「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(89ページ目) - Weblio英語例文検索

To firstly provide a production method, with which a multi-light source forming reflection mirror having a reflection plane shape as designed can be produced with high yield, and further to secondly provide a semiconductor exposing device, with which throughput is more improved.例文帳に追加

設計通りの反射面形状を有する多光源形成反射鏡を歩留まり良く製造できる製造方法を提供することを第１の目的にし、更には、よりスループットの高い半導体露光装置を得ることを第２の目的にしている。 - 特許庁

To provide an exposing method and a photographing system capable of preventing the generation of a color balance deviation due to under exposure even in photographing under a light source having a trouble of compatibility with the spectral sensitivity distribution of a photometric system such as room light.例文帳に追加

室内光のような、測光系の分光感度分布との適合性に問題を有する光源下での撮影においても、アンダー露光に起因する、色のバランスのずれの発生を防止可能とする露光方法および撮影システムを提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the foil comprises the steps of coating the side having releasability of the support with an active ray curable resin layer, then forming a cured layer by exposing with an active ray, and then sequentially providing an intermediate layer and an adhesive layer.例文帳に追加

転写箔製造方法は、離型性支持体の離型性を有する側に、活性光線硬化層塗布後、活性光線により露光を行い硬化層を形成し、その後中間層、接着層を順次設けて製造することができる。 - 特許庁

The optical element 100 is provided with: a multilayer film 103 for reflecting, for example, extreme ultraviolet light being exposing light; and a reflection adjustment layer 105 which is arranged on the outermost surface layer of the multilayer film 103 and used for adjusting the reflection characteristics of the optical element 100.例文帳に追加

光学素子１００は、露光光である例えば極端紫外線を反射する多層膜１０３と、多層膜１０３の最表層に設けられて光学素子１００の反射特性を調整する反射調整層１０５とを備える。 - 特許庁

After the entire part is covered with an insulating film 22, the surface of the insulating film 22 is polished until both of upper junctures 20a and the coil junctures 21s are exposed, by which only the coil junctures 21s may be exposed without exposing the thin film coils 21.例文帳に追加

全体を絶縁膜２２で覆ったのち、上部接続部２０ａおよびコイル接続部２１ｓの双方が露出するまで絶縁膜２２の表面を研磨することにより、薄膜コイル２１は露出させずに、コイル接続部２１ｓのみを露出させることができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a barrier rib by exposing, developing and burning a photo-setting material, which may produce a barrier rib of large size and various cross sectional shapes including trapezoid.例文帳に追加

光硬化性隔壁材を使用して露光・現像・焼成法によって隔壁を形成する方法において、できるだけ少ない露光回数において、隔壁の断面形状をできるだけ台形を含む種々の形状にすることが可能な方法を提供することである。 - 特許庁

On circumferential wall surfaces 1a3, 1a4 of the pocket 1a, a metal portion 1B is in the resin portion 1A, the surfaces 1A1, 1A2 exposing in a pocket 1a of the resin portion 1A serve as guiding surfaces for guiding a rolling surface 2c of the roller 2.例文帳に追加

一方、ポケット１ａの円周方向壁面１ａ３及び１ａ４において、金属部分１Ｂは樹脂部分１Ａの内部にあり、樹脂部分１Ａのポケット１ａ内に露出した面１Ａ１、１Ａ２が、ころ２の転動面２ｃを案内する案内面となる。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of reducing the time required to carry and position a substrate material by moving and exposing in steps a wide strip-type film substrate material coated with a photoresist and capable of manufacturing an inexpensive semiconductor mounting board or the like.例文帳に追加

感光性レジストが塗布された幅広の帯状フィルム基板材料をステップ移動させて露光することにより、基板材料の搬送、位置決めに要する時間を短縮し、安価な半導体実装基板の製造等を可能にする露光装置を提供する。 - 特許庁

The seed layer is patterned, such as by etching, and the growth of at least one zinc-oxide nanostructure is induced substantially over the patterned seed layer by, for example, exposing the patterned seed layer to zinc vapor in the presence of a trace amount of oxygen.例文帳に追加

エッチングなどによりシード層をパターニングし、例えば微量の酸素存在下における亜鉛蒸気に、パターニングされたシード層をさらすことによって、実質的に、パターニングされたシード層の上において、少なくとも１つの酸化亜鉛のナノ構造の成長が引き起こされる。 - 特許庁

When the resist patterns 6 are formed by exposing the resist layer 5 with the electron beam and developing the same, the influence of the scattering of the electron beam that the resist layer receives when the layer is irradiated with the electron beam is lessened by the low scattering layer 3 and the fine resist patterns 6 are formed on the resist layer 5.例文帳に追加

