「Exposure Control System」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

An open-close mechanism is provided between a local space and a chamber which controls the temperature of all exposure system, and a passage is opened by the open-close mechanism so as to control the temperature of the local space through the chamber.例文帳に追加

局部空間と装置全体を温度制御するチャンバーとの間に開閉機構を設け局部内の温度が大きく外れた場合には、開閉口を開放して本体チャンバーから温度制御を行う。 - 特許庁

The system control circuit 50 computes an exposure amount in the imaging element 14, prepares light quantity data indicating a light quantity decline around the photographing lens 310 corresponding to an F stop value used in photographing on the basis of the exposure amount, and corrects the imaging signals of the imaging element 14 on the basis of the light quantity data.例文帳に追加

システム制御回路５０は、撮像素子１４における露光量を演算し、露光量に基づいて、撮影で用いる絞り値に応じた撮影レンズ３１０の周辺の光量低下を表す光量データを作成し、光量データに基づいて撮像素子１４の撮像信号を補正する。 - 特許庁

This system has an exposure means to scan the surface to form images by deflecting the light beam from the light source, a housing to cover the exposure means, an air supply to supply air from outside into the housing, and an airflow regulator to control the amount of supply air when forming images.例文帳に追加

光源から出射される光ビームを偏向し、露光面上を走査して画像形成を行う露光手段と、露光手段を覆うハウジングと、そのハウジングの外部から外気をハウジング内へ供給する給気手段と、画像形成時において外気の給気量を制御する風量調整手段とを備える。 - 特許庁

To provide a control method for an exposure head and an electrophotographic system mounting the exposure head in which an image of high image quality having uniform density can be outputted even when a large quantity of image where high density images are arranged while being shifted is printed by correcting deterioration in the quantity of light of each light emitting element through a convenient arrangement.例文帳に追加

簡易な構成で各発光素子の光量劣化を補正し、たとえ高濃度な画像が偏って配置された画像を大量に印字した場合でも、濃度ムラのない高画質な画像出力が可能な露光ヘッドの制御方法並びに露光ヘッドを搭載した電子写真装置を提供する。 - 特許庁

An imaging apparatus includes: an imaging section which picks up an image by an optical system and outputs an output signal; and a control section 191 for controlling the imaging sections 110, 180 in such a way that the output signal outputted from the imaging section is increased/decreased at least once, from start of exposure to end of exposure.例文帳に追加

光学系による像を撮像し出力信号を出力する撮像部と、露光の開始から終了までの間に、前記撮像部から出力された前記出力信号を少なくとも１回増減させるように前記撮像部（１１０，１８０）を制御する制御部（１９１）とを含むことを特徴とする撮像装置。 - 特許庁

In the case of detecting a pixel defect, a pixel defect information acquisition section 112a provided to a system controller 112 uses an exposure control device 103 and a CCD driver 106 to control an exposure and charge storage time of a CCD imaging element 105 thereby acquiring the information with respect to the pixel defect in a prescribed operating state of the CCD imaging element 105.例文帳に追加

画素欠陥の検出時には、システムコントローラ１１２に設けられた画素欠陥情報取得部１１２ａが露出制御機構１０３およびＣＣＤドライバ１０６を用いてＣＣＤ撮像素子１０５の露光および電荷蓄積時間を制御することにより、ＣＣＤ撮像素子１０５の所定の動作状況における画素欠陥に関する情報が取得される。 - 特許庁

To accurately control the exposure, and also, to reduce a red eye phenomenon and the occurrence of the shadow of an object by flashing both of a built-in flash of a camera and an external flash in a flash control system composed of a camera main body and the remotely controllable external flash.例文帳に追加

カメラ本体と遠隔操作可能な外部フラッシュとにより構成されるフラッシュ制御システムにおいて、カメラの内蔵フラッシュと外部フラッシュの双方を発光させて、高精度な露出制御を行なうとともに、赤目現象と被写体の影の発生とを軽減する。 - 特許庁

Thus, since the set information of the control parameter necessary for the exposure of the next partition region is received from a host apparatus by the stage control system, it is not necessary to once stop both stages before an acceleration, the throughput can be improved by a part which does not have its stop time.例文帳に追加

このため、次の区画領域の露光のために必要な制御パラメータの設定情報をステージ制御系が上位装置から受け取るために、両ステージを加速前に一旦停止させる必要がなく、その停止時間がない分、スループットの向上が可能となる。 - 特許庁

A control part 17 controls the package exposure optical system 12 and the beam scanning optical system 13 every rank of a curing layer.例文帳に追加

また、制御部１７は、一括露光光学系１２およびビームスキャン光学系１３を硬化層の階層ごとに制御し、所定の硬化層におけるワーク小領域どうしの境界に対して、所定の硬化層に積層される次の硬化層におけるワーク小領域どうしの境界を、積層方向からみてずれた位置とさせる。 - 特許庁

The exposure equipment having a projection optical system for projecting light from an original to a substrate and exposing the shot region of the substrate through the original and the projection optical system comprises a substrate stage 22 which moves while holding the substrate, a console 140, measuring instruments 10-19, and a main control section 110.例文帳に追加

原版からの光を基板に投影する投影光学系を有し、原版及び投影光学系を介して基板のショット領域を露光する露光装置であって、基板を保持しかつ移動する基板ステージ２２と、コンソール１４０と、計測器１０〜１９と、メイン制御部１１０とを備える。 - 特許庁

A part of the driving profile which regulates the movement of the stage under light exposure of at least one shot region is constructed by a sine wave whose frequency is lower than the resonant frequency in a control system of the stage.例文帳に追加

前記駆動プロファイルのうち少なくとも１つのショット領域の露光中の前記ステージの移動を規定する部分は、前記ステージの制御系における共振周波数よりも低い周波数の正弦波から構成されている。 - 特許庁

To efficiently control a rotationally asymmetric component in imaging characteristics in the case where the light amount distribution of exposure light transmitting at least some of optical members of a reticle and a projection optical system is rotationally asymmetric.例文帳に追加

レチクル及び投影光学系の少なくとも一部の光学部材を通過する露光光の光量分布が非回転対称になるような場合に、結像特性のうちの非回転対称な成分を効率的に制御する。 - 特許庁

Since an exposure control system can be constituted of a board arrangement adapted to a current device specification, a large distribution board is not required to be prepared in accordance with a maximum number of channels and thereby the size of the image recorder can be reduced.例文帳に追加

現在のデバイス仕様に即した基板構成で露光制御系を構成することができるため、最大チャンネル数に合わせて予め無駄に大型の分配基板を装備する必要がなく、装置自体の小型化を図ることができる。 - 特許庁

In this production control system, preparation of lots and members (reticles) and scheduling are controlled by aiming at a set of, for instance, an exposure process (anterior process) and an etching process (posterior process) within a plurality of processes and manufacturing devices of a line.例文帳に追加

本生産管理システムでは、ラインの複数の工程及び製造装置のうち例えば露光工程（先行工程）とエッチング工程（後行工程）の組を対象として、ロット及び部材（レチクル）の配膳及びスケジューリングを制御する。 - 特許庁

A control unit 8 introduces gas for cleaning by the gas introduction system 3 after completion of etching, forms plasma by the means 4 for plasma formation, and removes a film deposited on an exposure surface in the process chamber 1 by the action of plasma.例文帳に追加

制御部８は、エッチング終了後、クリーニング用ガスをガス導入系３により導入し、プラズマ形成用手段４によりプラズマを形成して、プロセスチャンバー１内の露出面に堆積した膜をプラズマの作用により除去する。 - 特許庁

A display means which optionally selects and displays data necessary for production control of the exposure system, a printing means which prints out the optionally selected data by the use of printers 404 and 406 residing in a network or a printer mounted on the exposure system, and an informing means which informs data all or partially to a host computer 401 in the network or other computers 403 and 405.例文帳に追加

前記露光装置の生産管理に必要なデータを任意に選択して表示する表示手段と、任意に選択された前記データを前記ネットワーク内のプリンタ４０４，４０６または前記露光装置４０２に搭載されたプリンタから印刷する印刷手段と、前記データの一部または全部を前記ネットワーク内のホストコンピュータ４０１または他のコンピュータ４０３，４０５ヘ通知する通知手段とを具備する。 - 特許庁

