「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(88ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a textile generating negative ions, exhibiting the effect of a filler to the maximum by exposing the filler having an effect on organisms such as the generation of minus ions to the surface of the textile.例文帳に追加

マイナスイオンの生成等の生体への効能効果を有する充填物を繊維製品表面に露出させることにより、かかる充填物の効果を最大限発揮させることのできるマイナスイオン等発生繊維製品を得ることを目的とする。 - 特許庁

To form a conductive hydrogen barrier film with excellent step coverage in a via hole for exposing an upper electrode of a ferroelectric capacitor constituting an FeRAM, and to suppress reduction of a ferroelectric film in burying it with a tungsten film by a CVD method.例文帳に追加

ＦｅＲＡＭを構成する強誘電体キャパシタの上部電極を露出するビアホールに、優れたステップカバレッジで導電性水素バリア膜を形成し、タングステン膜により、ＣＶＤ法で埋め込む際の強誘電体膜の還元を抑制する。 - 特許庁

The master disk for optical disks where a prescribed pattern 13 is annularly formed, is provided with a dummy pattern 14 formed by exposing areas other than the area formed with the prescribed pattern 13 concentrically with respect to the prescribed pattern 13.例文帳に追加

所定パターン１３が環状に形成されている光ディスク用原盤において、所定パターン１３が形成されている領域以外を、所定パターン１３と同心円状に露光することにより形成されるダミーパターン１４を備えている。 - 特許庁

The expanded resin layer is sandwiched between the paper layer 6 and 8, so that the expanded resin layer 7 can be satisfactorily expanded, and the container made of the expanded thermal insulating paper can be obtained without exposing the expanded resin layer outside.例文帳に追加

発泡樹脂層が紙層６、８にサンドイッチ状に挾まれているので、発泡樹脂層７を良好に発泡させることができ、且つ発泡樹脂層が表面に露見することがなく表面が平滑な発泡断熱紙製容器を得ることができる。 - 特許庁

This method of manufacturing a divided wavelength plate filter includes: a process of forming a material layer 12 serving as a divided wavelength plate 208 using photo polymerization monomer; and a process of exposing the photo polymerization monomer layer 12 to a predetermined division pattern with polarized light.例文帳に追加

分割波長板２０８となる材料層１２を光重合性モノマーによって形成する工程と、この光重合性モノマー層１２を所定の分割パターンに偏光露光する工程とを有する、分割波長板フィルターの製造方法。 - 特許庁

An interlayer insulation film having a source/drain contact hole exposing a part of the region of the semiconductor layer is positioned on the semiconductor layer apart from at least one edge getting across the gate electrode out of edges of the semiconductor layer.例文帳に追加

前記半導体層上に前記半導体層のエッジらのうち前記ゲート電極を横切る少なくとも一つのエッジから離隔して前記半導体層の一部の領域を露出させるソース/ドレインコンタクトホールを有する層間絶縁膜が位置する。 - 特許庁

Then, before actually exposing the pattern of a reticle R onto the wafer W, is the pattern of the reticle R is illuminated with an EUV beam EL to measure a latent image formed on the resist subjected to silylation with the atomic force microscope(AFM).例文帳に追加

そして、レチクルＲのパターンをウエハＷ上に本露光するに先立って、レチクルＲのパターンをＥＵＶ光ＥＬで照明することによってシリル化レジストに形成された潜像を、原子間力顕微鏡ＡＦＭで計測する構成とした。 - 特許庁

The objective cholesteric liquid crystal composition is characteristically produced by exposing the liquid crystal composition to the first beam in an image followed by polymerization and curing with the second beam.例文帳に追加

該液晶組成物を、第一の光により画像様に露光した後、第二の光により重合硬化する工程を少なくとも一工程含むコレステリック液晶カラーフィルタの製造方法により得られることを特徴とするコレステリック液晶カラーフィルタである。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, having satisfactory solubility to a solvent of sensitizer in use of light of wavelength 400-440 nm as exposing light, and providing sufficient sensitivity and sufficient resolution.例文帳に追加

露光光として波長４００〜４４０ｎｍの光を使用する場合において、増感剤の溶剤に対する溶解性が良好であり、且つ、十分な感度及び十分な解像度を得ることができる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A process for the resolution of a racemic mixture of nucleoside enantiomers of formula 1 (Y is H or F; R is an acyl) that includes the step of exposing the racemic mixture to an enzyme selected from the group consisting of swine hepatic esterase, swine pancreatic lipase and subtilisin.例文帳に追加