レジスト層５を電子ビームで露光し現像してレジストパターン６を形成するとき、電子ビームを照射したときのレジスト層が受ける電子ビームの散乱の影響を低散乱層３で小さくして、レジスト層５に微細なレジストパターン６を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color cathode ray tube and a high quality fluorescent screen thereof capable of preventing charge-up of discharged electrons in exposing by, for example, an electron beam exposure method in using a photosensitive film without conductivity.例文帳に追加

超高精細度のカラー陰極線管の蛍光面を作製する際、蛍光体層を形成すべき位置にフォトレジストによるストライプを形成するために、電子ビームにより感光材を露光させるが、露光の際の電荷チャージアップを防止し、ストライプの品質を向上させる。 - 特許庁

An original plate 12 is cleaned, on the way to carry the substrate 11 into a exposing part 21, by a cleaning roller 16 mounted on a carry-in carrier 14 and the substrate 11 is cleaned by bringing the cleaning roller 16 into contact with the substrate 11 on the way to return.例文帳に追加

基板１１を露光部２１に搬入するときの往路において、搬入キャリア１４に設けられた除塵ローラ１６によって、原板１２の除塵を行い、復路において、除塵ローラ１６を基板１１に接触させて基板１１の除塵を行う。 - 特許庁

To precisely correct an output quantity of light of each light emitting element of an exposure light source equipped with a plurality of the light emitting elements without using an expensive image density measuring device, and to prevent generation of exposure irregularities at the time of exposing a photosensitive material by precisely correcting an output quantity of light of an exposure light source.例文帳に追加

高価な画像濃度測定装置を用いることなく、複数の発光素子を備えた露光光源の各発光素子の出力光量を精度良く補正することができる光量補正装置及び光量補正方法を提供する。 - 特許庁

The indicator 4 is pulled out and one end of a sliding member 11 exposing from an opening formed at an lower edge of the indicator 4 is brought into contact with a flat surface supporting the camera body 3 to thereby support the camera body 3 with the indicator 4 from the rear face side.例文帳に追加

表示器４を引き出し、カメラボディ３を支持している平坦面に、表示器４の下端に形成された開口から露出しているスライド部材１１の一端を当接させることによって、カメラボディ３が表示器４によって背面側から支えられる。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step for fixing the covering member from above, while releasing paper is provided on one side of the double-coated adhesive layer, and a step for peeling the releasing paper and exposing an adhesive surface and prevents the foreign matters from adhering to the light-receiving surface during manufacturing steps.例文帳に追加

また、前記両面粘着剤層の一方に離型紙を備えたまま閉塞部材を上から固定する工程と、離型紙を剥がし粘着面を露出させる工程を有し、製造工程中に受光面に異物が付着するのを防止する。 - 特許庁

The exposure method comprises: making a beam from a light source scan an exposure object via an optical element LG; and exposing a pattern PA1 whose region is enlarged on the exposure object in a direction approximately perpendicular to the scanning direction X, via the optical element on the exposure object.例文帳に追加

この露光方法は、光源からの光を光学素子ＬＧを介して走査するとともに、光学素子を介することでその走査方向Ｘと略直交する方向に被露光物上で領域が拡大したパターンＰＡ１を被露光物上に露光する。 - 特許庁

This image forming device includes an image carrier for carrying an image, an exposure means for drawing a scanning line on the image carrier, by exposing the image carrier according to image data, and at least two detection means for detecting a shift amount of an exposure position by the exposure means.例文帳に追加

画像形成装置は、画像を担持する像担持体と、画像データに応じて前記像担持体を露光することで像担持体上に走査線を描く露光手段と、露光手段による露光位置のずれ量を検知するための少なくとも２つの検知手段とを含む。 - 特許庁

The mask drive 14 is constituted to continuously change of the mask stage 4 in the moving direction in the rotating operation of the mask stage 4, and to move in the straight the mask stage at the location where the photomask 5 is irradiated with the exposing light.例文帳に追加

マスクステージ４の回転運動において、マスクステージ４の移動方向の変化を連続的とするように、かつフォトマスク５に露光光が照射される位置においてマスクステージ４を直線状に移動させるようにマスク用駆動装置１４は構成されている。 - 特許庁

When the left side cover 11 and the right side cover 12 are oppositely arranged, a space part 16 capable of storing the engine 40 is formed, and an inspection opening part 22 capable of exposing a spark plug installed in the engine 40, an oil gauge and an air cleaner 72 is formed.例文帳に追加

