「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(80ページ目) - Weblio英語例文検索

To make the distance between patterns more precise, even if processes for applying, exposing, developing, and removing photoresists are omitted, when the patterns are formed on the surface of a substance to be treated using a mask, without worsening shape precision.例文帳に追加

被処理物の表面にマスクを用いてパターンを形成するパターン形成方法において、フォトレジストの塗布、露出、現像、除去の工程を省略しても、形状精度を悪化することなく、パターン間の距離を正確にだす。 - 特許庁

A laminated electrode 13 comprising an Al electrode 11 and a CU electrode 12 is formed on the main surface of the semiconductor chip 14, and connection pads 19, 22, which are made by exposing the AL electrode 11, are formed on a part of the laminated electrode 13.例文帳に追加

半導体チップ１４の主面にＡｌ電極１１とＣｕ電極１２が積層された積層電極１３を形成し、積層電極１３の一部にＡｌ電極１１が露出した接続パッド１９、２２を設ける。 - 特許庁

To provide a coating composition for deodorant topcoat, simultaneously satisfying original basic characteristics such as durability, design and chemical resistance required as the surface of a flooring material while exposing a deodorant component on the surface.例文帳に追加

消臭性成分を表面に露出させつつ、本来の床材表面としての耐久性、意匠性、耐薬品等の基本的な要求特性を同時に満足させることのできる消臭性トップコート用塗料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for measuring contamination on the inner surface of a pipe, decontaminating the pipe and recycling the pipe by exposing the inner surface of the pipe, without having to use a machine for longitudinally splitting the pipe that has a circular cross section.例文帳に追加

断面円形状態の管を縦割りするための機械を必要とすることなく管の内面を露出させて、管の内面の汚染状態の測定や除染処理さらには再資源化を行える方法を提供する。 - 特許庁

Cigarettes are brought to be easily picked out by cutting off a corner 7 at which a side plate 11 and a front plate 3 in the opposite side of the rear plate to which a cover 6 of the package box 2 is screwed and exposing the cigarette 1 to both sides of the front plate 3 and the side plate 11.例文帳に追加

包装箱の開閉蓋が蝶着している後板の反対側にある前板と側板が交差する角部を切除して、紙巻煙草を前板側と側板側の両面に露出させて、摘み出し易くした。 - 特許庁

A nonreflecting section 42 is formed on a capillary by partially charring the resin coating 10 of the capillary with a heater, etc., and a detecting section is formed by exposing the fused quartz tube of the capillary by partially removing the charred coating 10 by causing a reaction between the charred coating 10 and a reactive gas containing O_3.例文帳に追加

キャピラリの樹脂被覆をヒータなどで黒く焦がして非反射部４２を形成し、Ｏ_3ガスを含む反応性ガスとの反応で被覆１０を除去し、溶融石英管を露出させて検出部を形成する。 - 特許庁

In a USB memory 10, a cap 26 moves on a mid body 22, and the cap 26 is held at a storage position for storing a memory side USB connector 12, and a working position for exposing the memory side USB connector 12, by the heart-cam mechanism 28.例文帳に追加

ＵＳＢメモリ１０は、キャップ２６がミッドボディ２２上を移動し、キャップ２６はハートカム機構２８により、メモリ側ＵＳＢコネクタ１２を収納する収納位置と、メモリ側ＵＳＢコネクタ１２を露出させる使用位置とに保持される。 - 特許庁

The part for compensating the inflation of the substrate position base interacts with the controller of the substrate position to control the exposing position, to thereby compensate at least partially a geometric change induced by a heat of at least one of the substrate and the projection stem.例文帳に追加

基板位置ベースの膨張補償部は、基板位置コントローラと相互作用し露光位置を調整して、基板および投影系の少なくとも一つの熱で誘発された幾何学的な変化を少なくとも部分的に補償する。 - 特許庁

A template 76 has an opening part exposing a skin layer of the back pad 1 to which the polished workpiece 78 is stuck and inserted, and the polished workpiece 78 is abutted to a buildup area of the approximately center of the skin layer by soaking the skin layer with a moderate amount of water.例文帳に追加

保持面に貼着され略中央部に被研磨物７８を挿入可能な開口が形成されたテンプレート７６の開口部で露出したバックパッド１のスキン層に適量の水を含ませ被研磨物７８を当接させる。 - 特許庁

