1153万例文収録!

「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(81ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Exposingの意味・解説 > Exposingに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

Exposingを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 6240



例文

In the Cu-Sn alloy covering layer, an exposing area rate of the material surface is 3 to 75%, the average thickness is 0.1 to 3.0 μm, also, the Cu content is 20 to 70at%, and the average thickness of the Sn covering layer is 0.2 to 5.0 μm.例文帳に追加

前記Cu−Sn合金被覆層の材料表面露出面積率が3〜75%、平均の厚さが0.1〜3.0μm、かつCu含有量が20〜70at%、Sn被覆層の平均の厚さが0.2〜5.0μmである。 - 特許庁

To provide an electric heating unit capable of exposing the surface of a heating element to the outside of a heat insulating main body to prevent the overheated heating element without reducing the efficiency and easy to manufacture at a low cost.例文帳に追加

加熱効率を低下させることなく、しかも発熱体の過熱を防止しうるように、発熱体の表面を断熱主体の外に露出させることができ、さらに製造が容易でかつ安価な電気加熱ユニットを提供する。 - 特許庁

The probe 2 is inserted removably into the probe insertion hole 40 of the protective sleeve 4 and surrounded by the inner wall face 41 of the protective sleeve 4 while exposing the forward end part of the heat resistant tube 21 and the probe unit 1 is used under that state.例文帳に追加

プローブ2を保護スリーブ4のプローブ挿通孔40に離脱可能に挿通し、耐熱管21の先端部を露出させつつプローブ2を保護スリーブ4の内壁面41で包囲する構成とし、この状態で使用する。 - 特許庁

With respect to image data for the one page forming the latent image by exposing a photocrecepton drum, the device is let thin the image in a specified portion, to a portion of the developing sleeve one round in the developing device developing the above latent image from the image area leading end.例文帳に追加

感光ドラムを露光して潜像を形成する1ページ分の画像データに対し、画像領域先端から該潜像を現像する現像装置の現像スリーブ1周分の長さだけ、画像を所定の割合間引くようにした。 - 特許庁

例文

To provide an electric charge beam exposing method, and a method for manufacturing a semiconductor device using the beam, wherein a predetermined fine pattern is transferred on the entire face of a substrate without causing reduction of an exposure positional accuracy or an occurrence of particle.例文帳に追加

露光位置精度の低下やパーティクルの発生を伴わずに、基板の全面に所定の微細パターンを転写することのできる荷電粒子ビーム露光方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁


例文

The image forming system includes the image forming apparatus, in which the photoreceptor 101 is installed and an image obtained by electrifying, exposing and developing the photoreceptor is transferred to a recording material 106, an information storage device and a specifying device.例文帳に追加

画像形成システムは、感光体101が設置され、該感光体を帯電、露光、現像して得られる画像を記録材106に転写する画像形成装置であって、情報格納装置と、特定装置と、を有している。 - 特許庁

An inkjet printer 1 includes the waste liquid unit 21 and a back unit 16 on the back side of the printer so that each units are detachable, the waste liquid unit storing ink left from a recording head, the back unit opening and closing an opening for exposing a sheet conveyance path.例文帳に追加

インクジェットプリンター1は、装置背面に、記録ヘッドから打ち捨てられたインクを貯留する廃液ユニット21と、用紙搬送路を露呈させる為の開口を開閉する背面ユニット16と、をそれぞれ着脱可能に備えている。 - 特許庁

To provide a top cover structure of a coming-in/out type fence pole constituted by finishing an upper face of a top cover into a flat state without exposing the head of a screw to a top cover part appearing on the surface of the ground and attaching or detaching the top cover part as required.例文帳に追加

地表に現れる上蓋部分にビスの頭を露出させずに、上蓋上面を平坦に仕上げ、必要に応じて上蓋部分も着脱し得るようにした出没式柵柱の上蓋構造を提供する。 - 特許庁

Contact exposure is carried out by stacking and mounting a work W and a mask M on a stage 1, collimating light from a light source 2 by using an optical system 3 and exposing the work W by irradiating the work W with the light through the mask M.例文帳に追加

ワークWとマスクMとを重ね合わせ、ステージ1上に載置し、光源2からの光を光学系3により平行光にし、マスクMを通してワークWに照射してワークWを露光するコンタクト露光を行う。 - 特許庁

例文

To provide an exposure evaluation mask capable of highly accurately acquiring how much items derived from a device affect thereon out of causes of exposure unevenness in an exposure device exposing using the mask; and to provide an exposure evaluation method.例文帳に追加