The remote astronomical telescope control system is provided with: a server having a database for storing identifiers of the types and/or names of celestial bodies and exposure times for the CCD camera in cross- reference with the identifiers; and a camera controller for acquiring an exposure time for imaging a celestial body from the database and controlling the CCD camera.例文帳に追加

遠隔天体望遠鏡制御システムにおいて、天体の種類及び／又は名称の識別子と、前記識別子と関連づけられた前記ＣＣＤカメラの露光時間とを蓄積するデータベースを備えたサーバーと、前記データベースから天体を撮像するときの露光時間を取得し前記ＣＣＤカメラを制御するカメラ制御装置とを備える。 - 特許庁

The exposure device EX for irradiating an exposure light EL on a substrate P through the liquid LQ for exposing the substrate P has a substrate holder PH that holds the substrate P; a substrate stage PST that is movable with a substrate P held on the substrate holder PH; and a temperature control system 60 that regulates the temperature of the substrate holder PH.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持する基板ホルダＰＨを有し、この基板ホルダＰＨに基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージＰＳＴと、基板ホルダＰＨの温度調整を行う温調システム６０とを備えている。 - 特許庁

To provide an X-ray CT system capable of reducing the useless exposure of a subject while ensuring required S/N and positive X-ray irradiation to a required X-ray detector, and to provide a control method and a storage medium.例文帳に追加

必要なＸ線検出器への確実なＸ線の照射および必要なＳ／Ｎを確保しつつ、被検体への無駄な被曝を低減させることが可能なＸ線ＣＴシステムおよびその制御方法および記憶媒体を提供すること。 - 特許庁

When an object is photographed by a plurality of video cameras 10-1 to 10-3 simultaneously, each video camera generates an evaluation value denoting the state of the automatic control system for exposure and color reproducibility or the like and gives the value to a computer 90.例文帳に追加

被写体を複数のビデオカメラ１０-1〜１０-3で同時撮影する際に、各ビデオカメラのそれぞれで露出や色再現等の自動制御系がどのような状態であるかを示す評価値を生成してコンピュータ装置９０に供給する。 - 特許庁

In another embodiment, the X-ray system includes: an X-ray imaging device for acquiring X-ray images; and a controller to control exposure levels of a plurality of images acquired each working position of the X-ray imaging device.例文帳に追加

別の実施形態では、Ｘ線画像を取得するためのＸ線イメージング装置と、前記Ｘ線イメージング装置の各々の動作位置で取得される複数の画像の露出レベルを制御するための制御装置とを含むＸ線システムが提供される。 - 特許庁

The camera includes: an imaging element 12 for applying photoelectric conversion to an object image formed by a photographing optical system; and a control means 7 for revising the sensitivity and the exposure time of the imaging element for an operating state and inoperative state of image blurring correction means 26, 31, 32 for correcting the image blueeing caused by the blurring by driving part of the photographing optical system.例文帳に追加

撮影光学系により形成された被写体像を光電変換する撮像素子１２と、撮影光学系の一部を駆動して振れに起因する像振れを補正する振れ補正手段２６，３１，３２の作動時と非作動時とで、撮像素子の感度と露光時間とを変更する制御手段７とを有する。 - 特許庁

This exposure meter is equipped with a control circuit 55 for displaying a measured value only on an external LCD 3 while measurement by the incident light system in the ON state of an incident light measuring key 27, and displaying the measured value only on a finder LCD 35 while measurement by the reflected light system in the ON state of a reflected light measuring key 26.例文帳に追加

入射光測定キー２７がオンにされて入射光式による測定中には、外部ＬＣＤ３にのみ測定値を表示し、反射光測定キー２６がオンにされて反射光式による測定中には、ファインダＬＣＤ３５にのみ測定値を表示する制御回路５５を備えた。 - 特許庁

To provide a method of controlling data output and the like, with which various internal data of control softwares can be outputted to outside at any time, and with which a trouble that otherwise consumes extraordinary time for analysis can be analyzed rapidly and solved, without degrading throughput of an exposure system.例文帳に追加

露光装置のスループットを落とすことなく、制御ソフトウェアの種々の内部データを常に外部へ出力可能であり、従来は解析に非常に時間を要したトラブルが迅速に解析、解決できるデータ出力制御方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a particle beam radiation system and its control method, which are capable of accurately detecting and evaluating actual exposure dose in a therapy using charged particle beams by appropriately executing a beam emission in abnormal conditions during spot irradiation.例文帳に追加

スポット照射中における異常発生時のビーム出射処理を適切に行うことにより、荷電粒子ビームを用いた治療における実照射線量の検出および評価を正確に行うことができる粒子線照システムおよびその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide the image forming device of an electrophotographic system by which an image having a stabilized image quality is formed without causing an inconvenience to a user by completing the optimum setting of electrifying, exposure and developing conditions and an image formation condition such as a toner density control reference value in a short time.例文帳に追加

帯電・露光・現像条件、トナー濃度制御基準値等の作像条件の最適設定を短時間で完了させ、使用者に不都合が無く、安定した画質の画像が形成可能な電子写真方式による画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure control method and system for use in a low-acceleration electron beam lithography system using electrostatic lenses, wherein shot beam shapes are drawn as varied as desired, drawing beam currents and convergence semiangles on the specimen surface are selected at the shot level, and an electrooptical system is provided for reducing resolution degradation due to the space charge effect.例文帳に追加

静電レンズを使用した低加速電子ビーム描画装置において、ショットビーム形状が任意に変えられる可変成形ビーム描画の機能と、描画時のビーム電流と試料面収束半角をショットレベルで選択できる機能と、空間電荷効果による解像性低下の影響を低減できる電子光学系を具えた電子ビーム露光制御方法とその装置を提供すること。 - 特許庁

This aligner is provided continually with a calibration plate 1 which serves for dose control, etc., and a plate 2 which serves to diffuse the light to irradiate the diffusion plate for cleaning or the projection system, on a reticle stage 11, and light is applied evenly into the projective optical system 12 by applying exposure light at need thereby desorbing the contamination within the projective optical system 12.例文帳に追加

本発明の露光装置は、レチクルステージ１１上にドーズコントロール用等の役目を持つキャリブレーションプレート１と、クリーニング用の拡散板もしくは投影光学系を照射する光を拡散させる役目を持つプレート２を常設し、必要に応じて露光光を照射して投影光学系１２内に万遍なく光を照射し、投影光学系１２内のコンタミネーションを脱離させる。 - 特許庁

Next, surface potential of an exposed part of the photoreceptor drum 11 is detected by the surface potential sensors 27Y to 27BK and optical intensity of laser beams 16Y to 16BK by an exposing device 16 is controlled by an exposing device control system 50b so that a detection result shows a specified exposure reference value.例文帳に追加

次いで感光体ドラム１１の露光部の表面電位を、表面電位センサ２７Ｙ〜２７ＢＫで検出し、検出結果が規定の露光基準値となるように、露光装置制御系５０ｂにより露光装置１６によるレーザ光１６Ｙ〜１６ＢＫの光強度を制御する。 - 特許庁

To maintain the highest rating by the international capital market, appropriate credit risk management is mandatory. For that, IDB must consider various measures to allow for more efficient distribution of funds, such as establishing a risk management system for tighter control of exposure risks. 例文帳に追加

国際資本市場からの高い格付を維持していくためには、適切な信用リスク管理を行う必要がありますが、そのためには、集中リスクをより厳格にコントロールするためのリスク管理システムの構築など、効率的な資金配分を可能とするために検討すべき課題も多いと思います。 - 財務省

Ensuring greater exposure to a market mechanism, thus increasing economic efficiency, will continue to be a major policy priority for many of the developing and transition economies. As the basis of a market system, they must improve regulatory and accounting systems, maintain sound financial systems, and strengthen supervision of financial institutions for appropriate risk control. 例文帳に追加

多くの途上国や移行国で、市場システムの基礎となる法律・会計制度や、健全な金融システムの維持あるいは適切なリスク管理のための監督体制などを整備し、市場メカニズムへの適合性を高めて経済の効率化を図っていくことは引き続き重要な課題であります。 - 財務省

This allows for the control of a time difference corresponding to the exposing time to be provided, such that the calculations always result in the same (constant ratio), when correcting by calculation of exposure time difference between lines, which occurs, when a plurality of TG pulse timings of imaging drive system are shifted.例文帳に追加