To provide an image recording method and an image recording device that reduces density irregularities that are apt to periodically occur in a subsidiary scanning direction when exposing to a plurality of light sources of a plurality of channels for a plurality of colors whose wavelengths are different.例文帳に追加

波長の異なる複数色について各々複数チャンネルの複数光源で露光するとき、副走査方向に周期的に発生し易い濃度むらを軽減できる画像記録方法及び画像記録装置を提供する。 - 特許庁

When the calculated time ΔTA is shorter than the exposing time ΔTE, an image pickup signal to be obtained by exposure in the next vertical scanning period T2, and to be outputted in the further next vertical scanning time T3 is validated.例文帳に追加

算出された時間ΔＴＡが露光時間ΔＴＥよりも短い場合には、次の垂直走査期間Ｔ２での露光により得られかつさらに次の垂直走査期間Ｔ３で出力される撮像信号が有効になる。 - 特許庁

To provide an antenna-incorporating IC card and its manufacturing method capable of easily forming an IC substrate loading part without regard to a card material and preventing exposing failure (an unexposed condition, excessive sharpening, etc.), of a coil terminal.例文帳に追加

カード材料にかかわらず、ＩＣ基板装填部を容易に形成することができるとともに、コイル端子の露出不具合（未露出、削りすぎ等）を防止することができるアンテナ内蔵型ＩＣカード及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The exposure method of a heat developing photosensitive material is carried out by exposing a heat developing photosensitive material containing organic silver particles, silver halide particles, a reducing agent and a contrasting agent on a support to two or more emission beams.例文帳に追加

支持体上に有機銀粒子、ハロゲン化銀粒子、還元剤及び硬調化剤を含有する熱現像感光材料を、２本以上の発光ビームで露光することを特徴とする熱現像感光材料の露光方法。 - 特許庁

The control system controls the light source and the image capturing system to synchronize the lamp trigger in order to prevent that the remaining of flashing, after ending of the continuous exposing duration, influences image exposure in the continuous flashing duration.例文帳に追加

制御システムは、フラッシュ継続期間中に露光継続期間が終わり、フラッシュの残りの部分が画像露光に影響しないように、照明光源および画像取込み装置を制御してランプトリガーを同期化させることができる。 - 特許庁

To provide an insulated bathtub retaining an insulation effect without directly exposing a foam and efficiently using a space between the bathtub and an apron, and to provide a bathtub unit with the insulated bathtub.例文帳に追加

本発明は、発泡体を直接露出させることなく、断熱効果を維持しながら、エプロンとの間の空間を有効利用可能な断熱浴槽、及び、この断熱浴槽を備えた浴室ユニットを提供することを目的とする。 - 特許庁

A plasma charge evaluation method comprises a process for exposing a plasma charge evaluation substrate to plasma used in the manufacturing process of a semiconductor device; and a process for evaluating the amount of plasma charge given to the substrate by plasma, by examining the plasma charge evaluation substrate.例文帳に追加

プラズマチャージ評価基板を、半導体装置の製造工程で使用されるプラズマに曝露する工程と、プラズマチャージ評価基板を調べることにより、プラズマが基板に与えるプラズマチャージ量を評価する工程とを具備する。 - 特許庁

In a method of removal of silicon carbide layers, by exposing a carbide-silicon layer 45 to an oxygen-containing plasma, an exposed part of the carbide-silicon layer 45 is at least converted into an oxide-silicon layer and the oxide-silicon layer is removed from the substrate.例文帳に追加

カーバイドシリコン層４５を酸素含有プラズマに曝すことにより、前記カーバイドシリコン層４５の少なくとも露出された部分を酸化シリコン層に変換し、そして基板から前記酸化シリコン層を除去するステップからなる。 - 特許庁

In the metal mold for producing a contact element, oxide films are formed on the base having a recess in the main surface and a metal layer arranged on it and having at least an opening for exposing the recess.例文帳に追加

接触子製造用の金型は、主面に凹所を有する基台と、前記主面に配置された金属層であって少なくとも前記凹所を露出させる開口を有する金属層とに酸化皮膜を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an X-ray CT scanner capable of exposing with less X-ray to a test subject from a plurality of vessels and imaging with time resolution and FOV according to the diagnostic purpose, and to provide the data processing method thereof.例文帳に追加

