「Exposure Control System」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide the technique for improving the productivity of a semiconductor device for a manufacturing method of the semiconductor device including an exposure process which is automatically performed by a control system.例文帳に追加

制御システムによって自動処理される露光工程を含む半導体装置の製造方法において、半導体装置の生産性を向上させる技術を提供する。 - 特許庁

A computer system 28 receives the orientation signal and the still image from the removable solid-state memory card 24 and implements exposure control on the still image in accordance with the orientation signal.例文帳に追加

コンピュータシステム２８は、取り外し可能固体メモリカード２４から方向信号と静止画像を入力し、静止画像に対する露光制御を方向信号に応じて実施する。 - 特許庁

To provide an exposure system which can execute stable tone expression by scanning the inside of one pixel by a plurality of the number of times without carrying out complicate control by a simple constitution.例文帳に追加

簡易な構成により、複雑な制御を行うことなく１画素内を複数回走査して安定した階調表現を行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide the vacuum pressure circuit of an exposure apparatus that can improve reliability of the system even when the vacuum pressure in a vacuum line decreases during empty suction control.例文帳に追加

空引き制御において真空ラインの真空圧が下がってもシステムとしての信頼性の向上を図ることができる露光装置の真空圧回路を提供する。 - 特許庁

To eliminate the trouble that a stereoscopic imaging system has lower image processing capability of stereoscopic imaging when performing exposure control using an electronic shutter function.例文帳に追加

ステレオ撮像システムにおいて、電子シャッタ機能を用いた露光制御を行った場合に、ステレオ撮像の画像処理能力が低下する不具合を発生させないこと。 - 特許庁

In a first mode, in accordance with a control instruction of a system control part 118, the focus drive control part 112 drives the focus lens to a focusing position of the focus lens 104 focusing on the object with the position of the zoom lens 101 driven during exposure.例文帳に追加

システム制御部１１８の制御指示に従い、フォーカス駆動制御部１１２は第１のモードにおいて、露光中に駆動されるズームレンズ１０１の位置にて被写体に合焦するフォーカスレンズ１０４の合焦位置へ当該フォーカスレンズを駆動する。 - 特許庁

To accurately control the exposure by controlling the flashing of an external flash based on flashing of a built-in flash of a camera main body in a flash control system composed of the camera main body and the remotely controllable external flash.例文帳に追加

カメラ本体と遠隔操作可能な外部フラッシュとにより構成されるフラッシュ制御システムにおいて、カメラ本体の内蔵フラッシュの発光に基づき外部フラッシュの発光を制御し、高精度な露出制御を行なう。 - 特許庁

A system control circuit 11 automatically controls exposure by adjusting the values of plural control parameters for controlling the stop value of an iris 2, the sensitivity of an image pickup element 3, an electronic shutter and a CDS/AGC circuit 4.例文帳に追加

システムコントロール回路１１は、アイリス２の絞り値、撮像素子３の感度及び電子シャッタ、ＣＤＳ／ＡＧＣ回路４を制御する複数の制御パラメータの値を調整することによって露出を自動制御する。 - 特許庁

A film filling camera having a function to set exposure conditions automatically has an exposure control function in which an exposure correction of +1.5 EV or more is conducted against a photometry value only when a film whose sensitivity of the system sensitivity defined as Ls in a formula (1) below is lower than a specific value is filled.例文帳に追加

露光条件を自動で設定する機能を有するフィルム装填式カメラにおいて、下の式（１）でＬｓとして定義されるシステム感度が特定の値以下となる感度のフィルムが装填された場合のみ、測光値に対して＋1.5ＥＶ以上の露出補正を行う露光制御機能を有することを特徴とするカメラである。 - 特許庁

An aligner 9 by which the pattern of the mask R is exposed by exposure light B on the base plate P through a projection optical system 12, is provided with a line width detector to detect the pattern line width of the mask R and a controller 23 to control the exposure of the exposure light B based on the detected result of the line width detector.例文帳に追加

露光光ＢによりマスクＲのパターンを投影光学系１２を介して基板Ｐに露光する露光装置９において、マスクＲのパターン線幅を検出する線幅検出装置と、線幅検出装置の検出結果に基づいて、露光光Ｂの露光量を制御する制御装置２３とを備える。 - 特許庁