これにより撮像駆動系の複数のＴＧパルスタイミングをずらす場合に生じるライン間の露光時間差を、演算により補正する際に、演算が常に同じ（固定比率）で済むように露光時間に対応した時間差を与えるように制御することが可能となる。 - 特許庁

By a CAD system 18, comprising a CAD tool and an operation controlling portion utilizing a mask-pattern data base, liquid-crystal driving and controlling signals are obtained so as to control the alignment of liquid-crystal molecules in the respective segments of a panel displaying portion 171 and to form a mask pattern for passing/intercepting exposure lights.例文帳に追加

ＣＡＤツール及びマスクパターンデータベースを利用した演算制御部により構成されるＣＡＤシステム１８により液晶駆動制御信号が得られ、パネル表示部１７１における各セグメントで液晶分子の配向が制御され露光光が通過／遮断されるマスクパターンが形成される。 - 特許庁

The control system includes at least a first imaging mode designed for imaging patients and a means for selecting at least one second imaging mode in which the source of radiation and the imaging sensor are driven during an exposure at an angular velocity of less than 4 degrees/second.例文帳に追加

この制御システムは、患者の撮像用に指定されている少なくとも第１の撮像モードと、少なくとも１つの第２の撮像モードを選択するための手段と、を含んでおり、第２の撮像モードでは、照射中に、放射線源および撮像センサが４度／秒未満の角速度で駆動される。 - 特許庁

Further, the system control unit 50 calculates a face correction value by adding a value corresponding to the difference between the luminance of the sky area and a permissible luminance upper-limit value of the sky area to a difference between the luminance of the face area and a luminance target value of the face area, and controls exposure based upon a value corresponding to the face correction value.例文帳に追加

また、システム制御部５０は、空領域の輝度と空領域の許容輝度上限値の差分に応じた値を、顔領域の輝度と顔領域の輝度目標値の差分に加えることで、顔補正値を算出し、この顔補正値に応じた値に基づき露出を制御する。 - 特許庁

The camera system 1 is provided with a shutter part 30 for switching the exposure/light shielding for the solid-state image pickup device 21 in synchronism with a signal output cycle corresponding to the interlace system and a read control means for reading signal charges from plural photodetectors for constituting the solid-state image pickup device 21 by frame read.例文帳に追加

固体撮像装置２１に対する露光／遮光をインタレース方式に対応した信号出力周期に同期して切り替えるシャッタ部３０と、前記固体撮像装置２１を構成する複数の受光素子からの信号電荷の読み出しをフレーム読み出しによって行う読み出し制御手段とを備えて、カメラシステム１を構成する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus, a photographing auxiliary light emitting/imaging control method, and a photographing auxiliary light source emitting/imaging control program which enable an accumulated quantity of auxiliary light irradiated from a light emitting element during an exposure period to each line of an imaging element to be constant among respective lines even when the imaging element is exposed by a rolling shutter system while performing PWM drive of the light emitting element.例文帳に追加

発光素子をＰＷＭ駆動しながら撮像素子をローリングシャッター方式で露光しても、撮像素子の各ラインへの露光期間中に発光素子から照射される積算補助光量が各ライン間で一定にすることが可能な撮像装置、撮影補助光発光制御／撮像制御方法、および撮影補助光源発光／撮像制御プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide an exhaust emission control system, which has a control function with respect to the amount of addition of fuel, allows a compact construction as an accessory unit of engine side, and furthermore has a fuel adding means with high practical utility for which thermal measures have been taken so that burning due to exposure to hot exhaust gas and burning of added fuel within flow channel can be avoided with reliability.例文帳に追加

燃料の添加量に関する制御機能を具備した上でエンジン側の付帯ユニットとしてコンパクトに構成することが可能で、しかも、高温の排気ガスに晒されることによる焼損や添加燃料の流路内での焼付きを確実に回避し得るよう熱対策を施した実用性の高い燃料添加手段を有する排気浄化装置を提供する。 - 特許庁

In the electronic camera, in bracket photographing of consecutively performing the photographing for two or more times while changing the photographing conditions (exposure condition, for example), when an image recorded in a recording medium 200 or 210 is erased, a system control circuit 50 resets a count value of a bracket counter counting the number of photographing farms to the first frame.例文帳に追加

