital image exposing device, uses an amorphous silicon drum as a photosensitive drum, and uses powder having a release agent inside as a toner is characterized in that the degree of aggregation of the toner is ≥30%.例文帳に追加

デジタル画像露光装置を用い、感光ドラムにアモルファスシリコンドラムを使用し、トナーとして、内部に離型剤を有する粉体を使用した画像形成装置において、前記トナーの凝集度を３０％以上としたことを特徴とする。 - 特許庁

A photodetector detects light from a laser diode (LD) for exposing and scanning a photosensitive drum and outputs a synchronization detection signal (DETP signal) for performing positioning in the main scanning direction of optical writing of an electrostatic latent image in the drum.例文帳に追加

光検出器は、感光体ドラムを露光走査するレーザダイオード（ＬＤ）の光を検出して、感光体ドラムへの静電潜像の光書込みの主走査方向における位置合わせを行なうための同期検知信号（ＤＥＴＰ信号）を出力する。 - 特許庁

This process is achieved, by depositing and then exposing the film for the barrier layer to oxygen plasma and heat- treating it or depositing the film for the barrier layer and then heat-treating it in the presence of oxygen.例文帳に追加

この工程は、バリア層のための膜を堆積させ、その後、減圧下において該膜を酸素プラズマ中にさらした後熱処理することにより、あるいは、バリア層のための膜を堆積させ、その後、酸素の存在下において熱処理することにより、達成される。 - 特許庁

Specifically, it becomes possible to preferentially remove the impurities and the highly pure silica raw material can be obtained by exposing the grain boundaries by pulverizing the silica raw material and by removing the grain boundaries with the acidic solution.例文帳に追加

つまり、ケイ石原料を粉砕することで結晶粒界を露出させた状態として、酸溶液にて結晶粒界を除去することで、不純物を優先的に除去することが可能になり、高純度のシリカ原料を得ることができる。 - 特許庁

Otherwise, the correlation between the spectral line width W in the line width threshold Thresu and a contrast loss CL computed from the true spectral waveform g(λ) of laser beam and the color convergence function of a semiconductor exposing device is preliminarily determined and stored in the storage part 41.例文帳に追加

または線幅閾値Thresuにおけるスペクトル線幅Ｗと、レーザ光の真のスペクトル波形ｇ（λ）及び半導体露光装置の色収差関数から演算されるコントラストロスＣＬと、の相関が予め求められ、記憶部４１に記憶される。 - 特許庁

An area having ability for initiating the polymerization is preferably formed by fixing the initiator on the whole surface of the substrate and exposing the surface in the pattern like form to deactivate ability of polymerization initiation of the initiator in the exposed area.例文帳に追加

重合開始能を有する領域の形成は、基板表面の全面にわたって開始剤を固定させ、それに画像様露光を行なって露光領域の開始剤の重合開始能を失活させることにより行なう態様が好ましい。 - 特許庁

To prevent a stray light from being generated around a light converged by each microlens of a microlens array without exerting any adverse influence on the optical performance of an image exposing device which uses a spatial optical modulating element and the microlens array in combination.例文帳に追加

空間光変調素子とマイクロレンズアレイとを組み合わせて用いる画像露光装置において、装置の光学性能に悪影響を与えずに、マイクロレンズアレイの各マイクロレンズで集光された光の周囲に迷光が生じることを防止する。 - 特許庁

Fine particles 5 are selectively arranged solely in an exposed area 3 or an unexposed area 4 by laminating the photosensitive silane coupling agent on the surface of a base board 1, exposing the photosensitive silane coupling agent layer 2 in a pattern-like form and generating carboxyl groups in the exposed area 3.例文帳に追加

基板１の表面に感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層２にパターン状に露光を行い、露光部３にカルボキシル基を発生させ、露光部３または未露光部４のみに選択的に微粒子５を配する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of preventing the generation of a warp of a microlens array, fixing a gap between a microlens and a substrate, and exposing a high accurate pattern, in the exposure device for moving the microlens array to the substrate.例文帳に追加

マイクロレンズアレイを基板に対して移動させる露光装置において、マイクロレンズアレイの撓みの発生を防止することができ、マイクロレンズと基板との間のギャップを一定にすることができ、高精度のパターンを露光することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

