「Exposure Control System」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The exposure system ES includes a control unit 23 which sets detection conditions of the plurality of exposure apparatuses for other exposure apparatuses in response to change of a detection condition of one of the plurality of exposure apparatuses and in accordance with the detection condition after the change when the detection condition of the one exposure apparatus is changed.例文帳に追加

露光システムＥＳは、複数の露光装置におけるいずれか１つの露光装置において検出条件が変更された場合に、当該変更に応答し且つ当該変更の後の検出条件に応じて、前記複数の露光装置における他の露光装置における検出条件を設定する制御部２３を備える。 - 特許庁

To provide a wavelength filter which does not require a complicated control system, and an exposure device and an imaging apparatus using the wavelength filter.例文帳に追加

複雑な制御システムを必要としない波長フィルタ、その波長フィルタを用いた露光装置および撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide an Image pickup device or the like that configures a system with other devices and ensures controllability and response to exposure control at the same time.例文帳に追加

他の装置とシステムを構成する撮像装置等において、露出制御の制御性と応答性とを同時に確保する。 - 特許庁

To eliminate a mistake in verification of a mask for exposure to be discontinued and to reliably perform recovery of the mask for exposure to be abolished and deletion of production data and information on the mask, with respect to a system for controlling masks for exposure used in control of masks for exposure necessary for production of semiconductor chips.例文帳に追加

半導体チップの製造に必要な露光用マスクの管理に使用する露光用マスク管理システムに関し、廃版対象の露光用マスクの確認ミスをなくし、廃版対象の露光用マスクの回収および製作データ及び資料の抹消を確実に行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide an exposure system capable of improving through-put by shortening an alignment processing time and performing an alignment correction without stopping an exposure line by correcting a deviation amount of alignment measured by a sensor by using recipes to control respective devices, and a method for controlling the exposure system.例文帳に追加

センサにより計測されたアライメントのズレ量を、各装置を制御するためのレシピを用いて補正することにより、アライメント処理時間を短縮し、露光ラインを止めずにアライメント補正することを可能として、スループットを向上させることができる露光システム及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a control method and control system for exposure apparatus capable of detecting apparatus abnormalities leading to quality trouble with high probability in real time.例文帳に追加

実施形態は、品質トラブルにつながる装置異常を高い確率でリアルタイムに検知することができる露光装置の管理方法および管理システムを提供する。 - 特許庁

CALCULATION METHOD OF OPTICAL CHARACTERISTICS, CALCULATION APPARATUS OF OPTICAL CHARACTERISTICS, CONTROL METHOD OF OPTICAL CHARACTERISTICS, CONTROL APPARATUS OF OPTICAL CHARACTERISTICS, OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

光学特性の算出方法、光学特性の算出装置、光学特性の管理方法、光学特性の管理装置、光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁

The electron beam exposure system has a plurality of the electron beam exposure devices which deflect electronic beam, based on the control data and expose a pattern on an exposed object, and a data control means which sends the control data, corresponding to the exposed pattern to the electron beam exposure devices which sends pattern information, in response to the pattern information about the exposed pattern which is sent from the electron beam exposure devices.例文帳に追加

制御データに基づいて電子ビームを偏向し、被露光物体上にパターンを露光する複数の電子ビーム露光装置と、前記電子ビーム露光装置から送られてくる露光されるパターンに関するパターン情報に応じて、前記パターン情報を送出した電子ビーム露光装置に前記露光されるパターンに対応した前記制御データを送出するデータ制御手段とを有する。 - 特許庁

The exposure system enables production of the peculiar sensitometric control patch on the exposed film strip, and the sensitometric control patch includes gradient of exposure areas that enables acquisition of all the sensitometric characteristics of the photographic film.例文帳に追加

露光システムは、露光されたフィルムストリップ上への特有の感光性コントロールパッチの生成を可能とし、この感光性コントロールパッチは、当該写真フィルムの感光特性の全ての取得を可能とする露光領域の勾配を含む。 - 特許庁

To provide a holding apparatus and an exposure apparatus for tilting or deforming an optical element without complicating a control system of a deformation drive.例文帳に追加

変形駆動の制御系を複雑化させずに光学素子のチルト又は変形が可能な保持装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic image pickup device which accurately performs automatic exposure control all the time regardless of the variable power rate of a photographing optical system, etc.例文帳に追加