The exposure controller has a photometric means 502 performing the photometry of field through an optical system including a lens and outputting the result of the photometry, an arithmetic means 504 arithmetically calculating an appropriate exposure value based on the result of the photometry, and a diaphragm control means 510 controlling a diaphragm value based on the arithmetically calculated appropriate exposure value.例文帳に追加

レンズを含む光学系を介して被写界を測光しその測光結果を出力する測光手段５０２と、測光結果に基づいて適正露出値を演算する演算手段５０４と、演算された適正露出値に基づいて絞り値を制御する絞り制御手段５１０とを有する。 - 特許庁

The electronic camera corrects the sensitivity of an image pickup element, when the hand shaking value detected by the sensor 90 lies outside an allowable range, and a system controller 3 calculating an exposure value on the basis of the sensitivity and the luminance value of a subject, decides a diaphragm value and exposure time for executing proper exposure control from the calculated exposure value.例文帳に追加

この電子カメラは、手振れセンサ９０により検出された手振れ値が許容範囲外の場合には、撮像素子の感度を補正し、当該感度と被写体の輝度値とに基づいて露出値を算出するシステムコントローラ３を備えているシステムコントローラ３は、算出した露出値から適正な露光制御を実行するための絞り値と露出時間とを決定する。 - 特許庁

A feedforward control system 200 compensates a vibration damping system of an exposure device main body based on an output of acceleration sensors 18 instantaneously detecting acceleration of a vibrational component transmitted from a floor face F.例文帳に追加

フィードフォワード制御系２００は、床面Ｆから伝達される振動成分である加速度をいち早く検出する加速度センサ群１８の出力に基づいて、露光装置本体部の振動制御系を補償する。 - 特許庁

Also, information related to the exposure control of an electronic image pickup system is transmitted from a CPU 150 which corresponds to a controller of a film recording system to the CPU 184 of an electronic image pickup system, and the electronic image pickup system sets CCD diaphragm, a CCD gain, etc. according to the information.例文帳に追加

また、フイルム記録系の制御装置に相当するＣＰＵ（１５０）から電子撮像系の露出制御に関する情報が電子撮像系のＣＰＵ（１８４）に伝達され、電子撮像系はこれら情報に従ってＣＣＤ絞り、ＣＣＤゲイン等が設定される。 - 特許庁

An optical electronic apparatus with a vibration-proof function having a vibration-proof system has control means (PWM1 and PWM2) which change the driving pattern of the vibration-proof system before and after the change of energy consumption of actuators of a shutter for exposure control, etc., when energy consumption of the actuators are changed during driving of the vibration-proof system.例文帳に追加

防振システムを有する防振機能付き光学電子機器において、防振システム駆動中に、露出制御用のシャッタ等の他のアクチュエータの消費エネルギーを変化させる場合は、該他のアクチュエータの消費エネルギー変化の前後で、前記防振システムの駆動パターンを変化させる制御手段（ＰＷＭ１とＰＷＭ２）を有する。 - 特許庁

To provide an imaging system and an imaging apparatus that can control a picture that a user is interested in to proper exposure even when the whole picked-up image and a portion of its enlarged image are displayed at the same time.例文帳に追加

撮像画像全体と一部を拡大した画像を同時に表示する場合でも、ユーザが注目する画面を適正な露出にできる撮像システム及び撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a camera that realizes photography with proper exposure and can freely control lighting effect under any photographic condition and a multiple-lamp photography system for the camera.例文帳に追加

どのような撮影条件であっても、適正露出で撮影することができ、照明効果を自由に制御することができるカメラ及びカメラの増灯撮影システムを提供する。 - 特許庁

Furthermore, replacing work incident to alteration of device specification becomes convenient because a main image distribution board 154 or the sub-image distribution board 166 is integrated with an exposure optical system control board 162.例文帳に追加

また、主画像分配基板１５４又は副画像分配基板１６６と、露光光学系制御基板１６２とが一体となり、デバイス仕様変更による交換作業が簡便となる。 - 特許庁

To provide a video doorphone system that can obtain an enlarged image of high picture quality and make exposure control fast during transition from a standby state to an in-operation state.例文帳に追加