式：（式中、Ｙは水素又はフッ素であり、Ｒはアシル基である）のヌクレオシドエナンチオマーの分割方法であって、ブタ肝臓エステラーゼ、ブタ膵臓リパーゼおよびズブチリシンからなる群から選択した酵素を用いてヌクレオシドを処理することを含む方法。 - 特許庁

The PDP component is manufactured by forming a photosensitive layer or a resist layer containing specific alkali soluble resin and specific inorganic powder on a non-photosensitive layer containing specific alkali soluble resin and specific inorganic powder, and then exposing, developing and sintering it.例文帳に追加

特定のアルカリ可溶性樹脂と無機粉体とを含有する非感光性層の上に、特定のアルカリ可溶性樹脂と無機粉体とを含有する感光性層またはレジスト層を形成し、露光、現像、焼結処理を行ってＰＤＰ部材を製造する。 - 特許庁

The birefringence of the film or the sheet comprising the specific cyclic olefin addition polymer is reduced by exposing the film or the sheet to an atmosphere of a solvent (I) dissolving at 25°C the cyclic olefin addition polymer.例文帳に追加

特定の環状オレフィン系付加重合体を含むフィルムまたはシートであって、２５℃で該環状オレフィン系付加重合体を溶解する溶媒（Ｉ）の雰囲気下に該フィルムまたはシートを曝すことにより、フィルムまたはシートの複屈折を低減できる。 - 特許庁

Exposing a secondary electron emission material on the upper side in the region from the electron emission part to the high voltage side electrode 3, secondary electrons efficiently are emitted to the anode electrode side for improving electron emission efficiency.例文帳に追加

電子放出部から高電位側電極３にかけての領域の上面に２次電子放出材料を露出させるため、２次電子を効率よくアノード電極側に放出させることができ、電子放出効率を向上することができる。 - 特許庁

The method for producing silk fibroin powder comprises impregnating fibrous fibroin collected from silk protein preferably with an alkali aqueous solution, exposing the fibrous fibroin to superheated steam at 100-150°C to deteriorate strength and pulverizing the fibroin into powder.例文帳に追加

絹蛋白から分取された繊維状フィブロインを、好ましくはアルカリ水溶液を含浸させた後、１００〜１５０℃の過熱水蒸気に曝して強度劣化させた後、粉末状に粉砕することからなる絹フィブロイン粉末の製造方法とする。 - 特許庁

The method for forming the resist patterns includes selectively exposing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm and developing the resist film by using a developing agent for forming the resist patterns being aqueous solution containing an organic solvent.例文帳に追加

基板上に形成された、その膜厚が５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光するとともに、有機溶剤を含有する水溶液であるレジストパターン形成用現像液を用いて現像することを含むレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

In the exposure apparatus for exposing a circuit pattern on the original plate on the substrate under the vacuum environment, the optical beam scanning means is provided to scan the laser beam with the scanning optical system.例文帳に追加

真空環境下で原板上の回路パターンを基板上に露光する露光装置において、原板の近傍の空間に、レーザービームを走査光学系で走査することが可能な光ビーム走査手段を設けていることを特徴とする露光装置。 - 特許庁

The image forming method includes multi-exposing and developing a photosensitive composition comprising at least a polymerizable polymer, a photopolymerization initiator and a sensitizing dye which performs sensitization in a wavelength region of 380-1,300 nm.例文帳に追加

少なくとも重合性ポリマー、光重合開始剤、及び３８０ｎｍから１３００ｎｍの波長域において増感する増感色素を含有する感光性組成物を多重露光した後、現像処理することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

To manufacture a printing plate while preventing the deterioration of developability with the lapse of time by imagewise exposing a heat sensitive image forming material using an outer drum type plate setter with a specified IR laser as a light source for writing.例文帳に追加

感熱画像形成材料に、特定の赤外線レーザーを書き込み光源として備えるアウタードラム型のプレートセッターを用いて画像露光することにより、経時による現像性劣化を防ぐ印刷版の作製方法を提供すること。 - 特許庁

The method for removing silver comprises exposing the bacterium to a silver compound-containing liquid to bear the silver in the liquid on the bacterium to lower the concentration of the silver in the liquid.例文帳に追加