マスクを使って露光する露光装置において、露光ムラの発生原因のうち、装置に起因する項目がどの程度影響しているかを精度良く把握することができる露光評価用マスクおよび露光評価方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an image recording method and apparatus capable of shortening exposure time, improving productivity of printing plates and improving reliability of the apparatus as well by improving a sensitivity of a PS plate when exposing the PS plate.例文帳に追加

PS版を露光するに際し、PS版の感度を向上することにより、露光時間を短縮して、印刷版の生産性を向上することができ、かつ、装置の信頼性も向上できる画像記録方法および装置を提供する。 - 特許庁

The method further comprises steps of then setting an energy density of a second UV laser beam to a value lower than the decomposing energy threshold value of the conductor layer and higher than the decomposing energy threshold value of an insulating layer, working the residual insulating layer, and exposing an object conductor layer.例文帳に追加

次に、第2のUVレーザ光のエネルギ密度を、導体層の分解エネルギしきい値よりも低く、絶縁層の分解エネルギしきい値よりも高いエネルギ密度にして残った絶縁層を加工し、目的の導体層を露出させる。 - 特許庁

To provide a mask which can increase the speed of lithography processing by making it possible to perform double-exposure operation using a combination of different phase shit methods without replacing a mask, and its manufacturing method and exposing device.例文帳に追加

マスクを取り替えることなく異なる位相シフト法を組み合わせた2重露光操作を行うことができ、リソグラフィー処理の速度を向上させることができるマスクおよびその製造方法並びに露光方法を提供する。 - 特許庁

Then, the periphery of the winding part 11 is covered with a resin, and the first substrate 6b is cut for each of the winding parts 11 of the wires, so as to form terminal electrodes 16 and 18 in a manner that the cut face of the wires 10 exposing from the cut face may be covered.例文帳に追加

その後に、巻回部11の周囲を、樹脂で覆い、ワイヤの巻回部11毎に、第1基板6bを切断し、切断面から露出するワイヤ10の切断面を覆うように端子電極16,18を形成する。 - 特許庁

To provide an extra slit that can absorb deformation of a slit due to a wrinkle produced by welded strain or the like, can be formed more simply than the formation of the slit and has an irradiation width smaller than the width for exposing the phosphor screen of a cathode-ray tube.例文帳に追加

溶接歪み等によって発生したしわによるスリットの変形を吸収することができ、さらに、スリットの形成よりも簡単に、且つブラウン管の蛍光面を露光する幅よりも小さい照射幅のエキストラスリットを得る。 - 特許庁

The reflection type exposing method includes: a step of selecting a specified pattern, for example, a pattern of the smallest size for a trench mask or hole mask provided to the reflection type mask; and a step of measuring the mask size associated with the pattern.例文帳に追加

反射型露光方法は、反射型マスクに設けられるトレンチマスクまたはホールマスクにおいて、特定のパターン、例えば、最も寸法の小さいパターンを選択するステップと、当該パターンについてのマスク寸法を計測するステップとを含む。 - 特許庁

Also, the second insulating layer 8 has a second opening 8a for exposing the upper surface of the wiring 6 on the wiring 6, and a third metal layer 7 is formed in a region exposed from the second opening 8a in the wiring 6.例文帳に追加

また、第2の絶縁層8は配線6上に配線6上面を露出させる第2開口部8aを有し、配線6のうち、第2開口部8aから露出した領域上には第3の金属層7が形成されている。 - 特許庁

The stage member and the exposing device including the stage member which are provided with a rectangular column-like gap part and have a honeycomb structure arranged so as to make a wall constituting the gap part vertical to a direction of torsion deformation are obtained.例文帳に追加

四角柱状の空隙部を備え、当該空隙部を構成する璧をねじれ変形の方向に対して垂直となるように配置したハニカム構造体を有するステージ部材及び当該ステージ部材を含む露光装置が得られる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a contact type magnetic head, capable of greatly reducing the number of steps necessary for the exposing work of a pole chip tip, and preventing the corrosion of a pole chip when a head element is cut off/separated from an element plate.例文帳に追加

ポールチップ先端の露出加工に要する工数を大幅に削減することができ、しかも、素子板からヘッド素子を切断・分離する際に、ポールチップを腐食させることのない接触型磁気ヘッドの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposing method capable of decreasing a time for the entire exposure processes, reducing the power consumption, and locally correcting distortion, a step difference of a wafer and / or the aberration or distortion of a lens.例文帳に追加

本発明は、露光工程全体の時間の短縮、消費電力の低減、ウェハの歪み・段差及び/またはレンズの収差や歪曲を局所的に補正することができる露光装置及び露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain high-quality color images by highly accurately overlapping a plurality of colors in a simple constitution in a color image-forming apparatus which exposes a photosensitive body belt by an exposing light source and overlaps the plurality of colors thereby forming color images.例文帳に追加