左サイドカバー１１及び右サイドカバー１２を対向配置すると、エンジン４０等を収納可能な空間部１６を形成し、且つエンジン４０に取り付けられた点火プラグ、オイルゲージ及びエアクリーナ７２を露出可能な点検用開口部２２を形成する。 - 特許庁

On the other hand, during heating cooking by microwaves, the damper 68 uses the shield plate for exposing the detection face of the humidity sensor 73 at the same time when opening the second exhaust passage, and then the humidity sensor 73 detects humidity based on vapor from a heated object.例文帳に追加

一方、マイクロ波による加熱調理時には、ダンパ６８で上記第２排気通路を開放すると同時に上記遮蔽板で湿度センサ７３の検出面を露出させて、湿度センサ７３によって上記被加熱物からの蒸気に基づく湿度を検出する。 - 特許庁

To provide a method for producing a fluoride single crystal which is useful for obtaining a lens material for a photolithography device (stepper) used for pattern exposing at the time of the production of a semiconductor or a vacuum ultra-violet transmissive material used as a window material or the like for various excimer laser systems.例文帳に追加

半導体製造時のパターン露光に使用する光リソグラフィー装置（ステッパー）用のレンズ材料や、各種エキシマレーザー装置用窓材などに使用する真空紫外光透過材料を得るためのフッ化物単結晶の製造法を提供する。 - 特許庁

The miniaturization of a belt photoreceptor size, the approximate shape unification of developing, exposing and electrostatic charging means, and the size and cost reduction over the entire part of the apparatus, are realized without impairing image quality etc., by arranging EH developing means in superposition by using the belt photoreceptor.例文帳に追加

ベルト感光体を用いてＥＨ現像手段を重畳的に配置することにより、ベルト感光体サイズの小型化、現像、露光、帯電手段の略共通形状化、そして装置全体の小型低コスト化が、画像品質などを損なうことなく実現できる。 - 特許庁

In an opening forming step, a portion of the lowermost resin insulation layer 33 directly above the clearance between the electronic component 101 and the core substrate 11 is removed to form an opening for exposing part of a core substrate major surface side conductor 51 and a component major surface side electrode 111.例文帳に追加

開口部形成工程では、最下樹脂絶縁層３３における電子部品１０１とコア基板１１との隙間の直上位置を除去し、コア基板主面側導体５１及び部品主面側電極１１１の一部を露出させる開口部を形成する。 - 特許庁

When the expected size of the 1st layout data of each arrangement are at the time of finishing after manufacturing it is included within an allowable error range of a reference value in a step ST03, 1st OPC mask data in the allowable area are defined as exposing mask data.例文帳に追加

工程ＳＴ０３において、各配置領域に対して、第１のレイアウトデータの製造後の仕上がり時の期待寸法が規準値の許容誤差範囲に収まる場合には、許容内領域として第１のＯＰＣマスクデータを露光用のマスクデータとして確定する。 - 特許庁

To provide a proximity exposing device and a gap measuring method therefor which automatically measure the height of the upper surface of a substrate and the height of the lower surface of a mask, and can accurately obtain a gap distribution between the substrate and the mask without being affected by skill of an operator.例文帳に追加

自動的に基板上面の高さとマスク下面の高さとを測定して、基板とマスクとのギャップ分布を作業者のスキルに影響されることなく、精度よく求めることができる近接露光装置及びそのギャップ測定方法を提供する。 - 特許庁

To prevent color unevenness due to fluctuation of the surface area of a part to be colored, in a manufacturing method for a color filter wherein a colored part is formed by applying ink to the part to be colored which is formed by pattern-exposing a photosensitive ink reception layer to color the part to be colored.例文帳に追加

感光性のインク受容層をパターン露光して形成した被着色部にインクを付与して着色し、着色部を形成するカラーフィルタの製造方法において、上記被着色部の面積のバラツキによる着色ムラの発生を防止する。 - 特許庁

Since the silicon oxide film 40, the silicon film 60 and the silicon oxide film 70, are successively formed without exposing them to the atmosphere, the amount of impurity which may be stuck to interfaces between the films 40, 60, 70 during the manufacturing process of the films is reduced and the density of the interface levels is reduced.例文帳に追加

このように、酸化シリコン膜４０、シリコン膜６０および酸化シリコン膜７０を大気に晒すことなく連続して成膜するので、製造プロセス時にそれらの界面に付着する不純物が少なくなり、界面準位の密度が低くなる。 - 特許庁

A method for measuring and controlling the temperature comprises the steps of exposing a base of a support member 4 for supporting the material 1 to be measured in the vacuum container 5 out of the vessel, and measuring the temperature of the taken-out material, transferred, through the member by a sound measuring unit 6 mounted at the base.例文帳に追加