複数の管球から被検体により少ない曝射量でＸ線を曝射し、診断目的に応じた時間分解能とＦＯＶで画像を撮像可能なＸ線ＣＴ装置及びそのデータ処理方法を提供することである。 - 特許庁

Subsequently, the internal soil G surrounded by the earth retaining wall 1 is excavated, and the soil-cement 3 is cut, thereby exposing the flanges 4a of the H-section steel pieces 4 of the earth retaining wall 1 and one surface 5c of the plate-shaped members.例文帳に追加

ついで、山留め壁１で囲まれた内側の地盤Ｇを掘削するとともにソイルセメント３を切削して、山留め壁１のＨ形鋼４の一方のフランジ４ａ及び板状部材５の一面５ｃを露出させる。 - 特許庁

The image forming apparatus is characterized in that a plurality of light sources, a single polygon mirror having different angles on a single face and an optical path deflection means which deflects the optical path for scanning a plane to be scanned are provided as an image scanning and exposing means.例文帳に追加

画像走査露光手段として、複数の光源と１面内に異なる角度を有する単一のポリゴンミラーと、被走査面へ走査するために光路を偏向する光路偏向手段を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

When a control unit 16 is designated to perform the autofocus or the tracking adjustment, it sets the diaphragm of a photographic lens 10 to be open and also controls a camera main body 12 to perform exposing adjustment which becomes appropriate in a state where the diaphragm is open.例文帳に追加

コントロールユニット１６は、オートフォーカスの実行や、トラッキング調整の実行が指示されると、撮影レンズ１０の絞りを開放に設定すると共に、カメラ本体１２に対して絞り開放で適正となる露出調整を行わせる。 - 特許庁

By forming a film continuously without exposing the metal-oxide film and the primary insulating film to air, it is possible to prevent contaminants such as dust and dirt from mixing into the interface between the metal-oxide film and the primary insulating film.例文帳に追加

金属酸化膜と第１の絶縁膜とを大気に曝されることなく連続的に成膜できることによって、金属酸化膜と第１の絶縁膜との界面へのごみなどの汚染物の混入を防ぐことができる。 - 特許庁

When exposing a substrate to a pattern by projecting the image of the pattern upon the substrate through a projection optical system and a liquid, the condition of the liquid immersion performed on the substrate is decided in accordance with a film member formed on the liquid contact surface of the substrate.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、基板上の液体接触面に形成される膜部材に応じて、基板の液浸条件を決定する。 - 特許庁

The exposing means performs preliminary exposure to longer than the circumferential length of the image carrier 1 under a latent image formation condition or exposure condition different from that in normal image formation right before image formation and preliminary exposure conditions are switched by imaging speeds.例文帳に追加

前記露光手段により、画像形成直前に、通常画像形成時と異なる潜像形成条件又は現像条件で像担持体１の周長以上の予備露光を行い、予備露光条件は、作像速度毎に切り替える。 - 特許庁

To provide an aluminum-plated enameled stainless steel sheet without causing peeling of an enamel coated layer even when strongly bent after coated with enamel, and further having excellent corrosion resistance in bent parts and edge parts of exposing a base steel sheet.例文帳に追加

琺瑯被覆後に強度の曲げ加工をしても琺瑯被覆層の剥離がなく、しかも、曲げ加工部および鋼板素地が露出する端面部における耐食性にも優れるアルミニウムめっきステンレス琺瑯鋼板の提供。 - 特許庁

Next, a second pattern exposure which irradiates exposing light on the second resist film 105 through a second mask 103B is carried out, and the second resist film 105 develops to form a second resist pattern 105a from the second resist film 105.例文帳に追加

続いて、第２のレジスト膜１０５に第２のマスク１０３Ｂを介した露光光を照射して第２のパターン露光を行い、第２のレジスト膜１０５を現像して、第２のレジスト膜１０５から第２のレジストパターン１０５ａを形成する。 - 特許庁

On an outer diameter side wall surface 1a1 and an inner diameter side wall surface 1a2 of the pocket 1a, notch surfaces 1B3, 1B4 of the metal portion 1B exposing into the pocket 1a serve as guide surfaces for guiding end surfaces 2a, 2b of a roller 2.例文帳に追加

