「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an aligner capable of correctly exposing a pattern, which is formed on a mask on a substrate, even when the attitude of an optical projection system is changed when the optical projection system is moved.例文帳に追加

投影光学系１を移動する際に投影光学系１の姿勢が変化してもマスク９に形成されたパターンを正しく基板８上に露光することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

A radiation source 3 is provided on the radiation exposing means, a movable diaphragm 4 is arranged on the front surface and the radiation range of the radiation is adjusted by the movable diaphragm 4 by a movable diaphragm operating part 5.例文帳に追加

放射線曝射手段には放射線源３が設けられ、その前面に可動絞り４が配置され、この可動絞り４により放射線の照射範囲を可動絞り操作部５により調整する。 - 特許庁

The outer case 1 is provided with an opening 3 for exposing the front and back of the thin battery 2 to the outside and is about as thick as or thinner than the thin battery 2.例文帳に追加

外装ケース１は、薄型電池２の表裏面を外部に表出させる開口部３を設けており、厚さを薄型電池２の厚さにほぼ等しく、あるいは薄型電池２よりも薄くしている。 - 特許庁

To provide an exposure light quantity changing method for photographic paper exposing device using a digital micromirror device, capable of accurately changing the exposure light quantity for a photographic paper with a simple constitution.例文帳に追加

簡素な構造でもって印画紙の露光光量の変更をきめ細かく行うことができる、デジタルマイクロミラー装置を用いた印画紙用露光装置の露光光量変更方法を提供する。 - 特許庁

Corresponding to a structure of a thin film transistor 100, oxidation treatments (plasma treatments, etc.) 131 and 132 are continuously performed between an oxide semiconductor film 14 and deposition of insulating films 12 and 18 without exposing to atmospheric air.例文帳に追加

薄膜トランジスタ１００の構造に応じて、酸化物半導体膜１４と絶縁膜１２，１８の成膜の間に、大気に曝すことなく連続して酸化性処理（プラズマ処理など）１３１，１３２を施す。 - 特許庁

The cover member 14 is formed in such a manner that a PI (polyimide) film 42 is stuck on a metal foil 44 for reinforcement, and openings 46 exposing the nozzles 22 in the PI film 42 are formed in the metal foil 44.例文帳に追加

カバー部材１４は、ＰＩフィルム４２と補強のための金属箔４４を貼り合せて形成され、金属箔４４には、ＰＩフィルム４２のノズル２２を露出する開口４６が形成されている。 - 特許庁

To provide a sensor device manufacturing method and a sensor device enabling easy and sure connection to wiring portions of a housing without exposing wiring portions of a sensor chip disposed in the housing to a measuring medium.例文帳に追加

ハウジング内に配置されるセンサチップの配線部を測定媒体に曝すことなくハウジングの配線部に容易かつ確実に接続し得るセンサ装置の製造方法およびセンサ装置を提供する。 - 特許庁

In the method of processing the diamond base surface, by exposing the surface of the diamond base to a plasma comprised of a mixed gas of hydrogen and fluorine sulfide (SF_6), the surface conductivity hole areal density of the diamond base is enhanced to 8×10^13/cm^2 or more.例文帳に追加

ダイヤモンド基板の表面を水素と硫化フッ素（ＳＦ_６ ）の混合ガスでなるプラズマに曝して、ダイヤモンド基板の表面伝導ホール面密度を８×１０^１３／ｃｍ^２ 以上に高める。 - 特許庁

To form an image with demanding a low energy in an image formation process but without removing a material and make a development process unnecessary after an infrared ray exposing process.例文帳に追加

画像形成工程において低エネルギーを要求し、材料を除去することなく、画像を形成し、かつＩＲ線暴露工程後に現像処理が不要である、感熱性組成物を提供する。 - 特許庁

A photoelectric conversion part 4 is formed at a specified position on the surface layer of a silicon substrate 1, and a light shielding film 12 that has an opening exposing an upper part to the photoelectric conversion part 4 is formed.例文帳に追加