高画質の拡大画像を得ることができるとともに、待機状態から動作状態に移行した際に、露出制御を高速化することができるテレビドアホンシステムを提供する。 - 特許庁

In an exposure apparatus for exposing a wafer to an exposure light transmitted through a reticle via the projecting optical system having a lens driving mechanism for driving the projecting lens, a lens controlling portion so creates a lens driving signal for the lens driving mechanism as to control the lens driving mechanism.例文帳に追加

投影レンズを駆動するレンズ駆動機構を有した投影光学系を介してレチクルを透過した露光光によりウエハを露光する露光装置において、レンズ制御部は、レンズ駆動機構のためのレンズ駆動信号を生成し、レンズ駆動機構を制御する。 - 特許庁

A system control circuit 50 of the imaging apparatus provided with an automatic exposure mechanism divides photographing image data into a plurality of areas, generates an exposure evaluation value on the basis of the luminance for each area and generates a color evaluation value for each pixel in each area.例文帳に追加

自動露出機構を備えた撮像装置において、システム制御回路５０では、撮影画像データを複数のエリアに分割し、エリアごとに輝度に基づく露出評価値を生成するとともに、上記各エリア中の画素ごとに色評価値を生成する。 - 特許庁

To facilitate an exposure control, and to reduce a red eye phenomenon and the occurrence of the shadow of a subject without making the device large in size in a flash control system composed of a camera main body and a remotely controllable external flash.例文帳に追加

カメラ本体と遠隔操作可能な外部フラッシュとにより構成されるフラッシュ制御システムにおいて、装置を大型化することなく、容易に露出制御を行なうとともに、赤目現象と被写体の影の発生とを軽減させる。 - 特許庁

The exposure apparatus EX is provided with a shading member 10 specifying an illumination region by the illumination system IL, and a control part CNT detecting the position, on an image plane of the projection optical system 13, of an illuminance sensor 18 for measuring the illuminance on the image plane of the projection optical system.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、照明系ＩＬによる照明領域を規定する遮光部材１０と、投影光学系１３の像面において照度を計測するための照度センサ１８の該像面における位置を検出する制御部ＣＮＴとを備える。 - 特許庁

The controller 16 puts the spectral width control system 30 in a nonoperating state and oscillates the light source 1 at a first oscillation frequency in the measurement processing, and shifts the spectral width control system 30 to an operating state in the exposure process and makes the light source 1 oscillate at a second oscillation frequency.例文帳に追加

制御部１６は、計測処理ではスペクトル幅制御システム３０を非動作状態にして光源１を第１発振周波数で発振させ、露光処理ではスペクトル幅制御システム３０を動作状態にして光源１を第２発振周波数で発振させる。 - 特許庁

The control system controls the light source and the image capturing system to synchronize the lamp trigger in order to prevent that the remaining of flashing, after ending of the continuous exposing duration, influences image exposure in the continuous flashing duration.例文帳に追加

制御システムは、フラッシュ継続期間中に露光継続期間が終わり、フラッシュの残りの部分が画像露光に影響しないように、照明光源および画像取込み装置を制御してランプトリガーを同期化させることができる。 - 特許庁

The additional filter selecting device selects the additional filter 18 to be a prescribed X-ray exposure to the subject 5 by a system control part 17 on the basis of at least one of patient information, inspection information, environment information and system information.例文帳に追加

患者情報、検査情報、環境情報又はシステム情報のうち少なくとも１つの情報に基づいてシステム制御部１７によって被検体５に対して所定のＸ線被曝量となる付加フィルタ１８を選択する。 - 特許庁

The control unit 110, when a preceding lot designates only a specific exposure apparatus 101(or 102) and designation of a successive lot includes exposure apparatuses 102(or 101) other than at least the above specified exposure apparatus, controls the system to start conveying-in of substrates of the successive lot before the conveying-in of all substrates of the preceding lot is completed.例文帳に追加

制御部１１０は、先行ロットが特定の露光装置１０１（又は１０２）のみを指定するものであり、かつ後続ロットの指定が少なくとも上記特定の露光装置以外の露光装置１０２（又は１０１）を含むものである場合には、先行ロットの全基板の搬入が完了する前に、後続ロットの基板の搬入を開始させる。 - 特許庁