また、上記本発明の細菌を、銀化合物含有液と接触させ、該銀化合物含有液中の銀を前記細菌に担持させることにより該銀化合物含有液中の銀の濃度を低下させることを含む、銀の除去方法を提供した。 - 特許庁

FORMATTER DRIVING CLOCK GENERATION METHOD AND DEVICE, DRIVING CLOCK GENERATION DEVICE, MASTER OPTICAL DISK EXPOSING METHOD AND DEVICE, OPTICAL DISK DRIVING DEVICE, AND MASTER OPTICAL DISK AND INFORMATION RECORDING MEDIUM PRODUCED THEREBY例文帳に追加

フォーマッタ駆動クロック生成方法，フォーマッタ駆動クロック生成装置，駆動クロック生成装置，光ディスク原盤露光方法および光ディスク原盤露光装置と光ディスクドライブ装置並びにこれにより作成した光ディスク原盤と情報記録媒体 - 特許庁

This method for treating a semiconductor processing component includes exposing the semiconductor processing component to a halogen gas at an elevated temperature, oxidizing the semiconductor processing component to form an oxide layer, and removing the oxide layer.例文帳に追加

半導体加工用部品を処理する方法は、この半導体加工用部品を高温度においてハロゲン気体に曝露することと、酸化物層を形成するために半導体加工用部品を酸化させることと、この酸化物層を除去することとを含む。 - 特許庁

In this needle-like body manufacturing method, needle-like body division parts are formed by exposing a light curable resin solution using a photofabrication apparatus, and the needle-like body division parts are bonded outside the light curable resin solution.例文帳に追加

本発明の針状体製造方法は、光造型装置を用いて光硬化性樹脂溶液を露光することで針状体分割部位を形成し、該光硬化性樹脂溶液の外で、該針状体分割部位を接合することを特徴とする。 - 特許庁

In the portable electronic equipment, a liquid crystal display module 6 is installed inside a housing 2, and in the housing 2, a window for exposing the surface of the liquid crystal display module 6 is opened, and a screen panel 4 is installed, covering the window.例文帳に追加

本発明に係る携帯電子機器は、筐体２の内部に液晶表示モジュール６が設置され、筐体２には、液晶表示モジュール６の表面を露出させるための窓が開設されると共に、該窓を覆ってスクリーンパネル４が設置されている。 - 特許庁

The light emitting element comprises an insulating film 9 having an opening 9a for exposing at least the entire upper side of a ridge, and a p-type electrode 10 formed so as to contact the exposed upper side of the edge, without contacting the side face of the ridge.例文帳に追加

リッジ部の少なくとも上面の全域を露出させる開口部９ａを有する絶縁膜９と、リッジ部の側面には接触せずに、リッジ部の露出された上面に接触するように形成されたｐ型電極１０とを備える。 - 特許庁

The transparent luminescent bodies adhered with the luminescent pigments in part of a transparent main body are embedded into a planar main body by embedding the segments adhered with the luminescent pigments into the planar main body and exposing the segments not adhered with the luminescent pigments.例文帳に追加

板本体内に、透明な主体の一部に蓄光顔料を付着した透明蓄光体が、蓄光顔料の付着部分を板本体内に埋め込み、蓄光顔料が付着していない部分を露出して埋め込まれている構成とした。 - 特許庁

The pattern forming method which has the process step of previously forming the alignment markers on a first thick film in a first thick film forming process step and references the alignment markers in the exposing process step of a second thickness film.例文帳に追加

第１厚膜形成工程において、あらかじめ第１厚膜上にアライメントマーカーを形成する工程を有し、第２厚膜の露光工程において、前記アライメントマーカーを参照することを特徴とするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A calibration mode is set by a CAL.SET switch 302b, and in the case of setting this mode, the luminance ratio of a film plane to the image pickup surface is calculated by test-exposing an object whose luminance is a standard one, and the ratio is previously stored in a memory.例文帳に追加

ＣＡＬ．ＳＥＴスイッチ３０２ｂによりキャリブレーションモードが設定可能で、このモードでは標準的な明るさを有する被写体をテスト露光することによりフィルム面と撮像面との輝度比が算出され、予めメモリに記憶される。 - 特許庁

In this manufacturing method of the member for a display, a pattern obtained by exposing and developing two kinds of photosensitive paste containing the low- melting glass and the filler having an average particle diameter of 0.005-0.08 μm by a photolithography method is baked to form the barrier.例文帳に追加