シリコン基板１の表層部における所定の位置に光電変換部４を形成し、この光電変換部４に上側部分を露出する開口部を有する遮光膜１２を形成する。 - 特許庁

The structure is provided, in which the molding lips 13, 17 exposing to the outside of a door frame 2 of a glass run lateral side part 10a and a weather strip lateral side part 15a are directly abutted on each other at an upper side of a partition sash.例文帳に追加

パーテイションサッシュの上方側ではグラスラン横辺部１０ａとウエザーストリップ横辺部１５ａのうちドアフレーム２外に露出するモールリップ１３，１７同士を直接突き合わせた構造である。 - 特許庁

The contact point of a relay 46 is disconnected by an optional abnormality detecting signal from the plural abnormality detecting parts 31, 34; 32, 35; 37, 39; 38, 40 of plural hardwares, and power feeding to an original exposing lamp 19 and a fixing heater 21 is stopped.例文帳に追加

複数のハードウェアによる異常検知部（３１，３４；３２，３５；３７，３９；３８，４０）からの任意の異常検知信号に応じてリレー４６の接点がオフされ、原稿露光ランプ１９および定着ヒータ２１への給電が停止される。 - 特許庁

The medical image diagnostic apparatus is constituted so that a subject is scanned by exposing the subject with X-rays from many directions to collect raw data and an image is reconstituted on the basis of the raw data.例文帳に追加

被検体に対して多方向からＸ線を曝射することにより前記被検体をスキャンしてローデータを収集し、このローデータに基づいて画像再構成を行う医用画像診断装置である。 - 特許庁

The instrument is provided with a radiation planarizing unit for exposing radiation planarizing filters 63-66 and the radiation collating member 3 alternately to the radiation field or saving them from the field.例文帳に追加

放射線平坦化フィルタ６３〜６６と放射線照合用部材３とを交互に放射野内に露出または上記放射野から退避させる放射線平坦化装置を備えた放射線治療装置。 - 特許庁

Then, a masking processing is applied on the frame data by the mask data prepared by the mask data preparing part 82, and the image is light-exposed and recorded on a photo-sensitive material 12 by driving a light-exposing head 30.例文帳に追加

そして、マスクデータ作成部８２で作成されたマスクデータによってフレームデータに対するマスキング処理が施され、露光ヘッド３０を駆動して感光材料１２に画像が露光記録される。 - 特許庁

The deparaffinization method includes the process of: exposing a biological sample by exposing a sample having the biological sample embedded in paraffin to an organic solvent which is mutually compatible with paraffin under a heating condition, and melting and dissolving the paraffin in the organic solvent; and removing the paraffin from the sample by separating the organic solvent in which the paraffin is dissolved and the exposed biological sample.例文帳に追加

生体試料がパラフィンに包埋された標本を、加熱条件下で、パラフィンと互いに相溶性がある有機溶剤に晒し、前記パラフィンを融解及び前記有機溶剤へ溶解させることによって、前記生体試料を露出させる工程と、前記パラフィンが溶解した有機溶剤と、前記露出した生体試料とを分離することによって、前記標本から前記パラフィンを除去する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a developing device and an exposing/developing method for facilitating pattern formation with high resolution, improving mass-productivity and providing a product of high quality by exposure using a proximity exposure system in the exposing/developing steps of a method for manufacturing a color filter for processing a photosensitive resin composition applied on a substrate into a black matrix or a colored pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、プロキシミティ露光方式を用いた露光で、高解像度のパターン形成を可能にし、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を提供するための現像装置及び露光・現像方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The surface potential of a photoreceptor 11 in the case of exposing a writing unit 13 with specified writing light quantity and that in the case of exposing the unit 13 at a specified laser modulation control level are detected by a potential sensor 14 provided between the unit 13 and a developing unit 15, and the laser modulation control level of the unit 13 is decided based on the surface potential of both of them.例文帳に追加

