「Exposing」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

The method makes it possible to form differential staining by making a first image of the sample through exposing the sample to a first staining agent and by making an image of the sample through additionally staining the sample with a second staining agent.例文帳に追加

本方法は、第1染色剤に試料をさらして試料の第1画像を作り、第2の染色剤に追加的染色して、試料の画像を作ることにより、差異的な染色を形成することが可能となる。 - 特許庁

In addition, since a fiber array light source and a bundle fiber light source with higher brightness can be constituted by using the combining frequencies laser light source, the solid image recorder is especially suitable for exposing film such as hologram film 38 with low sensitivity.例文帳に追加

また、合波レーザ光源を用いることにより、より高輝度なファイバアレイ光源やバンドルファイバ光源を構成することができるので、ホログラムフィルム３８のように感度の低いフィルムを露光するには特に好適である。 - 特許庁

Further, by setting the average particle size of the lubricant to 8% or less of the pore diameter of the nozzle 2a, it is possible to prevent the lubricant from exposing from the nozzle to cause flash or processing failure when the nozzle is formed by laser processing.例文帳に追加

また、滑剤の平均粒径をノズルの孔径の８％以下とすることにより、レーザー加工によりノズルを形成した場合に、ノズルから滑剤が露出し、バリや加工不良となるのを防止することができる。 - 特許庁

To prevent the lowering of the throughput of an aligner while preventing exposing work from being hindered by fine dust adhering to a reticle (mask) used for EUV lithography after the reticle (mask) is introduced into the aligner.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィに用いられるレチクル（マスク）を露光装置内に導入した後に、レチクルに微細なゴミが付着することにより露光作業に支障をきたすことを防ぎつつ、露光装置のスループット低下を防止する。 - 特許庁

To provide a ceiling structure of a concrete structure building capable of transferring or adding luminaire and communication equipment with a high degree of freedom without exposing electric and communication wires while ensuring a height of a ceiling.例文帳に追加

天井高を確保しつつ電気・通信配線を露出させることなく照明器具や通信機器の移設または増設を高い自由度で行うことができるコンクリート構造建築物の天井構造を提供する 。 - 特許庁

After a silicon oxide film 12 is formed so as to coat the silicon gate electrodes 6a, 6b, the surface of the silicon oxide film 12 is polished by a CMP (Chemical Mechanical Polishing) method, thereby exposing surfaces of the silicon gate electrodes 6a, 6b.例文帳に追加

そして、シリコンゲート電極６ａ、６ｂを覆うように酸化シリコン膜１２を形成した後、酸化シリコン膜１２の表面をＣＭＰ法で研磨することにより、シリコンゲート電極６ａ、６ｂの表面を露出する。 - 特許庁

To enhance processing capability of a plasma processing device for jetting a processing gas from a blowout port through a discharge space and for exposing a processing object to the jetted gas while relatively moving it with respect to the discharge space.例文帳に追加

処理ガスを放電空間に通して吹出し口から吹出すとともに、被処理物を前記放電空間に対し相対移動させながら前記吹出しガスに当てるプラズマ処理装置における処理能力を高める。 - 特許庁

The current impact generation timing is predicted from at least one of a release start signal, an exposing signal, a photographing condition and the impact generation timing stored the last time, and impact removal is performed at the predicted timing.例文帳に追加

レリーズ開始信号、露光中信号、撮影条件、前回記憶した衝撃発生タイミングのうちの少なくとも１つから今回の衝撃発生タイミングを予測し、そのタイミングで衝撃除去処理を行う。 - 特許庁

Each magnet rolling body 14 (17) comprises three magnet grains buried in a ceramic ball while exposing the face of S pole (N pole) different from the N pole (S pole) of the turbulence chamber 7, 8.例文帳に追加

各磁石転動体１４（１７）は乱流室７、８の極性Ｎ極（Ｓ極）と異なる磁極Ｓ極（Ｎ極）面を露出した状態で３個の磁石粒をセラミックスの球体に埋設したものからなる。 - 特許庁

Then, the operation of the operation dial is made easy to operate and its operability is improved by turning the turntable 22 to a position corresponding to an operation mode and exposing only the operation switch needed in the operation mode in an operable way.例文帳に追加

そして、前記回転板２２を動作モードに応じた位置に回転させ、その動作モードで必要な操作スイッチのみを操作可能に露出させることにより、操作を分かりやすくし操作性の向上を図っている。 - 特許庁

The pattern forming method includes: (a) forming a film using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film; and (c) processing the exposed film using an organic processing liquid.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、（ａ）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成することと、（ｂ）前記膜を露光することと、（ｃ）有機系処理液を用いて前記露光された膜を処理することとを含んでいる。 - 特許庁