また、低融点ガラス、平均粒子径が０．００５〜０．０８μｍのフィラーを含有する２種類の感光性ペーストをフォトリソグラフィ法によって露光、現像し、得られたパターンを焼成して隔壁を形成するディスプレイ用部材の製造方法である。 - 特許庁

In this mode, a front surface of the substrate after exposing is cleaned by cleaning liquid before removing the protective film, or the front surface of the substrate is cleaned by the cleaning liquid after removing the protective film and before performing the heating treatment of the substrate.例文帳に追加

この態様において、前記保護膜を除去する前に露光後の基板の表面を洗浄液により洗浄するか、あるいは前記保護膜を除去した後、基板を加熱処理する前に、基板の表面を洗浄液により洗浄する。 - 特許庁

The method of manufacturing is provided with a plurality of coating units each including a mask for exposing a part of the outer peripheral surface of the optical fiber 1 and covering the other part when the optical fiber is inserted and a spray for applying the organic resin or the photocatalyst on the optical fiber exposed from the mask.例文帳に追加

光ファイバを挿通した際に光ファイバの外周面の一部を露出させ、他部を覆うマスクと、該マスクから露出した光ファイバに有機樹脂又は光触媒をスプレー塗布するスプレーとを含むコーティングユニットを複数備えた製造装置。 - 特許庁

When the velocity of the fluid exceeds the predetermined flow velocity, the floating body rear part 12 side floats and a part of the water turbine 20 starts exposing on the water, and thereafter, as the flow velocity increases, the floating body rear part 12 side further floats, whereby an exposure part becomes larger.例文帳に追加

しかも、所定流速を超えると、浮体後部１２側が浮揚して水車２０の一部が水上に露出し始め、その後流速の増加に従ってさらに浮体後部１２側が浮揚して露出部分が大きくなるようにすることができる。 - 特許庁

To provide a method for exposing in which a lifetime of a pellicle is prolonged, by preventing the thickness of a pellicle film from being reduced due to deterioration, caused by a decomposition by irradiating with an exposure light in an exposure treatment using ultraviolet rays having a wavelength of 200 nm or shorter.例文帳に追加

２００ｎｍ以下の紫外光を用いた露光処理において、露光光照射による分解に起因する劣化によりペリクル膜の膜厚の減少が生じることを防止し、ペリクルの寿命を延命する露光方法を提供すること。 - 特許庁

In the insulating resin layer 8, an exposure hole 9 which mutually divides the negative and positive electrodes and exposing each partially is provided, and external terminals 21, 27 are formed at respective exposed sections 11, 71 by gold bumps, solder balls, and the like, before being cut into pieces.例文帳に追加

この絶縁樹脂層８には、陰極と陽極を相互に区分し、一部ずつ露出させる露出孔９を設け、露出した各部分１１，７１に金バンプや半田ボールなどで外部端子２１，２７を形成のうえ、個片に切断する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter has steps of arranging a coloring resin on a substrate and to form a coloring resin layer; of draw-exposing the coloring resin layer by using a laser beam and to expose it with a predetermined pattern; and to develop the coloring resin layer.例文帳に追加

着色樹脂を基体に設け着色樹脂層を形成する工程と、該着色樹脂層にレーザー光を用いて描画露光し、所定のパターンを感光させる工程と、該着色樹脂層を現像する工程とを有すること。 - 特許庁

The exposure apparatus 100 comprises a substrate stage WS and a projection optical system PO for projecting light from an original plate onto a substrate W, for exposing the substrate via a liquid filling a gap between an end surface ES of the projection optical system PO and the substrate.例文帳に追加

露光装置１００は、基板ステージＷＳと、原版からの光を基板Ｗに投影する投影光学系ＰＯとを有し、投影光学系ＰＯの最終面ＥＳと基板との間隙に満たされた液体を介して基板を露光する。 - 特許庁

The nozzle cover 40 covering the entire circumference of the nozzle plate 24 is provided with an opening 41 for exposing an nozzle array consisting of a plurality of nozzle holes 25 and a wiping space sufficiently wider than the wiping range W of the wiper blade is provided in the extending direction of the nozzle array.例文帳に追加

ノズルプレート２４の全周を覆うノズルカバー４０には、複数のノズル孔２５からなるノズル列を露出する開口部４１が形成され、ノズル列の延長方向にワイパーブレードの払拭範囲Ｗより広い充分なワイピング空間を有する。 - 特許庁