書込ユニット１３と現像ユニット１５の間に設けられた電位センサ１４で、書込ユニット１３に所定の書込光量で露光させた際の感光体１１の表面電位と、所定のレーザーの変調制御レベルで書込ユニット１３に露光させた際の感光体１１の表面電位とを検出して、両表面電位に基づいて、書込ユニット１３のレーザーの変調制御レベルを決定する。 - 特許庁

The exposing apparatus, which exposes a substrate 150 by an exposing light by means of an organic liquid 170, includes an oxidizing reaction means 180 which allows the organic liquid 170 to be reacted with oxygen or water in the organic liquid 170 by giving irradiation light to the organic light 170 to generate an oxide, and a filter 181 to remove the oxide generated by the oxidizing reaction means from the organic liquid 170.例文帳に追加

有機液体１７０を介して露光光で基板１５０を露光する露光装置は、有機液体１７０に照射光を照射することにより有機液体１７０と有機液体１７０中の酸素または水とを反応させて酸化物を生成する酸化反応手段１８０と、酸化反応手段で生成された酸化物を有機液体１７０中から除去するフィルタ１８１と、を備える。 - 特許庁

An imaging device comprises: imaging means for exposing a subject image to an imaging element; transmission means for causing a light-emitting unit to emit visible light to externally transmit information relating to the imaging device; and control means for controlling the imaging means and the transmission means lest a period of the imaging means exposing and a period of the transmission means emitting visible light overlap each other.例文帳に追加

被写体像を撮像素子に露光させる撮像手段と、発光部により可視光を発光させて該撮像装置に関連した情報を外部に発信する発信手段と、前記撮像手段により露光させる期間と前記発信手段により可視光を発光させる期間とが重ならないように前記撮像手段および前記発信手段を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

Alternatively, the pattern forming method includes a step of applying a photosensitive paste containing inorganic fine particles and organic components including a photosensitive compound as essential components, an exposing step, a developing step and a baking step, wherein a photosensitive paste whose regular transmittance with respect to 40 μm thickness at the exposure wavelength in the exposing step is ≥10% is used as the above photosensitive paste.例文帳に追加

もしくは、無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストの塗布工程、露光工程、現像工程、および、焼成工程を含み、感光性ペーストとして、前記露光工程の露光波長における厚さ４０μｍあたりの正規透過率が１０％以上である感光性ペーストを用いることを特徴とするパターン形成方法によって解決できる。 - 特許庁

According to one embodiment, the method has steps of: providing a substrate containing a metal-containing barrier layer having the oxidized surface layer; exposing the oxidized surface layer to a flow of a first process gas containing plasma-excited argon gas to activate the oxidized surface layer; and applying substrate bias electric power during the step of exposing the oxidized surface layer to the flow of the first process gas.例文帳に追加

一の実施例によると、当該方法は、酸化表面層を有する金属含有バリア層を含む基板を供する工程、前記酸化表面層を活性化させるために、プラズマ励起されたアルゴン気体を含む第1処理気体流へ前記酸化表面層を曝露する工程、及び、前記の第1処理気体流へ酸化表面層を曝露する工程中に基板バイアス電力を印加する工程を有する。 - 特許庁

The exposure method includes a process that a liquid immersion area is locally formed between an upper surface of a movable moving body holding a substrate and the projection optical system, and exposing light is irradiated on the substrate through the projection optical system and the liquid forming the liquid immersion area, and by moving the substrate for the exposing light, each of a plurality of shot areas on the substrate is exposed by scanning.例文帳に追加

この露光方法は、基板を保持して移動可能な移動体の上面と投影光学系との間に局所的に液浸領域を形成し、投影光学系と液浸領域を形成する液体とを介して基板上に露光光を照射するとともに、露光光に対して基板を移動することによって、基板上の複数のショット領域のそれぞれを走査露光する露光方法である。 - 特許庁