In addition, the cover member 13 slides axially with a cylindrical part 14 of the aerosol container, and is equipped with a jetting window 43 for exposing the jetting hole 37 and an operating window 44 for operating the jetting member 12.例文帳に追加

また、カバー部材１３はエアゾール容器の円筒部１４と軸方向に摺動し、噴射孔３７を露出させるための噴射窓４３と、噴射部材１２を操作するための操作窓４４とを備えている。 - 特許庁

To prevent resist breakdown to obtain anisotropic patterns, without fail on etching-target films and to control the sizes of the patterns, in etching processes in which resist patterns formed of resist material for exposing to an ArF excimer laser are used.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ感光用のレジスト材からなるレジストパターンを用いるエッチング工程において、レジスト倒れを防止して被エッチング膜に異方性形状を確実に得ると共に、パターン寸法を制御できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive path, by which conductive paths such as interconnections and electrodes can be easily formed without exposing a substrate to a high temperature and vacuum state, and the productivity can be improved.例文帳に追加

基板を、高温かつ真空の状態に曝すことなく、簡単に配線および電極などの導電路を形成することができ、かつ生産性を向上することができる導電路形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk original plate exposing device capable of performing stable exposure processing for a long time by reducing a detection error of focus light caused by base deformation resulting from temperature change.例文帳に追加

温度変化によって生じるベースの変形による、フォーカス光の検出誤差を減少させることができ、長時間の安定した露光処理が可能となる光ディスク原盤露光装置を提供することにある。 - 特許庁

A step for drying at least an alignment layer under reduced pressure or under an inert gas atmosphere is provided before two substrates are stuck to each other and then sticking is performed without exposing the alignment layer to the atmosphere.例文帳に追加

２枚の基板を貼り合わせる前に、少なくとも配向膜を減圧下若しくは不活性ガス雰囲気下で乾燥する工程を設け、そのまま大気に曝すことなく前記貼り合わせまで行なうようにする。 - 特許庁

An image forming device comprises a plurality of light sources LD1-LD8 and a polygon mirror for deflection-scanning light beams output from the plurality of light sources, and performs an image formation by exposing a photoreceptor with these light beams.例文帳に追加

画像形成装置は複数の光源ＬＤ１〜ＬＤ８と、複数の光源から出力された光ビームを偏向走査するポリゴンミラーとを有し、これら光ビームによって感光体を露光して画像形成を行う。 - 特許庁

To provide a vertically moving laundry pole which allows wet and heavy laundry articles and laundry articles hung on a hanger to be easily hung on the laundry pole at a low position and is moved to a high position for exposing the laundry articles to the sun and wind.例文帳に追加

濡れて重い洗濯物や重いハンガーに掛けた洗濯物などを竿に低い位置にて楽に掛け、該竿を高い位置に移動させて太陽光や風に晒せる昇降式物干し竿を提供する。 - 特許庁

To provide a displacement correcting device correctly calculating the exposure displacement amount even in the case where an exposing device is deformed, while restraining production cost rise, and also to provide an image forming apparatus having the same.例文帳に追加

製造コストの上昇を抑制するとともに、露光器の変形が発生しても露光位置ずれ量を正しく演算することが可能な位置ずれ補正装置及びそれを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a toner which has satisfactory fixability by exposing wax to its surface, and in which the generation of the pollution of a member by the transfer of wax to a photosensitive body can be suppressed by reducing the abundance of the wax in the vicinity of the surface.例文帳に追加

ワックスをトナー表面に露出させることで良好な定着性を有し、かつ表面近傍のワックス存在量を減らすことによりメダカの発生を抑制することができるトナーを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an opening with high accuracy in an insulating film obtained by curing a prepreg including a reinforcing material in a step of exposing a terminal portion sealed with the insulating film, with the use of a means other than laser beam irradiation.例文帳に追加

補強材を含むプリプレグを硬化した絶縁膜で封止された端子部を露出する工程において、レーザビームの照射以外の手段で、この絶縁膜に開口を精度良く形成する方法を提供する。 - 特許庁

The light emitting device further includes the resin portion 3 supporting the first lead terminal 10 and second lead terminal 20, and having a cavity 6 for exposing a part of the second lead terminal 20 and a mounting region of the first lead terminal 10.例文帳に追加

さらに、第１リード端子１０および第２リード端子２０を支持し、第２リード端子２０の一部および第１リード端子１０の実装領域を露出させるキャビティ６が形成された樹脂部３を備えている。 - 特許庁

A liquid crystal display part 1 is provided over a wide range at the upper half of the front surface of a casing, and a communication part 2 for exposing the non-contact IC card and performing communication is provided in the area of the lower half of the front surface side.例文帳に追加

