「Exposure Control System」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an improved exposure sensing and control system, which avoids or reduces the already-known problems associated with an energy sensor and an exposure control system.例文帳に追加

既知のエネルギ・センサおよび露光量制御システムの問題を回避または軽減する、改良された露光量検知および制御システムを提供する。 - 特許庁

In this electron beam exposure system, the exposure control data are developed to have the plural dot control data reproduced, and exposure can be executed by controlling a blanker, based on the reproduced dot control data.例文帳に追加

電子ビーム露光装置では、この露光制御データを展開して複数のドット制御データを再生し、再生したドット制御データに基づいてブランカを制御しながら露光を実行する。 - 特許庁

To provide an exposure system and an exposure method which carries out positional control on a stage device more precisely.例文帳に追加

ステージ装置の位置制御をより精密に行うことが可能な露光装置及び露光方法を提供すること。 - 特許庁

When the variation of the luminance is equal to or above a predetermined value, it is controlled to become an appropriate exposure value by changing an exposure system by an exposure control system changing circuit 15.例文帳に追加

その輝度変化量が所定値以上であった場合、露出制御方式変更回路１５によって露出方式を変更し、適切な露出値になるように制御する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR EXPOSURE SYSTEM, CONTROL METHOD THEREFOR, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体露光装置及びその制御方法、並びに半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

CONTROL METHOD FOR LIGHT QUANTITY OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, EXPOSURE SYSTEM, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

半導体発光素子の光量制御方法、露光装置及び画像形成装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC EQUIPMENT, EXPOSURE CONTROL SYSTEM, ELECTRONIC COMPONENT, AND METHOD OF MANUFACTURING THE COMPONENT例文帳に追加

電子装置の製造方法、露光制御システム並びに電子部品及びその製造方法 - 特許庁

To transmit and back up control parameters of a semiconductor exposure system efficiently.例文帳に追加

半導体露光装置における制御パラメータを効率的に配信およびバックアップする。 - 特許庁

In this method, each system contains a movable workpiece stage and a stroboscopic lighting apparatus which can control the exposure time.例文帳に追加

各システムは、可動ワークステージと、露光時間を制御可能なストロボ照明装置を含む。 - 特許庁

The main control system 20 provides focusing control by controlling an actuator, based on the focusing control data in exposure map data.例文帳に追加

また、主制御系２０は、露光マップデータ内の合焦制御用データに基づいて、アクチュエータを制御して合焦制御を行う。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system capable of shortening a time of waiting deflection control only in exposure of a specific pattern without remarkably revamping a conventional electron beam exposure system.例文帳に追加

従来の電子線露光装置に大幅な改造を加えることなく、特定のパターンの露光時にのみ偏向制御待ち時間を短くすることが可能な電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure system and an exposure method capable of correcting a light volume precisely without complicating a control circuit.例文帳に追加

制御回路を複雑化することなく、精度よく光量補正を行うことができる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

A system controller 50 executes an exposure control operation suitable for a high-speed consecutive photographing mode and a low-speed consecutive photographing mode by starting up the exposure control program used exclusively for the consecutive photographing corresponding to a prescribed exposure control mode.例文帳に追加

システムコントローラ５０は、所定の露出制御モードに対応する連写専用の露出制御プログラムを起動し、高速連写モードや低速連写モードなどに適した露出制御動作を実行する。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system which can reduce the memory of an electron beam exposure device and can eliminate the transfer of pattern data and conversion to control data for each electron beam exposure device.例文帳に追加

電子ビーム露光装置のメモリを軽減でき、電子ビーム露光装置毎のパターンデータの転送及び制御データへの変換をなくす電子ビーム露光システムを提供できる。 - 特許庁

To provide an exposure system which requires only a unique sensitometric control patch for a photographic element.例文帳に追加

写真素子に対して唯一の感光性コントロールパッチを使用するだけよい、露光システムの提供。 - 特許庁

METHOD TO CONTROL SEQUENCE OF MEASUREMENT STEPS FOR ALIGNING A SEMICONDUCTOR WAFER IN EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

露光装置において半導体ウェハをアライメントするための測定ステップのシーケンスを制御する方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR SERVICE PROVIDER TO CONTROL EXPOSURE TO NON-PAYMENT BY SERVICE USER例文帳に追加

サービス利用者による不払いに曝されることを管理する、サービスプロバイダの方法およびシステム - 特許庁

LIGHTING APPARATUS USING PLURALITY OF LIGHT SOURCES, LIGHTING CONTROL DEVICE AND METHOD AND EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

複数の光源を使用する照明装置、照明制御装置及び方法、並びに、露光装置 - 特許庁

Thus, this invention provides the small-sized exposure control system withstanding vibration that has only to control the exposure time and the gain of the video signal thereby to adjust the output signal level.例文帳に追加