This exposing apparatus EX includes: a measuring system M for performing measurement for controlling exposure via a first mark Rm positioned in an original plate stage RS and a second mark wm positioned in a substrate stage WS; and a control part CNT capable of setting a lightening condition different from a lightning condition under measurement by a measuring system M for exposing a substrate to a light.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光の制御のための計測を原版ステージＲＳに配置された第１マークＲｍと基板ステージＷＳに配置された第２マークｗｍとを使って行なう計測システムＭと、ある照明条件で基板の露光を行なうために計測システムＭによって計測が行なわれる際に当該照明条件とは異なる照明条件を設定可能な制御部ＣＮＴとを備える。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a semiconductor element having a plurality of electrodes formed on a first major surface, a resin layer formed while exposing the electrodes to the first major surface, and a resin layer exposing the semiconductor element at least at one position of a second major surface facing the first major surface on which the electrodes are formed wherein the resin layer on the second major surface is formed of photosensitive resin.例文帳に追加

第一主面に複数の電極が形成された半導体素子と、第一主面に前記電極が露出した状態で形成された樹脂層と、電極が形成された第一主面に相対する第二主面の少なくとも一箇所に半導体素子が露出した状態で樹脂層を形成したものであり、さらに第二主面に形成された樹脂層が感光性樹脂で形成されたものである。 - 特許庁

The pattern forming method includes a step of applying a photosensitive paste containing inorganic fine particles and organic components including a photosensitive compound as essential components, an exposing step, a developing step and a baking step, wherein a photosensitive paste whose total light transmittance with respect to 40 μm thickness at the exposure wavelength in the exposing step is ≥50% is used as the above photosensitive paste.例文帳に追加

無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストの塗布工程、露光工程、現像工程、および、焼成工程を含み、感光性ペーストとして、前記露光工程の露光波長における厚さ４０μｍあたりの全光線透過率が５０％以上である感光性ペーストを用いることを特徴とするパターン形成方法によって解決できる。 - 特許庁

An exposure device 3 is controlled so as to form an observation electrostatic latent image by lowering the turning speed of a photoreceptor drum 1 and also exposing the surface of the photoreceptor drum 1 by using one exposure light beam at the time of exposure adjustment control, and control to adjust the exposure of the exposure light beam is performed for each exposure light beam by observing the observation electrostatic latent image formed by exposing.例文帳に追加

露光量調整制御時には感光体ドラム１の回動速度を低下させると共に１つの露光光線を使用して感光体ドラム１表面を露光して観測用の静電潜像を形成するように露光装置３を制御し、この露光によって形成した観測用の静電潜像を観測して該露光光線の露光量を調整する制御を各露光光線について行なう。 - 特許庁

The flatness simulation system for mask substrate is characterized by being provided with a means for measuring the flatness of the substrate to acquire first information on the flatness of a major face of the mask substrate and a means for acquiring second information on the flatness of the major face by the simulation when the mask substrate is set at the exposing device from the first information and the information on the mask chuck structure of the exposing device.例文帳に追加

マスク基板の平坦度シミュレーションシステムは、マスク基板の主面の平坦性に関する第１の情報を取得する基板の平坦性を測定する手段と、前記第１の情報と露光装置のマスクチャック構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第２の情報を取得する手段とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an image exposure device for accurately exposing images with high resolution in a wide area, without the occurrence of an image distortion and irregularities in image due to a distortion of lenses for a collimating lens optical system and a focusing lens optical system in the case of imaging and exposing an image formed by a light source group on a recording medium through the collimating lens optical system and the focusing lens optical system.例文帳に追加

光源群により形成される画像をコリメートレンズ光学系とフォーカシングレンズ光学系を介して記録媒体上に結像して露光する際、コリメートレンズ光学系とフォーカシングレンズ光学系のレンズの歪曲収差によって生じる画像の歪みや画像のムラがなく、広い領域において高解像度で正確な露光を可能とする画像露光装置および画像露光方法を提供する。 - 特許庁

When device patterns 91a such as pixel electrodes of a liquid crystal device are to be patterned, a first exposure step of selectively exposing a region overlapping a first boundary region 99b extending in a first direction Y between the device patterns 91a, and a second exposure step of selectively exposing a region overlapping a second boundary region 99h extending in a second direction X between the device patterns 91a are carried out.例文帳に追加

液晶装置の画素電極等のデバイスパターン９１ａをパターニング形成する際、デバイスパターン９１ａの間で第１方向Ｙに延在する第１境界領域９９ｇと重なる領域を選択的に露光する第１露光工程と、デバイスパターン９１ａの間で第２方向Ｘに延在する第２境界領域９９ｈと重なる領域を選択的に露光する第２露光工程とを行う。 - 特許庁

Apertures 51A, 53A are formed on a part of the upper layer conducting layer and the interlayer insulating layer below the upper-layer conducting layer, and a chip-mounting part 23 of a bump connection system, which has a structure exposing the lower- layer conducting layer is formed.例文帳に追加

上層導電層とその下層の層間絶縁層の一部に開口（５１Ａ，５３Ａ）を形成して、下層導電層を露出させる構造としたバンプ接続方式のチップ実装部（２３）を形成する。 - 特許庁

The oblong FD case is formed with a notch on a side edge of the FD case on the opposite side to a terminal side connected to electronic equipment or other equipment, and is composed of a cover for exposing or hiding the notch.例文帳に追加

矩形のFDケースにおいて、該FDケースの電子機器又は他の機器に接続する端子側の反対側の側縁に切り欠きを形成し、この切り欠きを見せたり隠したりする蓋とからなることを特徴とするFDケース。 - 特許庁

By moving and exposing a mother mask 4 by scanning in the X direction and stepwise moving in the Y direction, a pattern region 9 of the mother mask 4 can be transferred onto the entire surface of the exposure region 11 of the mother substrate 10.例文帳に追加

マザーマスク４をＸ方向のスキャンとＹ方向のステップによって移動させて露光することにより、マスク基板１０における露光領域１１の全面に、マザーマスク４のパターン領域９が転写できる。 - 特許庁

After a terminal 4 is connected to a flat cable 1 exposing conductor foil at a terminal portion, positioning of the terminal portion 2 is performed, and a connecting portion 3 between the terminal portion 2 and the terminal 4 is held between waterproofing members 9 for crimping.例文帳に追加

該端末部の導体箔が露出したフラットケーブル１に端子４を接続した後、前記端末部２の位置決めを行い、端末部２と端子４との接続部３を防水部材９で挟み込んで圧着する。 - 特許庁

The method for manufacturing the flexible board comprises the steps of forming a metallic layer, forming a resist layer, exposing, developing, etching, removing the resist, and forming an insulating layer.例文帳に追加

本発明のフレキシブル基板の製造方法は、金属層形成工程と、レジスト層形成工程と、露光工程と、現像工程と、エッチング工程と、レジスト除去工程と、絶縁層形成工程とから構成されている。 - 特許庁

A cover (58) may be coupled to the support member (52) and may define a transparent window (38) exposing the sensor (36) to the subject of interest, wherein the catheter tip (26) may be coupled to the catheter (20) in the seal pocket (64).例文帳に追加

カバー（５８）は、支持部材（５２）に結合され、またセンサ（３６）を関心対象に曝露させている透明なウィンドウ（３８）を画定し、ここでカテーテル先端（２６）はシールポケット（６４）内でカテーテル（２０）に結合される。 - 特許庁

The cover housing 12 is engaged to a base housing 14 to be attached, the conductor exposing parts 100b are in contact with the contacts 13, and the flat cable 100 is pressed to the contacts 13 by the cover housing 12 to be held.例文帳に追加

カバーハウジング１２がベースハウジング１４に係合して取り付けられ、導体露出部分１００ｂがコンタクト１３に接触し、フラットケーブル１００がカバーハウジング１２によってコンタクト１３に対して押圧されて保持される。 - 特許庁

To provide a technique for accurately detecting the displacement or position of a leaf block by evading the influence of a backlash in the detection of the displacement or position of the leaf block relating to the technique of exposing a subject to radiation and performing treatment.例文帳に追加

被検体に放射線を曝射して治療する技術に関し、リーフブロックの変位又は位置の検出においてバックラッシュの影響を回避し、リーフブロックの変位又は位置を正確に検出する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a cable structure which can make a cable thinner in diameter by exposing a braided shield by providing a notched groove at the end section of a coating member coating the shield and connecting a grounding wire to the exposed portion of the shield.例文帳に追加

編組シールドを覆う被覆部材の端部に切欠溝を設けて編組シールドを露出し、この露出部分にアース線を接続することによって、ケーブルを細くできる電子内視鏡のケーブル構造を提供する。 - 特許庁

Therefore, a situation that the gas is produced from the inside of the optical system, acts on the optical element and deteriorates the optical characteristic of the optical element is prevented, and the desired exposing processing is accurately and appropriately performed.例文帳に追加

従って、光学系内部からガスが発生し、これが光学素子に作用して光学素子の光学特性を悪化させるのを防ぐことができ、所望の露光処理を高精度に適切に行うことができる。 - 特許庁

To form an aperture exposing a PAD (pad) in one process and to reliably measure the contact resistance by specifying the vertical position of the PAD, a contact hole or the like in an inspection element formation region.例文帳に追加

検査素子形成領域におけるＰＡＤ及びコンタクトホール等の垂直位置を規定することによって、ＰＡＤを露出させる開孔部を１工程で形成すると共に、確実なコンタクト抵抗の測定を可能にする。 - 特許庁

An opening is made in the first unpreferable growth layer by etching, such that the opening extends downward through the first unpreferable growth layer to the shading surface, thus exposing a part of the shading surface.例文帳に追加

第１の好適でない成長層内に開口をエッチングして、この開口が、第１の好適でない成長層を通ってシーディング表面まで下方に延び、これによって、シーディング表面の一部を露出させるようにする。 - 特許庁

The magnifier is freely attachably/detachably fitted to the rear end of the writing material by inserting the narrow width part of the magnifier to be attached to the writing material into the cavity part of the shaft cylinder and exposing the wide width part from the rear end of the shaft cylinder.例文帳に追加

前記筆記具装着用ルーペを、該筆記具装着用ルーペの小幅部を前記軸筒の空間部に挿入し、大幅部を軸筒の後端より露出させて、筆記具の後端に着脱自在に装着する。 - 特許庁

A through hole 16 is provided in the holding part 14 and an agent 18 of a chemical-exposing part 17 of the chemical-storing member 12 arranged in the inside of holding part 14 is diffused from the through hole 16 to the outside.例文帳に追加

そして、把持部１４には貫通孔１６が設けられており、把持部１４の内側に配置されている薬剤貯留部材１２の薬剤露出部１７の薬剤１８が貫通孔１６から外部へと拡散する。 - 特許庁

The support ring 2 has an opening 2a for a circular lens having a little smaller diameter than the outside diameter of the lens barrel 22, an opening 2b for light control for exposing a light control sensor 25 frontward, and a ring part 2c for ring stroboscope mounting.例文帳に追加

支持リング２は、レンズ鏡筒２２の外径よりやや小径円形のレンズ用開口２ａと、調光センサ２５を前方に露出させる調光用開口２ｂと、リングストロボ装着用リング部２ｃとを具備する。 - 特許庁