筐体の正面の上側半分の広範囲に亘って液晶表示部１を設け、正面側の下側半分の領域に非接触ＩＣカードをかざして通信するための通信部２を設ける。 - 特許庁

To provide a mobile electronic apparatus capable of exposing a display region by specifying an exposure area of a display part, and adjusting a display condition of an image displayed in the display region.例文帳に追加

表示部の露出面積を指定して表示領域を露出させると共に、表示領域に表示される画像の表示状態を調整することができる携帯電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a grid substrate for a lead-acid battery which has a good filling property of a paste-type active material on the opposite side of a filling surface without exposing an inside frame, as well as the lead-acid battery using the same.例文帳に追加

内側の骨が露出することなく、充填面と反対側へのペースト状活物質の、良好な充填性を持つ、鉛蓄電池用格子基板及びこの格子基板を用いた鉛蓄電池を、提供する。 - 特許庁

A fusible part cover 10 for a fuse unit blocks both surfaces of a window part for exposing a fusible part to the outside, wherein a plurality of hinge parts 12 are provided at an interval in a length direction, and the cover can be folded in a position of each hinge part 12.例文帳に追加

可溶部を露出させる窓部の両面を閉塞するヒューズユニットの可溶部カバー１０であって、長さ方向に間隔を置いて複数のヒンジ部１２が設けられ、各ヒンジ部１２の位置で折り曲げ可能である。 - 特許庁

One end of the elastic member is elastically abutted on the body, and other end of the elastic member is elastically abutted on the blade to provide elastic force for exposing the blade from the body.例文帳に追加

前記弾性部材の一端は前記本体に弾性的に当止され、前記弾性部材の他端は前記刀身に弾性的に当止されて前記刀身を前記本体から露出させる弾性力を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure, a cured pattern forming method and a cured pattern which are suitably used in a liquid immersion exposure process for exposing a resist film via a liquid for liquid immersion exposure such as water.例文帳に追加

水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。 - 特許庁

The metallic panel is provided with a slit for exposing the exposed portion; an inner peripheral edge of the slit is raised inside to form a rising edge; and the rising edge is inserted into the groove.例文帳に追加

前記金属パネルは、前記露出部を露出させるためのスリットを有するとともに、このスリットの内周縁が内側に立ち上げられて起立縁を形成しており、この起立縁が前記溝部に挿入されるようにした。 - 特許庁

The image forming apparatus has: an image carrier 10Y for carrying an image; a charging section 11Y for charging the image carrier 10Y; an exposure section 12Y for exposing the image carrier 10Y; and a developer storage section for storing liquid developer containing toner and carrier liquid.例文帳に追加

像を担持する像担持体１０Ｙと、像担持体１０Ｙを帯電する帯電部１１Ｙと、像担持体１０Ｙを露光する露光部１２Ｙと、トナーとキャリア液を含む液体現像剤を貯留する現像剤貯留部。 - 特許庁

Concretely, by means that the lid is overhung from the cabinet 1 at the position of exposing the opening part 3 and that the lid 2 is pushed into the opening part 3 at the position to close the opening part 3, the lid 2 is brought into the same plane as that of the cabinet 1.例文帳に追加

具体的には、開口部３を露出させる位置で筐体１より蓋２が出っ張り、開口部３を塞ぐ位置で蓋２を開口部３内に向け押し込むことで、蓋２が筐体１と平面になる。 - 特許庁

A sheet material whose end is colored is inserted between front and back sheets, and while exposing this colored end to side edge surface of the card, this exposed part is located in a position deviated from the center of the card by planar view.例文帳に追加

表裏のシートの間に端部が着色されたシート材料を挟み、この着色端部をカードの側縁面に露出させると共に、この露出部位を平面視でカードの中央から偏った位置に位置させる。 - 特許庁

A through-hole 8 is formed in the internal pressure explosion-proof container 2 for exposing the connector 25 from the internal pressure explosion-proof container 2 and a connector casing 11 is fixed so as to cover this through-hole 8.例文帳に追加

このコネクタ２５を内圧防爆用容器２から表出させるために内圧防爆用容器２には、貫通孔８が形成されており、またこの貫通孔８を塞ぐようにコネクタ用ケーシング１１が固定されている。 - 特許庁

The barriers 40, 100 can collect any liquid which is spilt from a liquid supply system during exposing the substrate W to reduce the risk of contamination of delicate components of a lithographic projection apparatus.例文帳に追加

障壁４０、１００は基板Ｗを露光している間に液体供給システムからこぼれるすべての液体を収集することができるため、リソグラフィック投影装置の繊細なコンポーネントを汚染する危険が減少する。 - 特許庁