ポケット１ａの外径側壁面１ａ１及び内径側壁面１ａ２において、金属部分１Ｂの切欠き面１Ｂ３、１Ｂ４がポケット１ａ内に露出して、ころ２の端面２ａ、２ｂを案内する案内面となる。 - 特許庁

A partitioning plate insertion hole 27 for inserting the partitioning plate 11 from an outer side, is formed on the tank main body 7, and the partitioning plate 11 is inserted into the partitioning plate insertion hole 27 in a state of exposing its outer edge portion to an outer side of the tank main body 7.例文帳に追加

タンク本体７に、外側から仕切板11を挿入する仕切板挿入穴27を形成し、仕切板11を、その外側縁部がタンク本体７の外方に露出するように仕切板挿入穴27に挿入する。 - 特許庁

The paper ejecting unit 140 constitutes a part of a casing, and while exposing a carrying passage 30A outside the casing by being positioned in an opening position, the carrying passage 30A is stored inside the casing by being positioned in a closing position.例文帳に追加

排紙ユニット１４０は、筐体の一部を構成し、開放位置に位置することで搬送路３０Ａを筐体の外部に露出させる一方で、閉鎖位置に位置することで搬送路３０Ａを筐体の内部に収納させる。 - 特許庁

To prevent occurrence of significant unevenness of density due to variation in the quantity of exposure light passed through a lens array in an exposure system for exposing a photosensitive material using a exposure head consisting of a linear light emitting element array and a lens array.例文帳に追加

ライン状発光素子アレイとレンズアレイとからなる露光ヘッドを用いて感光材料を露光させる露光装置において、レンズアレイを通過した露光光の光量変動によって大きな濃度ムラが生じることを防止する。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of exposing an image carrier (a photosensitive drum) with a uniform light quantity in the main scanning direction, regardless of the deterioration with time of a semiconductor laser or an environmental temperature change, while employing an over-field scanner system.例文帳に追加

オーバフィルドスキャナ方式を採用していながら、半導体レーザの経時劣化や環境温度変化があっても、像担持体（感光ドラム）上に主走査方向で均一な光量で露光が可能となる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The electronic circuit of the substrate 28 is structured by omitting a connector and providing the substrate 28 with a terminal unit for connecting the same to an external electronic circuit, exposing to the outside of a case 27 for covering the ambient of the substrate, and covering the electronic circuit unit of the substrate 28 by the case 27.例文帳に追加

コネクタを削除し、基板２８に外部電子回路と接続するためのターミナル部を設け、基板の周囲を覆うケース２７の外部に露出させ、基板２８の電子回路部はケース２７で周囲を覆う構造を持たせる。 - 特許庁

To provide a film forming method by a CVD method suppressing the decomposing reaction of raw materials without exposing the raw materials to high temp. conditions for a long time to prevent deterioration therein and moreover easily capable of controlling the concn. of the raw materials and to provide a CVD device.例文帳に追加

原料を高温条件で長時間曝すことなく原料の分解反応を抑制して劣化を防止するとともに、原料濃度の制御が容易なＣＶＤ法による成膜方法及びＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

Also, a head window 5c for exposing a head core 8b is provided at a lower end of a side wall 5a of a rotary drum 5, a slant 5b is provided at an end part of the head window 5c so as to cover the outer peripheral plane 9e of the cylindrical part 9e.例文帳に追加

また、回転ドラム５の側壁５ａの下端にヘッドコア８ｂを露出させるためのヘッド窓５ｃが設けられ、ヘッド窓５ｃの端部には筒状部９ｂの外周面９ｅを覆うように傾斜面５ｂが設けられている。 - 特許庁

This device is provided with an exposure means 9 for exposing image data, a carrying means 8 for supplying a photosensitive material 2 to the exposure means 9 at a prescribed speed and a control means which is connected to the exposure means 9 and the carrying means 8.例文帳に追加

画像データの露光を行うための露光手段と、該露光手段に、感光材料を所定の速度で供給するための搬送手段と、上記露光手段及び搬送手段に接続された制御手段とを備える。 - 特許庁