感光体ベルトを露光源により露光し複数色を重ね合わせてカラー画像を形成するカラー画像形成装置において、簡単な構成で色の重ね合わせを高精度に行い、高品質のカラー画像を得る。 - 特許庁

The number of micromirrors for exposing border parts Rb_01, Rb_02,... of two adjacent beltlike regions is gradually decreased or increased at a fixed ratio in X direction or the Y direction to obtain the circuit pattern which has excellent continuity and unitedness.例文帳に追加

隣り合う2つの帯状領域の境界部Rb_01、Rb_02・・・を露光するマイクロミラーの数をX方向およびY方向に沿って一定の割合で漸減させるまたは増加させ、一体的かつ連続性の良好な回路パターンを得る。 - 特許庁

The conductive thin film 24 for the reinforcement is formed at both surface peripheral edges of the insulation board 17, and opening parts 24a and 24b exposing the insulation board 17 are formed so as to be position- shifted on front and back surfaces on the conductive thin film 24.例文帳に追加

絶縁基板17の両面周縁に補強用の導電薄膜24を形成し、この導電薄膜24に表裏面で位置ずれするように絶縁基板17が露呈する開口部24a、24bを形成する。 - 特許庁

The portable terminal with the camera includes the lens cover 12 with which a lens 2 and a mirror 3 of the camera are covered, and an opening/closing drive mechanism 13 for exposing the lens 2 and the mirror 3 to move the lens cover 12 substantially in parallel with the surface on which the lens 2 and the mirror 3 are disposed.例文帳に追加

カメラのレンズ2とミラー3を共に覆うレンズカバー12と、レンズ2とミラー3が配置された面に対しレンズカバー12を略平行移動させてレンズ2とミラー3を露出させる開閉駆動機構13とを備える。 - 特許庁

The system exposing a mask pattern on a substrate is provided with a memory 20 storing a number of operating parameters for exposure- related processing and a controller 14 switching the operating parameters based on the time slot for processing.例文帳に追加

マスクのパターンを基板に露光する露光装置において、露光に関する処理の動作パラメータを複数記憶する記憶装置20と、処理を実行する時間帯に基づいて動作パラメータを切り替える制御装置14とを備える。 - 特許庁

To provide a frame connecting member hardly exposing its metallic edge and having high strength, and to provide a suspended installation base for the air conditioner having high strength and good appearance by using the frame connecting member.例文帳に追加

金属エッジの露出が少なく、強度が大きいフレーム連結部材を提供するとともに、このようなフレーム連結部材を使用することにより強度の大きい外観に優れた空気調和機の吊下げ据付台を提供すること。 - 特許庁

The elastic member 30 is arranged in its peripheral direction on the outer peripheral surface 11a of the core metal member 10 in a state of exposing a part of the outer peripheral surface 11a of the core metal member 10 by fitting the fitting part 31 to the groove 12.例文帳に追加

嵌合部31を溝12に嵌合させることで、弾性部材30を、芯金部材10の外周面11aの一部を露出させた状態で、芯金部材10の外周面11aにその周方向に沿って設ける。 - 特許庁

A stacked poly silicon film 7 is formed by continually depositing a first poly silicon film 7a having no impurity and a second poly silicon film 7b for determining a resistance value through one manufacturing process without exposing the films 7a and 7b to the atmosphere.例文帳に追加

不純物を含有しない第1のポリシリコン膜7aと、抵抗値を決定するための第2のポリシリコン膜7bを大気への曝露なく1回の製造工程により連続して堆積させて積層ポリシリコン膜7を形成する。 - 特許庁

To provide a water-soluble photoresist excellent in pattern size reproducibility after development independently of a change in the time elapsed after patternwise exposure in patternwise exposing and developing steps in a process for producing a shadow mask and a lead frame.例文帳に追加

シャドウマスク及びリードフレームの製造工程で、パターン露光、現像工程において、パターン露光後の焼き置き時間の変動に対し現像後のパターン寸法再現性に優れた水溶性レジストを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a gas turbine that can supply exhaust air to a combustor in a turbine casing without directly exposing the inner wall face of the casing to exhaust air at high temperature, while preventing mixing of exhaust air with compressed air in the casing.例文帳に追加

車室内壁面が高温の排空気に直接曝されず、かつ、車室内における排空気と圧縮空気との混合を防止しながら、車室内の燃焼器に排空気を供給しうるガスタービンを提供する。 - 特許庁