A holding frame 2 is rotatably mounted on the circumference of a xenon radiation source 4 within an exposing chamber 1, and the xenon radiation source 4 is located on a cylinder or a rotating shaft, and a filter 5 is provided around it.例文帳に追加

保持フレーム２が暴露チャンバ１の内部においてキセノン放射源４の周りに回転可能に取り付けられ、そのキセノン放射源４は円筒または回転軸上に位置し、フィルタ５がその周りに設けられる。 - 特許庁

In giving vertically folding treatment to the W1, W2, the elongating operation of the extensible rod of the extensible motion actuator 32 and the operation of exposing the slitter knife from the inclined face 74 are stopped to make the W1, W2 travel.例文帳に追加

Ｗ１、Ｗ２の縦折り処理の際には伸縮動アクチュエーター３２の伸縮ロッドを伸長動作とスリッターナイフを傾斜面７４から露出させるための動作を中止してＷ１、Ｗ２を走行させる。 - 特許庁

The target signals are generated from target values 42 that are inputted into the feedback controller 40 by exposing the light source 50 to the target light source 58 and observing the output from a set of photodetectors (51-53) incorporated in the light source.例文帳に追加

目標信号は、光源(50)を目標光源(58)にさらし、光源内に組み込まれた一組の光検出器(51-53)からの出力を観測することにより、フィードバックコントローラに入力される目標値(42)から生成される。 - 特許庁

The case 14 for slidably storing the camera body 12 is constituted of a case body 16 with an opening 22 for exposing the lens 23 of the camera body 12 formed, and a sheet-like barrier plate 18 for covering the opening 22.例文帳に追加

ケース１４は、カメラ本体１２をスライド移動可能に収納し、カメラ本体１２のレンズ２３を露出させる開口２２が形成されたケース本体１６と、開口２２を覆う板状のバリアプレート１８と、で構成される。 - 特許庁

To provide a sliding door device capable of ensuring excellent design of a cabinet without exposing a rail even when a sliding door is opened in the sliding door device equipped with an outset type overhang sliding door for the cabinet.例文帳に追加

キャビネット用のアウトセット式で上吊り式の引戸を備えた引戸装置において、引戸の開放時であってもレールが露出せず、キャビネットの良好な意匠性を確保することができる引戸装置を提供する。 - 特許庁

To provide a projection optical system bringing about a desired focusing function by suppressing variation in focusing function in the exposing region of an optical system due to intrinsic birefringence, and to provide an aligner and a process for fabricating a device.例文帳に追加

真性複屈折に起因する光学系の露光領域内に生じる結像性能のばらつきを低減して所望の結像性能をもたらす投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide stable scanning movement of a carriage loaded with an optical member without generating image blurs due to vibration at the time of exposing, scanning and moving an original, to reduce the size of the image reader body and to prevent the generation of noise at the time of scanning movement.例文帳に追加

原稿の露光走査移動時、振動による画像ぶれを生じる事無く光学部材を搭載するキャリッジを安定に走査移動すると共に、装置本体を小型化し、走査移動時の騒音を防止する。 - 特許庁

In a highly accurate high-resolution part in which a pixel, a black matrix or the like is narrow, a negative resist 41 is applied on the surface of the substrate 21 of printing plate and, by exposing and developing the applied resist, a fine line pattern is formed.例文帳に追加

画素、ブラックマトリクスなど幅が小さく高精細な高解像度部分においては、印刷版用基板２１の表面上にネガレジスト４１を塗布し、これを露光、現像することによって細線パターンを形成する。 - 特許庁

The diffraction optical element having cyclic step shape is manufactured by repeating a series of processes for exposing and developing a base plate 1 coated with a resist 2 by using a mask so as to form a resist pattern, and for etching it.例文帳に追加

マスクを用いてレジスト２が塗布された基板１を露光，現像してレジストパターンを形成し，エッチングする一連のプロセスを繰り返して，周期的な階段形状を有する回折光学素子を製造する。 - 特許庁

The volume resistivity of the body consisting essentially of aluminum nitride is reduced by exposing the body to a soak temperature of at least about 1,000°C in an atmosphere deficient in nitrogen, such as an atmosphere consisting essentially of argon.例文帳に追加

窒化アルミニウムからなる物体の体積比抵抗を、アルゴンからなる雰囲気のような、窒素が不足している雰囲気中で少なくとも約１０００℃の浸漬温度にその物体を曝すことにより低減される。 - 特許庁

Since a mark formation trace is not given to the substrate differently from a conventional constitution, manufacturing of the pirated disk by exposing the surface of the substrate and transferring the physical shape thereof can be prevented.例文帳に追加

従来の構成のように基板に対してマーク形成痕が与えられないので、基板表面を表出させてその物理形状を転写することによる海賊版ディスクの製造を防止することができる。 - 特許庁