By paying attention to influential factors, such as the focus, exposure, the shape of a mask pattern, the instrumental error (aberration etc.) between aligners, etc., upon the dimension of a transferred pattern, the pattern dependency of the response of exposing conditions, such as the best focus shift etc., is evaluated.例文帳に追加

フォーカス、露光量、マスクパターン形状および露光装置機差（収差他）等のような転写されるパターンの寸法への影響要因を考慮して、ベストフォーカスシフト等、露光条件の応答のパターン依存性を評価する。 - 特許庁

To provide an exposing device of a strip-shaped work for setting a mask and a work stage in parallel even if the strip-shaped work in which warp and waviness occur at the periphery section exists on the work stage, and a method for setting the mask and the work stage in parallel.例文帳に追加

周辺部に反りや波うちが発生した帯状ワークがワークステージ上に存在しても、マスクとワークステージの平行設定ができる帯状ワークの露光装置と、マスクとワークステージの平行設定方法を提供すること。 - 特許庁

One end of the slit part 3a is blocked in by the solder 3b to hit and stop the tip end of the exposing-end part 2a of the lead wire to the one end, desirably positioning the tip end not only in a width direction but also in a length direction of the slit part 3a.例文帳に追加

スリット部３ａの一端をハンダ３ｂで閉塞することにより、この一端にリード線露出端部２ａの先端を当止させて、スリット部３ａの幅方向のみならず長さ方向にも位置決めすることが好ましい。 - 特許庁

According to this method of manufacture, an opening 10 for exposing a bonding pad 5 is formed in flattering film 8 and 9 of organic material which is formed on the top of the bonding pad 5, at formation of color filter layer 3 and on-chip microlenses 4.例文帳に追加

カラーフィルタ層３及びオンチップマイクロレンズ４を形成するに際してボンディングパッド部５の上部に形成された、有機系材料からなる平坦化膜８，９に、ボンディングパッド部５を露出させる開口１０を形成する。 - 特許庁

To the surface of the hard coat layer 21, an oxygen plasma treatment is given, a coupling agent layer 22 is formed by exposing the surface of the hard coat layer 21 to a vapor of a coupling agent and an anti-fouling layer 23 is formed by applying and curing an anti-fouling agent to the coupling agent layer 22.例文帳に追加

ハードコート層２１上を酸素プラズマ処理し、ハードコート層２１上をカップリング剤の蒸気にさらしてカップリング剤層２２を形成し、カップリング剤層２２上に防汚剤を塗布し硬化して防汚層２３を形成する。 - 特許庁

To provide a mask and exposing method which can solve a problem that a pattern (projected image) projected onto a resist film is dim and is significantly deformed due to refraction of light in a lithography process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置のリソグラフィー工程において、レジスト膜中に投影されるパターン(投影像)が光線の回折により、ぼやけて大きく変形した像が投影される問題を解決できるマスク及び露光方法を提供する。 - 特許庁

Then, in the rear surface printing, when the image data (Figure a) is read in the main scanning direction x, the same correction data is referred, and the image data is read while being shifted by the value of the correction data in the subsidiary scanning direction y, and is input in the exposing apparatus.例文帳に追加

裏面印刷では、画像データ（図ａ）が主走査方向ｘに沿って読み出される際に、同じ補正データを参照し、補正データの値だけ副走査方向ｙにずらして読み出され、露光器に入力される。 - 特許庁

In this working hood the periphery of an open part for exposing the forehead is constituted by sewing with folding a stretchable cloth and the forehead part surrounded by the upper part of the open part, the top and both sides of the hood is constituted of a laterally stretchable cloth.例文帳に追加

額を露出する開放部の周縁を伸縮性を有する生地を折返して縫着して構成し，開放部の上部と頂部，両側部で囲まれた額部を横方向に伸縮する生地で構成した頭巾。 - 特許庁

To improve a situation that the amount of light for exposure becomes insufficient at the off-center part of the phosphor screen of a wide deflection angle color picture tube because the reflection of an exposure light beam on the incidence surface of an exposure lens becomes large at the time of exposing the phosphor screen.例文帳に追加

広偏向角カラー受像管の蛍光体スクリーン露光時に、露光レンズ入射面での露光光線の反射が大きくなるために蛍光体スクリーン周辺部で露光光量が不足するのを改善する。 - 特許庁