Therefore, it is possible to suppress bending of an LPH 14 (exposing member) and to position the LPH14 to a photo-conductor drum 12 (image holding body) in comparison with the case where the other end side of the housing 61 is energized by the coil spring 212.例文帳に追加

このため、コイルスプリング212がハウジング61の他端側を付勢する場合と比べて、LPH14(露光部材)の撓みを抑制して、LPH14の感光体ドラム12(像保持体)に対する位置を決めることができる。 - 特許庁

The pair of plate frames 40 on right and left are arranged on the outside in the vehicle width direction from the pipe frame 30 so that the pipe frame 30 can be prevented from being exposed by exposing the plate frames 40 outside a vehicle as much as possible.例文帳に追加

パイプフレーム30よりも車幅方向外側に,左右一対の板状フレーム40が配置されているので,できるだけ板状フレーム40を車両外部に露出させ,パイプフレーム30は露出させないようにすることができる。 - 特許庁

X RAY MASK STRUCTURE, X RAY ALIGNER, X RAY EXPOSING METHOD USING THE X RAY ALIGNER, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE BY USING THE X RAY MASK STRUCTURE OR THE X RAY ALIGNER AND MANUFACTURE OF THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

X線マスク構造体、X線露光装置、該X線露光装置を用いたX線露光方法、X線マスク構造体または該X線露光装置を用いて作製された半導体デバイス及び該半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

This lock structure 20 of the door for the vehicle includes an outer case 45 which houses an inner cable 44 in the state of exposing one end 44a and the other one 44b, and a supporting bracket 36 for supporting a portion-to-be-supported 56 of the outer case 45.例文帳に追加

車両用ドアのロック構造20は、インナケーブル44を一端部44aおよび他端部44bを露出させた状態で収容するアウタケース45と、アウタケース45の被支持部56を支持する支持ブラケット36とを備えている。 - 特許庁

On a downstream side in a paper carrying direction of a fixed portion 10, a paper carrying guide 20 freely opening/closing and capable of exposing a paper carrying passage 8, and a paper detecting means 30 detecting paper passing through the paper carrying passage 8 are provided.例文帳に追加

定着部10の用紙搬送方向下流側には、用紙搬送路8を露出可能にする開閉自在な用紙搬送ガイド20と、用紙搬送路8を通過する用紙を検知する用紙検知手段30とが設けられる。 - 特許庁

An exposing position in the sub-scanning direction of the light emitting elements 4b_1 and 4b_3 of both end parts is adjusted by respectively moving the light emitting element support member 4d in the δ and ε directions by first and second position adjusting mechanisms 52c and 52d.例文帳に追加

また、第1および第2位置調整機構52c,52dで発光素子支持部材4dをそれぞれδおよびε方向に移動させることで、両端部の発光素子4b_1,4b_3の副走査方向の露光位置が調整される。 - 特許庁

The semiconductor chip is subjected to face-down bonding to a die pad 20, is covered with a resin layer, while exposing the rear at the opposite side of the down bonding junction surface of the die pad to the outside, and a first metal projection section 28 projects from the rear of the die pad.例文帳に追加

半導体チップはダイパッド20にフェースダウン・ボンディングされ、ダイパッドのダウン・ボンディング接合面とは反対側の裏面を外に出して樹脂層で覆われ、ダイパッドの裏面から第1の金属突起部28が突起する。 - 特許庁

The method for producing the formed food consisting essentially of the shark meat is characterized in that the fragments of the shark meat obtained by exposing the shark meat to the water and dehydrating the resultant meat is bound to each other by adding the binder for the food, and freezing the bound fragments.例文帳に追加

サメ肉の小片を水晒しした後脱水し食用結着剤を加えて混練し小片どうしを結着させて成形し凍結することを特徴とするサメ肉を主材とする成形食品の製造方法。 - 特許庁

To provide a portable terminal to be used by mounting an IC card capable of easily attaching and detaching the IC card, and executing satisfactory non-contact communication by exposing the IC card from a window open part to the outside space.例文帳に追加

ICカードを装着して使用する携帯端末において、ICカードが窓空き部から外部空間に露出しているため、ICカードの着脱が容易であって、かつ良好な非接触通信ができる携帯端末を提供する。 - 特許庁

Several sample shots are selected including a shot around the periphery (out-in shot) set to be scanned from the out side to inside of a wafer relative to an exposing region among a plurality of shots on a wafer (W1 or W2).例文帳に追加

ウエハ(W1又はW2)上の複数のショットのうち、露光領域に対してウエハの外側から内側へ走査されるように設定された外周近傍のショット(外内ショット)を含むように、幾つかのサンプルショットが選択される。 - 特許庁