Thus, part of the surface of the semiconductor substrate 1 adjacent to the trench 9 is exposed, and thereafter when the trench 9 is buried by a silicon oxidation film 10, the silicon oxidation film 10 is formed even on a part exposing the surface of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

このため、トレンチ９に隣接する半導体基板１表面が一部露出し、この後トレンチ９をシリコン酸化膜１０により埋め込む際、この半導体基板１表面が露出する部分上にもシリコン酸化膜１０が形成される。 - 特許庁

Accordingly, after a silicon oxide film is formed on the SiC substrate using a plasma processing apparatus, the gate insulating film having excellent electrical characteristics can be obtained by exposing the formed silicon oxide film to radicals each containing a nitrogen atom to reform it.例文帳に追加

このため、プラズマ処理装置を用いて、ＳｉＣ基板上にシリコン酸化膜を形成した後、窒素原子を含むラジカルに、形成されたシリコン酸化膜を曝して改質を行うことにより、電気的特性の優れたゲート絶縁膜を得ることができた。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive planography printing plate having sufficient durability in printing without deteriorating the property of development sufficient even in the exposing condition where irradiation energy per unit area is small, having high productivity, and being particularly suitable for a drawing process using a laser beam.例文帳に追加

単位面積当たりの照射エネルギーが少ない露光条件においても現像性を損なうことなく充分な耐刷性を与え、高い生産性を有し、特にレーザー光による描画に適したネガ型感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

The sound path forming parts 10 extend long in the cross direction of a vehicle 2, and at least ones of both front and rear ends of the sound path forming parts 10 are an opening end 10b or 10c exposing itself near an upper corner in the car cabin.例文帳に追加

音道形成部１０は車両２の前後方向へ長く延びており、この音道形成部１０の前後両端の少なくとも一方が車室内の上方隅部近傍に露出する開口端１０ｂまたは１０ｃとなっている。 - 特許庁

A flow-through area 17 comprising a plurality of spot regions 14 is provided to the central part of a biochemical analyzing unit 10 and an opening 61 for exposing the whole surface of the flow-through area 17 to the outside is formed to the upper half part 51 of the biochemical analyzing unit 10.例文帳に追加

生化学解析用ユニット１０の中央には、複数のスポット領域１４からなるフロースルーエリア１７が設けられており、上半部５１には、このフロースルーエリア１７の全面を外部に露呈する開口６１が形成されている。 - 特許庁

The method for partially removing the functional film comprises the steps of forming the film by coating the surface of the base with a coating liquid containing an organic compound and curing the liquid, and then corona discharging or plasma exposing only the film removed part of the film, thereby decomposing and removing the film of the removed part.例文帳に追加

基板表面に有機化合物よりなる塗布液を塗布し硬化させて機能性被膜を形成したのち、該被膜の膜除去部のみにコロナ放電またはプラズマを暴露することにより膜除去部の機能性被膜を分解・除去する。 - 特許庁

The pinion gear 52 of the upper unit 3 turns with respect to the upper part of the lower unit 2 in the moving edge part to the exposing direction, the part of the upper unit 3 projecting from the back edge of the lower unit 2 turns downwardly, and the opening part 36 is widely opened.例文帳に追加

上部ユニット３のピニオンギヤ５２が露出方向への移動端部において、下部ユニット２の上部に対して回動し、下部ユニット２の後端から突出する上部ユニット３の部位が下向き回動し、開放部３６を大きく開放させる。 - 特許庁

In the image recording apparatus, an image is recorded by exposing a photosensitive material having a plurality of color developing layers deposited based on the dot image data of each color-separated dot original to the light from a plurality of light sources emitting light in different wavelengths.例文帳に追加

各色分解網原稿の網点画像データに基づいて、複数の発色層が積層してなる感光材料を、波長の異なる光を発する複数の各光源により露光することで画像を記録する画像記録装置である。 - 特許庁

It creates a transparent conductive film patternized by being developed into an alkali aqueous solution and by burning above 500°C after coating and drying the coating solution on the substrate, arranging a photo mask on the drying film, and irradiating an ultraviolet rays and exposing to the light.例文帳に追加

この塗布液を基板上に塗布・乾燥し、乾燥膜上にフォトマスクを設置し、紫外線を照射して露光した後、アルカリ水溶液にて現像して、５００℃以上で焼成することによって、パターン化された透明導電膜が作成される。 - 特許庁