The vicinity of the center part of the gland leg portions 54 are received in channel portions exposing the base end sides of the contacts, and electrically connected with the contacts, and the gland base portion 51 is positioned between the shell member and a cable to be electrically connected with the shell member.例文帳に追加

そして、グランド脚部５４の中央部近傍がコンタクトの基端側が露出する溝部に受容されてコンタクトと電気的に接続されるとともに、グランド基部５１がシェル部材とケーブルとの間に位置してシェル部材と電気的に接続される。 - 特許庁

To obtain a base polymer for a resist capable of improving resistance to dryetching without deteriorating transparency and resolution, or the like, as advantages of acrylic resist materials, and suitably useful as the base polymer for the resist using an exposing light source with a short wave length light such as an ArF eximer laser.例文帳に追加

（ａ）アクリル酸誘導体及びメタクリル酸誘導体から選択されたモノマー単位と、（ｂ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する共重合体、並びにこれを含有することを特徴とするレジスト用ベースポリマー。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus whereby a luminous quantity of main light emission can be obtained with high accuracy on the basis of preliminary light emission of a flash even when adopting an imaging element comprising a plurality of pixels capable of carrying out exposing and reading operations in different timings.例文帳に追加

それぞれ異なるタイミングにより露光動作および読出動作が可能な複数の画素からなる撮像素子であっても、フラッシュの予備発光に基づく本発光の光量を高精度に求めることができる撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide organic coating compositions including antireflective coating compositions that can reduce reflection of exposing radiation from a substrate back into an overcoated photoresist layer and/or function as a planarizing or via-fill layer.例文帳に追加

基体からオーバーコートされたフォトレジスト層に戻る照射放射線の反射を減少させることができ、および／または平坦化もしくはビア充填層として機能し得る反射防止コーティング組成物を含む、有機コーティング組成物を提供する。 - 特許庁

The photographic processing device having an image exposure section for forming photographic prints by exposing the images to paper is so constituted that the exposure of the results of the order totalization of the photographic prints for one order as order totalization prints 30 to the paper is made possible.例文帳に追加

ペーパーに画像を露光して写真プリントを作成する画像露光部を備えた写真処理装置において、画像露光部にて、１オーダー分の写真プリントのオーダー集計結果をオーダー集計プリント３０としてペーパーに露光可能に構成した。 - 特許庁

While exposing an exposure region, a non-exposure region can be shielded from light regardless to the number of exposure regions by moving blind members 20, 30 into an upstream side crossing the exposure light EL.例文帳に追加

露光領域の露光中に、その露光用の光ＥＬに対してブラインド部材２０、３０を横切って上流側へ移動させることにより、露光領域の数に関わらず、ブラインド部材２０、３０を用いて非露光領域の遮光を行うことができる。 - 特許庁

This process cartridge is provided with a first frame (a) which comprises an electrophotographic photosensitive drum, a developing means and a transferring opening and a second frame (b) which comprises an electrification roller, a developer storing part and an exposing opening and is separably connected with the first frame.例文帳に追加

ａ、電子写真感光体ドラムと、現像手段と、転写開口と、を有する第一のフレームと、ｂ、帯電ローラと、現像剤収納部と、露光開口と、を有して、前記第一のフレームと分離可能に結合している第二のフレームとを有する。 - 特許庁

To provide a bush cutter effectively preventing cut weeds from winding on the bush cutter by making the cut weeds having a high height not enter into the gap between a rotor and casing of a main body, and also by without exposing the gap from a side surface view.例文帳に追加

刈り取られた背高の刈り草が回転体と本体部ケーシングとの隙間に入り込まないようにすると共に、側面視したときに前記隙間を露出させないことにより、刈払機への巻き付きを有効に防ぐことができる刈払機を提供する。 - 特許庁

In a longitudinal end of the deep groove 22 originally to be used for a purpose other than joining of the frames, self-tapping screws 33, 14 are screwed together with the screw part 22a from a groove opening face side and an end face 2a side of the first frame exposing the deep groove 22.例文帳に追加

本来フレームの結合以外の目的に使用される深溝２２の長手方向の端部において、溝開口面側及び深溝２２が露出する第１フレームの端面２ａ側からタッピングねじ３３，１４をねじ螺合部２２ａに螺合させる。 - 特許庁