これにより、露光時間と映像信号の利得を制御することのみで出力信号レベルを調整し、小型で振動に強い露光制御システムを提供する。 - 特許庁

Corresponding to the calculated exposure value, the exposure time of a motor-driven stop or CCD in the lens system 2 is controlled by an exposure control means 5 and even when there are a plurality of moving parts, suitable exposure control is executed corresponding to an image pickup target.例文帳に追加

算定された露出値に応じて露出制御手段５によりレンズ系２内の電動絞りやＣＣＤの露光時間を制御して、動体部が複数の場合でも撮像対象に合わせて適切な露出制御を行うようにする。 - 特許庁

The UV dosage control system controls a UV exposure to the film, thereby enabling the system to control the oxygen scavenging speed of the activated composition.例文帳に追加

ＵＶ線量制御システムは、フィルムが受けるＵＶ露光量を制御し、その結果、活性化された組成物の酸素スカベンジング速度を制御することができる。 - 特許庁

An imaging apparatus 1 superimposes an auxiliary image for exposure adjustment to support exposure adjustment upon an imaged image and displays it to a display part 216 when a manual exposure (ME) mode is set under the control of a system control unit 209.例文帳に追加

撮像装置１は、システム制御部２０９の制御の下、マニュアル露出（ＭＥ）モード設定時には露出調整を支援する露出調整用の補助画像を撮像画像に重畳して表示部２１６に表示する。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of achieving high-precision dimension control and low variation by less exposure condition setting works and the small number of the works and to provide an exposure calculating system using the same.例文帳に追加

少ない露光条件出し作業および回数で、高精度な寸法制御と低バラツキ化を実現できる露光方法及びそれを用いた露光算出システムを実現する。 - 特許庁

To obtain desirable exposure in both a visible light system and an infrared light system with a simple configuration in an exposure amount control device for controlling an exposure amount when simultaneously performing photographing with visible light and with infrared light.例文帳に追加

可視光および赤外光での撮影を同時に行う際の露光量を制御する露光量制御装置において、簡易な構成で可視光系、赤外光系とも好ましい露出を得られるようにする。 - 特許庁

This invention, for example, can be applied to a solid imaging device which performs exposure control by a rolling shutter system.例文帳に追加

本発明は、例えば、ローリングシャッタ方式による露光制御を行う固体撮像装置に適用できる。 - 特許庁

To actualize higher precision exposure quantity control by suppressing the influence of variation in the transmissivity of an optical system.例文帳に追加

光学系の透過率の変動の影響を抑制して、より高精度な露光量制御を実現する。 - 特許庁

Particularly, the exposure system relates to production of the sensitometric control patch having exposure gradient enabling measurement of sensitometric data of the photographic element, on the photographic element.例文帳に追加

本発明は、特に、写真素子の感光データの測定を可能とする露光勾配を持つ感光性コントロールパッチの写真素子上への生成に関する。 - 特許庁

To provide an exposure controller which is small in power consumption, can reduce component cost and can control the exposure highly precisely independently of power voltage with few system resources.例文帳に追加

消費電力が少なく、部品コストを低減でき、なおかつ、少ないシステムリソースで、電源電圧に依存せずに精度の高い露出制御装置を提供する。 - 特許庁

An exposure device is provided with a servo valve 5 arranged in a wafer holder and a control system to lower a command value to the servo valve 5 at a known value during exposure.例文帳に追加

ウエハホルダに配管されたサーボ弁５と、サーボ弁５への指令値を、露光中に既知の値へ下げるように構成された制御系を有する。 - 特許庁

To prevent misalignment of an exposure position due to the change of a mask position while preventing decrease in the accuracy of gap control in exposure by a proximity XY-step system.例文帳に追加

プロキシミティＸＹステップ方式の露光において、ギャップ制御の精度低下を防止しながら、マスクの位置の変化による焼付け位置のずれを防止する。 - 特許庁

After driving control is switched to a system of the determined cartridge, the photosensitive material is fed from the cartridge to perform exposure in an exposure unit 3.例文帳に追加

そして、そのカートリッジの系統に駆動制御を切り替えた上で、そのカートリッジから感光材料を繰り出し、露光ユニット３においてこれを露光する。 - 特許庁

To provide an aberration control system for liquid immersion lithography and a method for compensating the heat effect of the exposure energy for a liquid immersion fluid over the entire exposure region.例文帳に追加

露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する液浸リソグラフィ収差制御システムおよび方法を提供する。 - 特許庁

The imaging apparatus includes an optical system, an optical system drive section, an imaging element adopting the interlace system, an image processing section, and an automatic exposure control section.例文帳に追加