真空容器５内の被計測物１を支持する支持部材４の基部が真空容器の外部に露出するようにし、この基部に取り付けられた測音器６によって支持部材を伝導して取り出された被計測物の温度を計測する。 - 特許庁

This automatic grain metering machine is provided with a cover member 40 for covering a mechanism for opening or closing an automatic shutter 10 and a mechanism for retaining in an open state as one portion of the outer wall of the machine body, and the cover member 40 is provided with an opening part 41 for exposing a delivery port 9a to the outside.例文帳に追加

自動シャッタ１０を開閉する機構および開状態に保持する機構を覆うカバー部材４０を、機本体の外壁の一部として有し、該カバー部材４０に前記送出口９ａを外部へ露出させる開口部４１を設けた。 - 特許庁

To provide an anti-skid floor sheet which has anti-skid particles unevenly dispersed on a surface layer, and exerts an excellent anti-skid performance by exposing the anti-skid particles on a front surface of the surface layer in spite of a small content of the anti-skid particles, and to provide a method of manufacturing the anti-skid floor sheet.例文帳に追加

防滑粒子が表面層に不均一に分散し、防滑粒子の含有量が少ないにもかかわらず、防滑粒子が表面層の表面に露出して防滑性を発揮する防滑床シートと、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a hydrogen-permeable membrane module, which is characterized in that the anxiety of a gas leak at its bonded part is eliminated, without using an inorganic adhesive, without exposing the hydrogen-permeable membrane module to a soldering temperature and requiring twice labor apprehended in preceding technique, and its manufacturing method.例文帳に追加

水素透過膜をろう付け温度にまで曝すことなく、また、先行技術で懸念される二度手間をなくし且つ無機質接着剤を使用せずに、接着部分でのガスリークについての不安を解消してなる水素透過膜モジュール及びその製造方法を得る。 - 特許庁

Consequently, the exposing action of the PD 219 can be started in the course of successively reading out signal charges of the pixel line from the FD 216 line by line.例文帳に追加

これにより、ＰＤ２１９の信号電荷を転送Ｔｒ２１１と排出Ｔｒ２１５の両方から完全転送できるようにし、ＦＤ２１６から信号電荷を画素行単位で順次読み出す動作において、その読み出し途中からＰＤ２１９の露光動作を開始する。 - 特許庁

In the corona discharge treatment method by exposing the surface of a plastic film to corona discharge while bringing the plastic film into contact with a roll having a dielectric material layer on its surface, the surface potential of the above dielectric material layer is controlled.例文帳に追加

プラスチックフィルムを、表面に誘電体層を有するロールと接触させながら、前記プラスチックフィルム表面にコロナ放電を暴露するコロナ放電処理方法であって、前記誘電体層の表面電位を調整することを特徴とするコロナ放電処理方法。 - 特許庁

The skin bleaching composition contains a plant extract selected from those of asparagus, black cohosh or their mixture, wherein the extract is obtained by sequentially exposing the plant or its part to two or more solvents having varying solvent strengths.例文帳に追加

本発明の皮膚美白組成物は、アスパラガス、ブラック・コホッシュ、又はこれらの混合物から選択する植物の抽出物を含み、該抽出物は、該植物又はその部分を、溶媒強度を異にする２又はそれより多い溶媒に順次曝露させることによって得られる。 - 特許庁

The liquid crystal display element is manufactured by holding a composition containing the nematic liquid crystal, vinylether acrylate and another monomer (preferably acrylate) in a homogeneously dissolved state between a pair of the substrates with the electrodes attached thereon, of which at least one is the transparent electrode and exposing it.例文帳に追加

ネマチック液晶、ビニルエーテルアクリレートと他のモノマー（好ましくはアクリレート）を含有する組成物を均一に溶解した状態で、少なくとも一方が透明電極を備える一対の電極付基板間に保持して光露光することによって製造できる。 - 特許庁

An insulating film 12 of silicon oxide having thickness of about 1 μm is formed on the semiconductor substrate 10 and a p-side electrode 13 of aluminum is formed on the insulating film 12 through an opening for exposing the p-type region 11.例文帳に追加

半導体基板１０上には、膜厚が１μｍ程度の酸化シリコンからなる絶縁膜１２が形成されており、絶縁膜１２上にはｐ型領域１１を露出する開口部を介してアルミニウムからなるｐ側電極１３が形成されている。 - 特許庁