撮影光学系の変倍率等に関わらず常に正確な自動露出制御を行ない得る電子的撮像装置を提供する。 - 特許庁

When an exposure (AE) is determined to be appropriate, measured data are stored into an inside memory of a system control circuit and then processing is advanced to a step S208.例文帳に追加

露出（ＡＥ）が適正と判断したならば、測定データ等をシステム制御回路の内部メモリ等に記憶し、ステップＳ２０８に進む。 - 特許庁

To provide an X-ray CT system for performing a contrast radiography by a helical shuttle scanning smaller in the amount of exposure, and to provide a scanning control method.例文帳に追加

造影撮影を被曝量のより小さいヘリカルシャトルスキャンで行うＸ線ＣＴ装置およびスキャン制御方法を実現する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRIVING MOVABLE BODY, PATTERNING METHOD AND DEVICE, EXPOSURE METHOD AND DEVICE, POSITION CONTROL METHOD AND SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、位置制御方法及び位置制御システム、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

This digital camera 100 is provided with a photographic lens optical system 1, a diaphragm 2, an imaging device 3, a holding gain control circuit 4, a luminance level detector 11, an exposure control circuit 12, a device control circuit 13, or the like.例文帳に追加

デジタルカメラ１００は、撮影レンズ光学系１、絞り２、撮像素子３、保持利得制御回路４、輝度レベル検出器１１、露出制御回路１２、デバイス制御回路１３などを備えている。 - 特許庁

Each of the video cameras 10-1 to 10-3 uses the received optimum control variable to allow each automatic control system to conduct control, so as to reduce dispersion in exposure and color reproducibility or the like among the image pickup devices.例文帳に追加

各ビデオカメラ１０-1〜１０-3で、この供給された最適な制御値を用いて自動制御系での制御を行うことにより、ビデオカメラ間で露出や色再現等のばらつきを少なくできる。 - 特許庁

An aligner comprises: a processing unit 21 for deriving a central wavelength of exposure light based on the spectrum measured by a measuring instrument 6; and a main control system (evaluation unit) 21 for evaluating the definition of exposure light based on the central wavelength of the exposure light.例文帳に追加

露光装置は、計測器６によって計測されたスペクトルに基づいて露光光の中心波長を導出する処理部２１と、露光光の中心波長に基づいて露光光の品位を評価する主制御系（評価部）２１とを備える。 - 特許庁

To achieve high quality exposure by facilitating liquid control while facilitating the eccentricity measurement of a final lens in an immersion exposure apparatus in which an exposure region on a second object side of the final lens does not include the optical axis of a projection optical system.例文帳に追加

最終レンズの第二の物体側の露光領域が投影光学系の光軸を含まない液浸露光装置において、最終レンズの偏芯測定を容易化しつつ、液体制御を容易化して、高品位な露光を実現可能にする。 - 特許庁

To freely control the balance of a color temperature over a wide range in the complementary color balance function of a camera system wherein photographing of a wide dynamic range is performed by combining long-time exposure and short-time exposure.例文帳に追加

長時間露光と短時間露光とを組み合わせることにより、広ダイナミックレンジの撮影を行うようにしたカメラシステムの補色バランス機能において、色温度のバランスを広い範囲で自在に制御する。 - 特許庁

Consequently, the exposure control can be performed while the A frame 604 of high luminance is taken into consideration and the digital exposure correction processing is suitably performed for the image distributed from the camera system 100.例文帳に追加

これにより、輝度の高いＡ枠６０４を考慮して露光制御することが可能になり、ネットワークカメラ１００から配信された画像に対するデジタル覆い焼き処理を適切に行なうことができる。 - 特許庁

To provide a communication technology that allows high-speed data communication and maintains hard real time property, in a digital control system of an exposure apparatus.例文帳に追加

露光装置のデジタル制御システムにおいて、高速にデータ通信が可能で、かつ、ハードリアルタイム性が維持される通信技術を提供すること。 - 特許庁

During exposure operation and/or alignment measurement, the position information of a wafer stage WST is measured using an encoder system by a control unit.例文帳に追加

露光動作、及び/又はアライメント計測中、制御装置により、エンコーダシステムを用いてウエハステージＷＳＴの位置情報が計測される。 - 特許庁

The transmissivity variation of the optical system in the optical path is therefore substantially canceled, to enable high precision exposure quantity control.例文帳に追加