The exposure control system includes: an overlap determination unit 22 that determines whether or not a position of a foreign matter adhered to the backside of a photomask overlaps with a position of a chuck 12 holding the photomask; and an exposure decision unit 24 that decides to perform exposure while holding the photomask by the chuck when it is determined that the position of the foreign matter does not overlap with the position of the chuck 12.例文帳に追加

フォトマスクの裏面に付着した異物の位置とフォトマスクを保持するチャック１２の位置とが、フォトマスクをチャックで保持したときに重なるか否かを判定する重なり判定部２２と、異物の位置とチャックの位置とが重ならないと判定された場合に、フォトマスクをチャックで保持して露光を行うことを決定する露光決定部２４とを備える。 - 特許庁

In the exposure device equipped with the exposure head provided with a two or more kinds of organic EL light emitting elements, a system control part 45 controls at least either the light emitting time or the emitted light quantity of the organic EL light emitting element 20 to expose a patch image 3A for measuring density with two or more kinds of exposure preset to color photosensitive material 3.例文帳に追加

複数の有機ＥＬ発光素子が設けられた露光ヘッドを備えた露光装置であって、システム制御部４５により、有機ＥＬ発光素子２０の発光時間、発光光量の少なくとも一方が制御されてカラー感光材料３に対して予め定められた複数の露光量でそれぞれ濃度測定用のパッチ画像３Ａが露光される。 - 特許庁

The system control unit 209 performs control so that a display color of the auxiliary image for exposure adjustment is changed in accordance with operation input of an iris dial 214c and performs control so that a display color of the auxiliary image for focus adjustment is changed in accordance with operational input of a focus ring 214b.例文帳に追加

また、システム制御部２０９は、アイリスダイヤル２１４ｃの操作入力に応じて露出調整用の補助画像の表示色を変更するように制御し、且つ、フォーカスリング２１４ｂの操作入力に応じてフォーカス調整用の補助画像の表示色を変更するように制御する。 - 特許庁

To provide an exposure system capable of effectively cooling an optical material without vibration, a detrerioration in positional stability, response to a positional control, or the like to decrease a failure rate of the wafer by precisely exposure transcribing a circuit pattern, which manufactures a high performance device.例文帳に追加

光学部材を、振動・位置安定性・位置制御の応答性の悪化等を伴わずに効果的に冷却することができ、その結果、高精度に回路パターンを露光転写することができてウエハの不良率を低減し、また高性能のデバイスを作成することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

The exposure correction device comprises: selecting the picture data at any range from the picture data generated by photographing processing for an object image in a photographing means; preparing the histogram of the picture data at any range by a system control circuit 50; and conducting the exposure correction for the picture data based on the histogram.例文帳に追加

撮像手段の被写体像の撮像処理によって生成される画像データから任意の範囲の画像データを選択し、システム制御回路５０が当該任意の範囲の画像データのヒストグラムを作成した後、当該ヒストグラムに基づく画像データの露出補正が行われる - 特許庁

The control means acquires an exposure image of the imaging element in a state wherein the main reflecting surface 61 is moved to a mirror-up position and an eye piece shutter of the finder optical system is opened, and performs detection processing for detecting a defective pixel of the imaging element 7 based upon the exposure image.例文帳に追加

制御手段は、主反射面がミラーアップ位置に移動され且つファインダ光学系のアイピースシャッタが開放された状態において撮像素子による露光画像を取得し、当該露光画像に基づき撮像素子の欠陥画素を検出する検出処理を実行する。 - 特許庁

To provide a stage controlling apparatus which is capable of shortening a time required for moving a stage without having an adverse effect such as vibrations even when a travel distance of the stage is short, and to provide an exposure system and a stage control method.例文帳に追加

ステージの移動距離が短くとも、振動等の悪影響を生じずに移動に要する時間を短縮することができるステージ制御装置、露光装置、ステージ制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation control device and a radiation image capturing system that may suppress an exposure dose with respect to a subject, while preventing degradation of a quality of a radiation image in a region of interest.例文帳に追加