When temperature regulation of a clean room for installing the chamber 1 is stopped for maintenance under a state where the exposing stage 10 is not operating, temperature management of the projection lens 14 is sustained by operating only the partial temperature regulating section 30.例文帳に追加

露光台10が稼動停止の状態であって、例えば、チャンバ1を設置するクリーンルームの温調が、メンテナンス等のために停止したときは、部分温調部30のみを作動させて投影レンズ14の温度管理を継続する。 - 特許庁

To provide a method for producing a color filter using an ink jet system by which an exposing device is unnecessitated when the pattern forming of colored layers or a black shielding layer is performed, high definition is possible, and the yield is improved.例文帳に追加

インクジェット方式を用いたカラーフィルタの製造方法において着色層または黒色遮蔽層のパターン形成時にフォトマスク、露光装置が不要で、高精細化が可能で歩留まりの良い製造方法を提供する。 - 特許庁

The exposure device removes static electricity from the photosensitive layer of the photoreceptor drum after the transfer by the transfer roller by exposing the photosensitive layer over an axial width of the photoreceptor so as to make the amount of exposure of an end part of the photosensitive layer smaller than that of a center part thereof.例文帳に追加

露光装置は、転写ローラによる転写を経た感光体ドラムの感光層を、中央部より端部の露光量が小さくなるように、感光体の軸方向の幅にわたって露光することにより、感光層を除電する。 - 特許庁

At the time of forming the multilayer film on the substrate in a film forming device, the surface state of the metal film can be managed during a processing process of the metal film without exposing the substrate to air and the metal film can be processed neither too much nor too little.例文帳に追加

成膜装置内で基板に多層膜を形成するとき、基板を大気に晒すことなく、金属膜の処理工程中に、当該金属膜の表面状態を管理でき、その金属膜の処理を過不足なく行える。 - 特許庁

To prevent toner from being leaked out of the side part of a blade member and the peripheral part of a blade attaching part by arranging a sealing member on the surface side of a developing device frame in relation to an opening exposing the developing roller of the developing device.例文帳に追加

現像装置の現像ローラを露出させる開口部に対して、装置フレームの表面側にシール部材を設けて、前記ブレード部材の側部とブレード取り付け部の周囲の部分からトナーが漏れ出すことを防止する。 - 特許庁

A contact hole 66 is formed in the photosensitive resin 44 by exposing the photosensitive resin twice with 1st and 2nd photo masks in which round shading parts are scattered, and also smooth ruggedness is formed in the area outside the TFT 43.例文帳に追加

円形遮光部が散在された第1フォトマスクと第2フォトマスクとで2回の露光を行い、感光性樹脂44にコンタクトホール66を形成すると共に、TFT43以外の領域に滑らかな凹凸を形成する。 - 特許庁

To provide a water closet facility which can be easily used by the user and a person who takes care of the user for which the height can be easily switched without exposing the switching mechanism, and the facility provides beautiful appearance, offers easy cleaning for the exterior surface and easy handling to the users and a person who take care of these users.例文帳に追加

便器の高さを切り替えることができると共に、そのための機構が露呈せず、美観に優れ、便器外面の清掃が容易であり、便器使用者や介護者が利用し易い便器設備を提供する。 - 特許庁

The process of depositing at least one noble metal includes a process of exposing, in the outside of the reactor, the fuel assembly component of the zirconium alloy to an aqueous solution containing at least one compound containing at least one noble metal.例文帳に追加

少なくとも1つの貴金属を堆積させることは、原子炉の外側で、ジルコニウム合金燃料アセンブリ構成要素を少なくとも1つの貴金属を含有する少なくとも1つの化合物を含む水溶液に曝すことを含む。 - 特許庁

Fine particles are selectively arranged in an exposed area 2 by laminating the photosensitive silane coupling agent on the surface of a base board, exposing the photosensitive silane coupling agent layer 2 in a pattern-like shape and generating the secondary amino groups in the exposed area 3.例文帳に追加

基板1の表面に前記感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層2にパターン状に露光を行ない、露光部3に2級アミノ基を発生させ、露光部2に選択的に微粒子を配する。 - 特許庁

例文

The surface of the carbon nanotube-based material is modified by exposing the carbon nanotube-based material to ultraviolet rays and supplying a silicon-containing compound capable of modifying the surface of the carbon nanotube-based material in combination with the ultraviolet rays.例文帳に追加

カーボンナノチューブ系材料に対し、紫外線を照射し、この紫外線との組合せによりカーボンナノチューブ系材料の表面を改質し得る含ケイ素化合物を供給して、カーボンナノチューブ系材料の表面を改質する。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS