「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

The cosmetic method prevents the deformation and unevenness caused by exposing to routine external factors (such as sweat, water, friction, etc.) after applying sunscreen cosmetic, foundation cosmetic or makeup cosmetic on the skin.例文帳に追加

さらに、当該化粧方法によれば、日焼け止め化粧料、下地化粧料や、メーキャップ化粧料を皮膚に適用後の日常の外的要因（汗、水、摩擦等）によるヨレやムラを防ぐことができる。 - 特許庁

A dot is formed by exposing a region in a cell on a substrate by relatively stopping an incident position of an electron beam incident to a moving substrate by deflecting the electron beam.例文帳に追加

移動する基板に入射する電子線の入射位置を、電子線を偏向させることによって基板に対して相対的に停止させて、基板上のセル内の領域を露光してドットを形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes an exposure step of exposing a resist layer to linearly polarized light by using a phase shift mask 304 as a mask so as to form a circuit pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、位相シフトマスク３０４をマスクとして、半導体装置の回路パタンを形成するためにレジスト層を直線偏光光で露光する露光工程を含む。 - 特許庁

The sensitivity of the resist film to the active energy ray can be drastically enhanced and the productivity can be improved even a low exposing amount by raising the temperature of the resist film when the film is exposed.例文帳に追加

、露光時にレジスト膜の温度を高くすることによって、活性エネルギー線に対する感度を著しく向上させることができ、低露光量においても生産性を向上することができる。 - 特許庁

To provide a digital watermark embedding apparatus and digital watermark detecting apparatus, capable of constructing a system for efficiently exposing an illegal copy of content by utilizing a digital watermark having re-photography resistance.例文帳に追加

再撮耐性を有する電子透かしを活用してコンテンツの違法コピーを効率良く摘発するシステムを構築可能な電子透かし埋め込み装置及び電子透かし検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wireless messaging system that allows an originator to communicate a secure message between a subscriber unit and the originator, and authenticate the secure message without exposing contents or meaning of the message.例文帳に追加

発信者が加入者ユニットと発信者との間でセキュア・メッセージを通信し、メッセージの内容または意味を晒さずに、セキュア・メッセージを認証することを可能にするワイヤレス・メッセージング・システムを提供する。 - 特許庁

A pattern of the second lens is formed on a resist layer 13 by irradiating the first lens 1 with the UV light through the gray scale mask 23 and exposing a resist layer 13 with the light transmitted through the first lens.例文帳に追加

そして、グレースケールマスク２３を介して第１レンズ１に紫外光を照射し、第１レンズを透過した光でレジスト層１３を露光することで、レジスト層１３に第２レンズのパターンを形成する。 - 特許庁

The method for performing immersion lithography on a semiconductor substrate includes supplying a resist layer 14 on the surface of a semiconductor substrate 10 and exposing the resist layer 14 by using an immersion lithography exposure system 20.例文帳に追加

半導体基板上に液浸リソグラフィを行なう方法は、半導体基板１０の表面上にレジスト層１４を供給し、液浸リソグラフィ露光システム２０を使用して、このレジスト層１４を露光する。 - 特許庁

To provide a water bottom dredging method and its device in a solid foreign matter remaining water zone for dredging a water bottom on which a dangerous object remains efficiently and safely without exposing a worker to danger.例文帳に追加

作業者を危険に曝すことなく、危険物が残地されている水底の浚渫が効率よく、より安全になされる固形異物残存水域の水底浚渫方法及びその装置の提供。 - 特許庁

The semiconductor device according to the present embodiment includes an electrode (an electrode pad 7) and the insulating film (for example, a protective resin film 5) formed on the electrode and having an opening 5a for exposing the electrode.例文帳に追加

本実施形態に係る半導体装置は、電極（電極パッド７）と、電極上に形成され電極を露出させる開口５ａを有する絶縁膜（例えば、保護樹脂膜５）と、を有する。 - 特許庁

The step of selectively etching areas of the second region exposed by the discontinuous IrOx film includes exposing the substrate to an etchant that is more reactive with the second material than the IrOx.例文帳に追加

非連続的なＩｒＯｘ膜によって露出された第２の領域の範囲の選択的なエッチングは、ＩｒＯｘより第２の材料とよく反応するエッチャントに基板をさらすことを含む。 - 特許庁

To provide an interferometer capable of measuring an aspheric shape with the same accuracy as that of a sphere and measuring various face shapes, and provide a semiconductor exposing device, using an optical element which uses the interferometer.例文帳に追加

非球面の形状を球面と同じ精度で測定が可能で、かつ種々の面形状の測定に対応できる干渉計及びそれを用いた光学素子を用いた半導体露光装置を得ること - 特許庁

To provide an electron beam exposing method, with which sufficient accuracy in overlapping can be provided by correcting the position of an electron beam corresponding to an electron beam position drift quantity reflected with the charge-up of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハのチャージアップを反映した電子線位置ドリフト量による電子線の位置補正を可能にし、十分な重ね合わせの精度を得ることのできる電子線露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a website management method and an online system with which target advertisement for exposing advertisement on pages related to wide keywords which are not biased on some popular search words is made possible.例文帳に追加

一部の人気検索語に偏重しない広範なキーワードと関連したページに広告を露出することができるターゲット広告が可能なウェブサイトの運営方法及びオンラインシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a corrosive liquid capable of exposing precisely and easily an austenitic grain boundary of a boron steel or a quenching material for a high-carbon chromium bearing steel or the like instead of a conventional corrosive liquid.例文帳に追加

従来の腐食液に代えて、ボロン鋼あるいは高炭素クロム軸受鋼の焼入材などのオーステナイト結晶粒界の顕出を的確にかつ容易に行える腐食液を提供することである。 - 特許庁

To provide a light emitting device the luminous efficiency of which can be increased by exposing the tips of carbon fibers on a cathode electrode and properly arranging the direction of the carbon fibers in the direction going toward an anode electrode.例文帳に追加

カーボン繊維の先端をカソード電極上に露出させて、該カーボン繊維の向きをアノード電極に向かう方向に揃えて、発光効率を高くすることができる発光装置を提供する。 - 特許庁

To ensure good reproducibility for various image patterns without requiring control of exposing energy and to prevent deterioration of image quality due to wear of a photosensitive material without sacrifice of image reproducibility.例文帳に追加

、露光エネルギ制御を行うことなく種々の画像パターンについて良好な再現性を両立し、画像再現性を低下させることなく感光体の磨耗による画質の劣化を防止する。 - 特許庁

Then, the bottom of the groove is etched for exposing the conductive layer, and a conductive material is selectively grown in the groove with the conductive layer as an electrode for plating for forming a blanking electrode 308.例文帳に追加

次いで、溝の底をエッチングして導電層を表出させ、それをメッキ用電極として溝内に選択的に導電材を成長させることによりブランキング電極３０８を形成する。 - 特許庁

The method for producing the antibacterial resin molded product is characterized by exposing the surface of a resin molded product in which a resin composed of a repeating unit of ethylene vinyl alcohol is contained in the surface to radiation.例文帳に追加

エチレンビニルアルコールの繰り返し単位からなる樹脂が表面に含有された樹脂成型体の表面に放射線照射することを特徴とする抗菌性樹脂成形体の製造方法。 - 特許庁

After the semiconductor substrate is etched, Fe and Cr contaminants adhering to the surface of the substrate are removed by exposing the substrate to a plasma of chlorine gas or a mixed gas of chlorine and oxygen.例文帳に追加

半導体基板のエッチング処理後に、塩素の単独ガスあるいは塩素と酸素の混合ガスのプラズマに半導体基板を晒し、半導体基板表面に付着したＦｅ，Ｃｒ汚染を除去する。 - 特許庁

A magnetic layer 51 containing at least one kind of elements selected from a group including iron, cobalt and nickel and a mask pattern 52 exposing the etching area 51E of the magnetic layer 51 are formed on a substrate S.例文帳に追加

基板Ｓ上に、鉄、コバルト、ニッケルからなる群から選択される少なくとも一種の元素を含有した磁性層５１と、磁性層５１のエッチング領域５１Ｅを露出するマスクパターン５２を形成する。 - 特許庁

To provide a bath water filtration device capable of conducting thermal sterilization by exposing a filtration tub to hot water needed for the thermal sterilization supplied from the outside and returning the hot water to a bathtub effectively.例文帳に追加

外部から熱殺菌に必要な高温湯を供給され、その高温湯に濾過槽を暴露して熱殺菌し、その高温湯を有効に浴槽に戻すことができる濾過装置を提供する。 - 特許庁

To hold papers, etc., by surely fixing a binding means without exposing a fixing means to the outer face of a cover and to improve appearance of a filing tool without decreasing filing function.例文帳に追加

表紙の外面に固定手段を露出させることなく綴じ込み手段を確実に固定して用紙等を保持し、ファイリング機能を低下させることなくファイリング用具の見栄えを向上させる。 - 特許庁

Further, provided are a manufacturing method of cutting the liquid crystal panels in contact with each other through a single scribing process and an exposing method for the liquid crystal panels in which adjacent liquid crystal panel couples are repeatedly exposed.例文帳に追加

さらに、相互に接触する液晶パネルを、一度のスクライビング工程で切断する製造方法と、隣接する液晶パネルカップル間を、重複露光する液晶パネルの露光方法を提供する。 - 特許庁

The main ashing process includes exposing a previously etched dielectric layer to plasma (48) of hydrogen (50) and optional nitrogen (54), a larger amount of water vapor (60), and further a large amount of argon (80) or helium.例文帳に追加

メインアッシング工程は、水素（５０）及び任意の窒素（５４）、大量の水蒸気（６０）、更に大量のアルゴン（８０）又はヘリウムのプラズマ（４８）に、予めエッチングしておいた誘電体層を露出することを含む。 - 特許庁

A via-hole insulating film 360 provided with a via-hole 360a exposing either one of the source electrode or the drain electrode 330 is positioned on the source electrode and the drain electrode 330.例文帳に追加

前記ソース電極とドレイン電極３３０上に前記ソース電極とドレイン電極３３０のうちいずれか一つを露出させるビアホール３６０ａを有するビアホール絶縁膜３６０が位置する。 - 特許庁

Processes for forming porous low-k dielectric materials from low-k dielectric films containing a porogen material include exposing the low-k dielectric film to ultraviolet radiation.例文帳に追加

ポロゲン材料を包含する低ｋの誘電体フィルムから多孔性の低ｋの誘電体材料を形成するプロセスが、紫外線照射へ低ｋの誘電体フィルムを露光することを含んでいる。 - 特許庁

(c-1) Hydrogen fluoride is produced by exposing the insulation film 103 to water vapor 105 and reacting fluorine existing excessively in the insulation film 103 and hydrogen of the water vapor 105.例文帳に追加

（ｃ−１）上記絶縁膜１０３を水蒸気１０５にさらし、絶縁膜１０３の膜中に過剰に存在するフッ素と水蒸気１０５の水素とを反応させてフッ化水素を生成する。 - 特許庁

This porous material has a C-F bond introduced, for example, by exposing at least the surfaces of at least part of carbon fibers constituting a carbon felt to low temperature plasma of a fluorine-containing gas.例文帳に追加

多孔質材料は、カーボンフェルトを構成する少なくとも一部のカーボン繊維の、少なくとも表面を、例えば含フッ素ガスの低温プラズマに曝露させる等してＣ−Ｆ結合を導入した。 - 特許庁

After exposing the greater trochanter, a new instrument is utilized to form a cavity in the femur extending from the greater trochanter into the femoral head and further extending from the greater trochanter into the intramedullary canal of the femur.例文帳に追加

大転子を露出した後、大転子から大腿骨頭へ延びさらに大転子から大腿骨骨髄内管へ拡がる空洞を大腿骨に形成するために本発明の新規の器具が利用される。 - 特許庁

To provide a system and method for managing an online record store capable of arousing site visitors' interest to purchase a record by increasing opportunities of exposing an album and continuously providing album information.例文帳に追加

アルバムの露出機会を増加させて、アルバム情報を連続的に提供してサイト訪問者の音盤購買欲求を増加させ得る、オンライン音盤ショップの運営システム及び方法を提供する。 - 特許庁

Next, after an organic semiconductor is formed, a protective film having a contact hole for exposing the drain electrode is formed and a pixel electrode to be coupled to the drain electrode via the contact hole is formed.例文帳に追加

次に、有機半導体を形成した後、ドレイン電極を露出する接触孔を有する保護膜を形成し、接触孔を通じてドレイン電極と連結される画素電極を形成する。 - 特許庁

A plurality of electrode openings 5 for exposing electrodes 3 respectively and a relief opening 6 continued to the electrode openings 5 are formed on the solder resist film 4 of a packaging board 1.例文帳に追加

実装基板１のソルダレジスト膜４には、各電極部３を個別に露出させるための複数の電極開口部５と、各電極開口部５に連続する逃がし開口部６とが形成されている。 - 特許庁

A titanium-containing member in contact with a liquid which is used when exposing a substrate through the liquid includes a titanium oxide film formed by artificially oxidizing a surface of the titanium-containing member.例文帳に追加

液体を介して基板を露光する際に用いる、前記液体と接するチタン含有部材であって、前記チタン含有部材の表面が人工的に酸化されて形成された酸化チタン膜を備える。 - 特許庁

A photo resist pattern formation process of forming the photo resist pattern by exposing the photo resist film 18 in a pattern form and further developing the photo resist film 18 is performed separately two or more times.例文帳に追加

そして、フォトレジスト膜１８をパターン形状に露光し、更に、フォトレジスト膜１８を現像することによりフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程を、２回以上に分けて行う。 - 特許庁

The semiconductor device of the present invention can be manufactured by exposing the surface of the aluminum-based wiring to vapor of an organic silane compound capable of covalent binding with a hydroxyl group before encapsulation by a resin and the like.例文帳に追加

本発明の半導体デバイスは、樹脂等の封止前にアルミニウム系配線の表面を水酸基と共有結合可能な有機シラン化合物の蒸気に曝すことにより製造することができる。 - 特許庁

The letterpress can be used by exposing a new surface film with no damage by removing the damaged or swelled film in the case the surface film is damaged or swelled.例文帳に追加

その表面のフィルムが損傷を受け、あるいは膨潤した場合には、そのフィルムを剥離除去することにより、損傷のない新たな表面フィルムを露出して、凸版を使用することが可能となる。 - 特許庁

Anode electrodes 3 as ITO and a low-resistance layer 4 made of aluminum and for exposing the anode electrodes 3 at the only light-emitting area are laminated on one surface of a first glass board 2.例文帳に追加

第１ガラス基板２の一方の表面上に、ＩＴＯでなるアノード電極３と、このアノード電極３を発光領域のみで露呈される、アルミニウムでなる低抵抗層４が積層されている。 - 特許庁

The phase shifting mask has a mask substrate substantially transparent to the energy beam used and a patterned phase shifting layer disposed on the mask substrate and having openings therein exposing the mask substrate.例文帳に追加

この位相シフト・マスクは、使用されるエネルギー・ビームに対しほぼ透明なマスク基板と、マスク上に付着されマスク基板を露出させる開口をその中に有するパターン化された位相シフト層とを備える。 - 特許庁

The phenomenon of UVA-caused darkening of the skin caused by melanin formed by directly exposing colorless and transparent melanin monomer produced by melanocytes existing at the epidermis stratum basale with the UVA is found out.例文帳に追加

表皮基底層に存在するメラノサイトが生成した無色透明なメラニンモノマーに直接ＵＶＡがあたることにより生成されるメラニンに起因するＵＶＡ由来の皮膚の黒化現象を見出した。 - 特許庁

Since a surface area acting as a catalyst is large, and the proportion of the catalyst particles exposing the crystalline planes on their surfaces is large, an electrode catalyst body having high oxygen reducing activity can be obtained.例文帳に追加

触媒として作用する表面積が大きく、かつ表面に（１００）結晶面が表れている触媒粒子の割合が大きいため、酸素還元活性の高い電極触媒体となる。 - 特許庁

The porous state of the transparent substrate continuously varies along the etching depth by exposing the surface of the transparent substrate to plasma composed of a hydrocarbon compound containing, for example, fluorine atoms.例文帳に追加

透明基板の多孔質化状態は、透明基板の表面を例えば弗素原子を含む炭化水素化合物からなるプラズマ中に暴することによって、エッチング深さ方向に連続的に変化する。 - 特許庁

Moreover, while materials and energy issues are exposing the emergence of bottlenecks to economic growth, it has also been pointed out that the enhancement of investment curbing policies by the government has resulted in a rampant increase in demand.例文帳に追加

さらに、素材・エネルギーを中心に経済成長のボトルネックの発生が顕在化する一方で、政府による投資抑制強化の方針が伝わる中、駆け込み的な需要が拡大したとの指摘もある。 - 経済産業省

To provide the corner bead without having risk of exposing an edge part of ceiling side cloth, by surely arranging the ceiling side cloth not only on an under surface of a ceiling material but also up to the side surface side.例文帳に追加

簡易な施工で、天井側クロスを天井材の下面のみならず側面側まで、確実に配設することができ、天井側クロスの端縁部が露出する恐れのない見切縁を提供する。 - 特許庁

An exposure device decides which of parameter files to be used for exposing processing should be deleted based on the final use time of each parameter file and the number of times of access to each parameter file (S10).例文帳に追加

露光装置において露光処理に用いるパラメータファイルのうちの消去するものを、各パラメータファイルの最終使用時刻または各パラメータファイルに対するアクセス回数に基づいて決定する（Ｓ１０）。 - 特許庁