本発明の撮像装置は、光学系と光学系駆動部とインターレース方式の撮像素子と画像処理部と自動露光制御部とを有している。 - 特許庁

The exposing device EX is equipped with a first exposure station ST 1 and a second exposure station ST 2 capable of exposing a photosensitive substrate P and a control system CONT for controlling the exposure in such a manner that after the first exposure is performed in the first exposure station ST 1, the photosensitive substrate P undergoing the first exposure is continuously subjected to second exposure at the second exposure station ST 2.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、感光基板Ｐを露光可能な第１露光ステーションＳＴ１及び第２露光ステーションＳＴ２と、第１露光ステーションＳＴ１で第１の露光を行った後、この第１の露光を行った感光基板Ｐに対して第２露光ステーションＳＴ２で第２の露光を連続して行うように制御する制御系ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

A system controller 112 is provided with a divided exposure control part 112a for controlling divided exposure imaging, and a gain control part 112b for setting and controlling a gain up rate applied to an analog gain control amplifier (GCA) 107a at divided exposure imaging.例文帳に追加

システムコントローラ１１２には、分割露光撮像を制御するための分割露光制御部１１２ａと、分割露光撮像の際にアナログゲインコントロールアンプ（ＧＣＡ）１０７ａに適用するゲインアップ率の設定および制御を行うゲイン制御部１１２ｂとが設けられている。 - 特許庁

A movable mirror 23, shutter 24 and filter 25 are disposed in the optical path of the oblique exposure light and connected to the controlling system to control the incident angle, exposure time, illuminance of the exposure light.例文帳に追加

斜め方向から照射される光路の途中に可動ミラー２３、シャッター２４やフィルター２５を配置して制御系に接続することにより、入射角、露光時間や露光照度を調整する。 - 特許庁

In the averaged light measuring system, the exposure control is performed in accordance with the predetermined light measuring patterns to be exclusively used.例文帳に追加

平均測光方式においては、予め定められた専用の測光パターンに基づいて露出制御を行う。 - 特許庁

To execute exposure control while linking right and left cameras, irrespective of the distance to a subject in a stereoscopic imaging system.例文帳に追加

ステレオ撮像システムにおいて、被写体距離に関わらず左右のカメラ間で連携して露光制御を行うこと。 - 特許庁

Then a system control part 12 controls an AE control part 108 so that a mechanical shutter 108d is closed at the end of the exposure time obtained by the photometry.例文帳に追加

そしてシステム制御部12は、測光により得られた露光時間の終了と同時にメカシャッタ108dが閉じるよう、AE調整部108を制御する。 - 特許庁

The imaging apparatus includes an imaging element 14, an image processing circuit 20, an exposure control circuit 40, a system control unit 50, a longitudinal position detection sensor 75, etc.例文帳に追加

撮像装置は、撮像素子１４、画像処理回路２０、露光制御回路４０、システム制御部５０、縦位置検知センサ７５等を備える。 - 特許庁

To provide a beam emission control method of a charged beam accelerator, capable of reducing the cost of an exposure dose control system and lessening errors of exposure dose, and to provide a particle beam irradiation system using the accelerator.例文帳に追加

照射線量制御システムのコストを低減し、かつ照射線量誤差を小さくすることができる荷電粒子ビーム加速器のビーム出射制御方法及びその加速器を用いた粒子ビーム照射システムを提供する。 - 特許庁

This exposure system is provided with plural developing parts 411-1 to 411-8 and RAMs 412-1 to 412-8, and plural unit dot control data, constituting exposure control data are developed in parallel.例文帳に追加

複数の展開部４１１−１〜４１１−８及びＲＡＭ４１２−１〜４１２−８を設け、これらによって露光制御データを構成する複数の単位ドット制御データを並行して展開する。 - 特許庁

When a live view display mode is a display mode of simulating exposure of a still image, the system control circuit 50 acquires an exposure correction amount set by the user and checks whether the exposure correction amount exceeds a dynamic range of an imaging system or not.例文帳に追加

システム制御回路５０は、ライブビューの表示モードが静止画の露出をシミュレーションする表示モードである場合、ユーザにより設定された露出補正量を取得し、露出補正量が撮像系のダイナミックレンジを超えていないかどうかをチェックする。 - 特許庁

This control module operates an emission matter sample receiving system to achieve accurate exposure during the diagnostic routine.例文帳に追加

かかる制御モジュールは、診断ルーチン中に正確な暴露を行うべく、排出物質サンプル受け取りシステムを操作する。 - 特許庁

To prevent the transfer rate of light emission control signals from being increased in a light emitting device employing a multiplex exposure system.例文帳に追加

多重露光方式を採用した発光装置において発光制御信号の転送レートの増大を防止する。 - 特許庁