電子カメラにおいて、システム制御回路５０は、撮影条件（例えば露出条件）を変化させながら複数の撮影を連続して行うブラケット撮影時に、記録媒体２００または２１０に記録された画像が消去されると、撮影コマ数をカウントするブラケットカウンタのカウント値を１コマ目にリセットする。 - 特許庁

The automatic exposure control (AEC) system is further provided with an ineffective region determining means 90 that supplies the mammary gland specifying means 80 with the ineffective region information that will nullify a part of the radiation dose information belonging to a region D2 out of a radiation detecting region D where the radiation dose information is detected.例文帳に追加

該自動露出制御システムには、さらに、前記放射線量情報が検出された放射線検出領域Ｄのうち、一部の領域Ｄ２に属する放射線量情報を無効とする無効領域情報を乳腺位置特定部８０に供給する無効領域決定部９０が設けられる。 - 特許庁

To provide a method and a device for image processing, a camera, and a photography system which enable not only usual focusing and automatic exposure, but also various processes such as high-level control over a camera, image composition, and image correction corresponding to an object, a photography scene, etc., by greatly improving the function and performance of the camera.例文帳に追加

カメラの機能や性能を大幅に向上して、従来の自動焦点合わせや自動露出のみならず、被写体や撮影シーン等に応じたより高度なカメラの制御、画像合成や画像補正等、各種の処理を行うことを可能にする画像処理方法および装置、カメラならびに撮影システムを提供する。 - 特許庁

The aligner exposes a pattern formed in a negative plate on a substrate, such as a wafer and a plate, while irradiating the negative plate, such as a reticle and a mask via a lighting optical system by exposing light from an exposure light source, including at least respectively one air supply port and one exhaust port in the stage space so as to control air current distribution in the space.例文帳に追加

露光光源からの露光光により照明光学系を介してレチクル、マスク等の原板を照明し、前記原板に形成されたパターンをウエハ、プレート等の基板上に露光する露光装置であって、ステージ空間に少なくとも１個づつの給気ポートと排気ポートを備え、その空間内の気流分布を制御する。 - 特許庁

This exposing apparatus EX includes: a measuring system M for performing measurement for controlling exposure via a first mark Rm positioned in an original plate stage RS and a second mark wm positioned in a substrate stage WS; and a control part CNT capable of setting a lightening condition different from a lightning condition under measurement by a measuring system M for exposing a substrate to a light.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、露光の制御のための計測を原版ステージＲＳに配置された第１マークＲｍと基板ステージＷＳに配置された第２マークｗｍとを使って行なう計測システムＭと、ある照明条件で基板の露光を行なうために計測システムＭによって計測が行なわれる際に当該照明条件とは異なる照明条件を設定可能な制御部ＣＮＴとを備える。 - 特許庁

The digital camera having a character photographing mode to photograph character information of an original or the like is provided with an exposure control circuit 210 that does not emit an auxiliary light in a character binary mode and sets a high shutter speed in response to a focal distance of a lens system to a minimum shutter speed and with a binary unit 216 that applies binary processing to an image signal.例文帳に追加

原稿などの文字情報を撮影するための文字撮影モードを有するデジタルカメラにおいて、文字二値化モードでは、補助光を非発光とするとともに、露出制御回路２１０は、レンズ系の焦点距離に応じた高速のシャッタースピードを最低シャッタースピードに設定し、二値化器２１７は画像信号を二値化する。 - 特許庁

This storage cabinet has a first encapsulating body, an atmosphere control means which controls the atmosphere in the encapsulating body to a first atmosphere, and a transporting means which delivers or receives a stored object to or from the exposure system without exposing the object to the outside atmosphere of the encapsulating body and stores at least one object in the encapsulating body.例文帳に追加

第１封入体と、第１封入体の内部雰囲気を第１雰囲気となるように制御する雰囲気制御手段と、第１封入体の外部雰囲気に曝されることなく、被保管物を露光装置に受け渡す、または、露光装置から受け取る搬送手段を有し、被保管物を少なくとも１つ第１封入体の内部に保管する。 - 特許庁