従って、前記光路中の光学系の透過率変動を実質的に相殺して高精度な露光量制御を行うことが可能となる。 - 特許庁

To provide a camera system with which a light control feasible distance at which an object is photographed with proper exposure is easily grasped and to provide a flashing device.例文帳に追加

被写体を適正な露出で撮影できる調光可能距離を容易に把握できるカメラシステムおよび閃光装置を提供する。 - 特許庁

The exposure device is provided which has a projection optical system for projecting an image of a reticle pattern to an object of exposure, a detecting system for detecting a predetermined mark by the projection optical system for focusing the projection optical system and the object, and a control unit for driving to control a member provided toward a reticle from the optical system when the detecting system works to detect.例文帳に追加

レチクルのパターンの像を被露光体に投影する投影光学系と、前記投影光学系と前記被露光体との合焦を行うために前記投影光学系を介して所定のマークを検出する検出系と、前記検出系の検出動作時に前記投影光学系よりも前記レチクル側に配置された部材を駆動制御する制御部とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a long-life and stable light source apparatus and an exposure system having the same by solving a problem of damage or control anomaly by the contamination in the shutter device of a light source unit in the light source apparatus integrated in the exposure system.例文帳に追加

露光装置に内蔵された光源装置において該光源部のシャッタ装置部の汚染によって発生する破損あるいは制御異常問題を解決し、長寿命で安定した光源装置及びそれを有する露光装置を得ること。 - 特許庁

To provide an inexpensive exposure amt. control system which can correspond to the luminance change of an object even at the time of high speed consecutive photographing, which can secure high picture quality with an appropriate exposure amt. and which does not require a private photometry element for controlling the exposure amt.例文帳に追加

高速連写の場合にも、被写体の輝度変化に対応でき、適正な露光量で高画質を確保できるとともに、露光量制御のための専用の測光素子も不要で低コスト化が図れるデジタルカメラの露光量制御システムを提供する。 - 特許庁

A system control section 20 of a digital camera 10 gives a control signal 20b to a timing signal generating section 22 by taking precedence of strictly controlling an exposure time over other controls and the timing signal generating section 22 generates a timing signal 220.例文帳に追加

ディジタルカメラ10は、システム制御部20で厳密な露出時間の制御を優先させて、制御信号20bをタイミング信号生成部22に供給してタイミング信号220を生成する。 - 特許庁

The control system, based upon input from a sensor, switches the electro-optic shutter between transmissive and reflective conditions so as to control exposure of light to the photovoltaic array.例文帳に追加

制御システムは、センサからの入力に基づいて、光起電アレイへの光線の照射を制御するように電気光学シャッターを透過状態と反射状態との間で切換える。 - 特許庁

To provide a photography system, its control method and a program for control which enhance detection ratio of a human face at the time of electronic zooming and perform focusing and exposure control to the human face with sufficient precision.例文帳に追加

電子ズーム時における人物の顔の検出率を向上させ、人物の顔への焦点調節と露出制御を精度よく行う撮影装置及びその制御方法並びに制御用プログラムを提供する。 - 特許庁

With such constitution, temperature control of the substrates becomes accurate by the transfer system, variations in temperature of each substrate are reduced, and exposure of high accuracy is provided.例文帳に追加

従って、搬送装置による基板温度制御が正確になり、基板毎の温度のばらつきが少なくなり、高精度の露光を行なうことができる。 - 特許庁

In the non-follow system, the exposure control is performed by using the predetermined light measuring pattern as the objective light measuring pattern without changing the objective light measuring patterns.例文帳に追加

非追従方式においては、対象測光パターンを変更せず、予め定められた測光パターンを対象測光パターンとして用いて露出制御を行う。 - 特許庁

To sufficiently ensure the accuracy of light quantity control while reducing the manufacturing cost of an exposure device used for a print head, etc. in a solid scanning optical system.例文帳に追加

固体走査光学系におけるプリントヘッドなどに使用される露光装置の製造コストを安価にしつつ、光量制御の精度も十分に確保する。 - 特許庁

In an improved exposure sensing and control system, a sound or other vibrations, which is or are generated by the passage of radiation pulses of a projection beam, is or are sensed using a microphone or other sound sensor.例文帳に追加

マイクロホンまたは他の音響センサを用いて、投影ビームの放射のパルスの通過によって生じる音または他の振動を検出する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus suitably carrying out exposure control and thus capable of carrying out excellent detection of the focal state of an imaging optical system.例文帳に追加