To provide an optical apparatus equipped with a height adjusting device for a robust object, wherein the high accuracy required for parallelism in the longitudinal direction of an area to be optically processed is ensured when exposing or reading a predetermined area.例文帳に追加

所定のエリアに対して露光又は読み取り処理をする際、光学的に処理を行うエリアの長手方向の平行度で要求される高精度の要求に答えることができる、ロバストな被処理物の高さ調整装置を具備する光学装置を提供する。 - 特許庁

The method comprises exposing a metal halide compound surface 5 such as a copper halide, to a photon comprising ambient, such as a halogen comprising plasma, to initiate formation of the at least one metal comprising elongated nanostructure 6, such as elongated metallic nanowires and nanorods.例文帳に追加

ハロゲン化銅化合物等のハロゲン化金属化合物表面５をハロゲン含有プラズマ等の光子含有雰囲気に晒し、少なくとも１つの細長い金属ナノワイヤ（ＮＷ）、金属ナノロッド等々の金属含有ナノ構造６の形成を開始する工程を含む。 - 特許庁

The microfabrication method has a step for forming an antireflection film 21 comprising DLC(diamond-like carbon) on a base film, a step for coating the top of the antireflection film 22 with a photoresist film 23 and a step for exposing and developing the photoresist film 23.例文帳に追加

本発明に係る微細加工方法は、下地膜上にＤＬＣからなる反射防止膜２１を成膜する工程と、この反射防止膜２２上にフォトレジスト膜２３を塗布する工程と、このフォトレジスト膜２３を露光、現像する工程と、を具備するものである。 - 特許庁

The multiple projections 8 made of silicon oxide are formed on a dielectric 4 of a part for protectively coating the discharge electrode 2 by exposing the silicone atmosphere introduced from the air feed port 6 to the silent discharge until it reaches an air outlet 7.例文帳に追加

そして、エア供給口６から導入されたシリコーン雰囲気がエア排出口７に達するまでの間、無声放電下に曝されることで、放電電極２を保護コーティングする部分の誘電体４上に、シリコン酸化物による複数の突起８が形成される。 - 特許庁

The battery pack includes a core pack equipped with a protection circuit member attached to a bare cell, a metal material housing joining to the core pack and exposing the protection circuit member outside, and resin covering the protection circuit member exposed from the metal material housing.例文帳に追加

本発明は、ベアセルに取り付けられた保護回路部材を備えたコアパックと、コアパックに結合すると共に、保護回路部材を外部に露出させる金属材ケースと、金属材ケースから露出した保護回路部材を覆いかぶせる樹脂と、を含むバッテリーパックが開示される。 - 特許庁

To provide a monitoring image pickup device for imaging a plurality of objects existing at different positions in a screen with different luminance by separating those objects with different exposing time, and for individually outputting those subjects as video image signals with proper exposure.例文帳に追加

画面内の異なる位置に存在する輝度の異なる複数の被写体を、それぞれ異なる露光時間で分離して撮像し、前記複数の被写体像を、それぞれ個別に、適正な露光の映像信号として出力できる監視用撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a development method by which high development characteristics are obtained in a method for engraving a planographic plate by exposing an image on an original planographic plate being heat mode recordable based on a laser beam by the laser beam mad developing the plate within 120 seconds.例文帳に追加

レーザー光によるヒートモード記録可能な平版印刷版原版をレーザー光による画像露光後、１２０秒以内に現像処理を行い平版印刷版を製版する方法において、高い現像性を示す現像処理方法を提供すること。 - 特許庁

The charge trapping characteristic of the high-k dielectric can be further improved by exposing the high-k dielectric layer (22) to a treatment process such as plasma exposure using excited state oxygen (e.g. oxygen plasma) atmosphere.例文帳に追加

ｈｉｇｈ−ｋ誘電体の電荷トラッピング特性は、ｈｉｇｈ−ｋ誘電体層（２２）を、励起状態の酸素（たとえば、酸素プラズマ）環境を用いて、プラズマ照射のような処置プロセスにｈｉｇｈ−ｋ誘電体層（２２）を曝すことによりさらに向上し得る。 - 特許庁

A through-opening part 77 reaching an interconnection formed from the upper layer of the semiconductor wafer 31 side to the lowermost layer semiconductor wafer 45 is formed, and exposing the interconnection formed on the lowermost layer semiconductor wafer 45 forms an electrode pad part 78.例文帳に追加

また、上層の半導体ウェハ３１側から最下層の半導体ウェハ４５に形成された配線に達する貫通開口部７７を形成し、最下層の半導体ウェハ４５に形成された配線を露出させることにより電極パッド部７８を形成する。 - 特許庁