露光制御を適切に行ない、これにより撮影光学系の焦点状態の検出を良好に行うことのできる撮像装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an electronic camera capable of simply and accurately performing the exposure control at high speed independently of the presence/no presence of a photographing lighting system and strobe light.例文帳に追加

撮影光学系やストロボ光の有無にかかわらず、露出制御を単純かつ高速、正確に行うことが可能な電子カメラを提供すること。 - 特許庁

A glucose sensor package system includes a glucose sensor 300 and a protective package 310 indicating exposure to temperature changes in order to indicate proper temperature control.例文帳に追加

ブドウ糖センサ３００と、適正な温度制御を示すために温度変化への暴露を知らせる保護パッケージ３１０とを含むブドウ糖センサパッケージシステムである。 - 特許庁

A system controller 112 is provided with a parameter calculation part 112b for automatically calculating parameters needed to trace and image celestial bodies and a divided exposure control part 112c which controls the divided exposure imaging.例文帳に追加

システムコントローラ１１２には、天体追尾撮像に必要なパラメータを自動的に算出するためのパラメータ算出部１１２ｂと、分割露光撮像を制御するための分割露光制御部１１２ｃとが設けられている。 - 特許庁

Besides, the system control section 14 is configured to make the moving velocity of the imaging device 8 lower as the exposure time becomes longer, and in the case the exposure time is longer than a predetermined time, make the moving velocity of the imaging device 8 lower during the exposure operation, but, accelerate the moving velocity of the imaging device 8 during the read-out operation.例文帳に追加

またシステム制御部１４は、露光時間が長いほど撮像素子８の移動速度を遅くし、所定時間より長い露光時間の場合、露光中での撮像素子８の移動速度が低下するが、撮像素子８の読出し中の移動速度を速める。 - 特許庁

A control part 17 controls the intensity of light by the packager exposure optical system 12 and the beam scanning optical system 13 and an exposure time every small work domain, and the ultraviolet curable resin 51 of a plurality of rank portions in a prescribed small work domain is exposed at once.例文帳に追加

また、制御部１７は、一括露光光学系１２およびビームスキャン光学系１３による光の強度や露光時間をワーク小領域ごとに制御し、所定のワーク小領域における複数の階層分の紫外線硬化樹脂５１を１度に露光させる。 - 特許庁

In the step S208, using the measured data acquired in the exposure control, a system controller continues to perform length measurement control by a length measurement controller until a measured length (AF) is determined to be a focal length(step S209).例文帳に追加

ステップＳ２０８では、露出制御で得られた測定データを用いて、システム制御部は測距（ＡＦ）が合焦と判断されるまで、測距制御部を用いて測距制御を行う（ステップＳ２０９）。 - 特許庁

ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, ITS CONTROL METHOD, ITS CONTROL SYSTEM, DISPLAY USING ITS ELEMENT, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC TYPE IMAGE FORMING DEVICE HAVING LIGHT SOURCE FOR PHOTOSENSITIVE MEMBER EXPOSURE USING ITS ELEMENT例文帳に追加

有機エレクトロルミネッセンス素子及びその制御方法及びその制御システム及びその素子を用いたディスプレイ及びその素子を用いた感光体露光用光源を有する電子写真式の画像形成装置 - 特許庁

A light reception element 305 is installed in an exposure amt. control system of a digital camera which forms the image of an object on an image pickup element 303 by a photographing lens 301, converts it into image data and controls the exposure amt. based on the image data.例文帳に追加

被写体の像を撮影レンズ３０１によって撮像素子３０３上に結像し画像データに変換し、該画像データに基いて、露光量を制御するデジタルカメラの露光量制御システムにおいて、受光素子３０５を備える。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposure method which can reduce time duration necessary for exposure treatment by attaining improvement of efficiency of treatment in a control system, so that a device can be manufactured by a high throughput as a result.例文帳に追加

制御系における処理の効率化を図ることにより露光処理に要する時間を短縮することができ、その結果として高いスループットでデバイスを製造することができる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To prevent stoppage of an exposure operation, and to improve reliability of a system to be manufactured by detecting errors which are likely to be generated at processing of control data for controlling the exposure operation, and completely correcting the errors.例文帳に追加

露光動作を制御するための制御データの処理の際に発生し得るエラーを検知し、そのエラーを完全に訂正することにより、露光動作の停止を防止すると共に製造されるデバイスの信頼性を向上させる。 - 特許庁