関心領域における放射線画像の画質の低下を防止しつつ、被検者に対する被曝量を抑制することのできる放射線制御装置および放射線画像撮影システムを得る。 - 特許庁

Moreover, the control unit 161 changes settings of the exposing conditions of the exposure unit 5 to provide the constant line width of the wafer treated later by the coating development treatment system based on the trend of the line width.例文帳に追加

そして，制御装置１６１は，当該線幅の傾向に基づいて，今後塗布現像処理システムで処理されるウェハの線幅が一定になるように，露光装置５の露光条件の設定を変更する。 - 特許庁

An optimum synchronous shifting speed for a given sectional region at an outer boundary part of a sensitive substrate (W) is determined by a main control system 20, on the basis of exposure map data stored in a memory unit 19.例文帳に追加

主制御系２０が、記憶装置１９に記憶された露光マップデータに基づいて、感応基板Ｗの外周部の特定の区画領域に関する、適正化された同期移動速度を決定する。 - 特許庁

To provide a photometric mechanism by which proper exposure control is attained by performing correct photometry corresponding to the viewing angle of a photographing screen changing in accordance with the change of the focal distance of a photographing optical system.例文帳に追加

撮影光学系の焦点距離の変化に応じて変化する撮影画面の画角に対応した正確な測光を行なうことができ適正な露出制御を可能とした測光機構を提供する。 - 特許庁

To provide a new transmission system for an exposure sequence period between a camera and an electronic flashing device, to reduce the amount of power consumed for switching control of an X-contact.例文帳に追加

Ｘ接点のスイッチング制御に消費する電力量を削減するために、カメラと電子閃光装置との間における露光シーケンス期間の新しい伝達方式を提示することを目的とする。 - 特許庁

A system controller 112 is provided with a stereo adaptor detection section 112d that detects the mounted stereo adaptor, an automatic exposure(AE) control section 112e that analyzes an object image signal with respect to a photometry area to calculate photometry information required for the exposure control, and a photometry area setting section 112f that sets the photometry area.例文帳に追加

システムコントローラ１１２には、ステレオアダプタの装着を検出するステレオアダプタ検出部１１２ｄ、測光エリアに関する被写体画像信号を解析して露出制御に必要な測光情報を算出するための自動露出（ＡＥ）制御部１１２ｅ、および上述の測光エリアの設定を行う測光エリア設定部１１２ｆが設けられている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing electronic equipment by which the occurrence of defects caused by distortion errors can be prevented, even when the margin of alignment accuracy is small manufacturing of a system LSI, etc., having fine wiring, and to provide an exposure control system.例文帳に追加

微細な配線を持つシステムＬＳＩ等の製造において、合わせ精度の余裕が小さい場合においても歪み誤差による欠陥の発生を防ぐことが可能となる電子部品の製造方法および露光制御システムを提供することにある。 - 特許庁

To provide an optical system, capable of reducing astigmatism on the whole surface by bending a lens to a specific direction to control it, when the lens is deformed due to exposure load (heat) in the optical system, and astigmatism is generated on the whole surface, as a result of the deformation.例文帳に追加

光学系において、露光負荷（熱）によりレンズ変形が生じ、その結果として全面アスが発生する場合において、レンズを特定方向に曲げコントロールすることで全面アスを低減することができる光学系を提供すること。 - 特許庁

In order to install control as to whether the strobe light emission control is carried out or not in response to the lightness of an object in the camera system for executing automatic exposure adjustment by firmware operated on a controller built in an imaging signal processing circuit system, a light emission propriety can easily be adjusted and set.例文帳に追加

撮像信号処理回路系に内蔵されたコントローラ上で動作するファームウェアにより自動露光調整を行うカメラシステムにおいて、被写体の明るさに応じてストロボ発光制御を行う／行わないという制御を実装するために、容易に発光可否のしきい値を調整及び設定できるようにする。 - 特許庁

When the zooming and electronic flash photographing is performed with the digital camera 1, a photometric angle control means 30 performs variable control of the photometric angle of a photographic system photometric means 29 so that a photometric angle of the photographic system photometric means 29 coincides with a photometric angle of a strobe photometric means 28 and stably photographs successful image constantly with the proper exposure.例文帳に追加

デジタルカメラ１でズームによりストロボ撮影するとき、測光角制御手段３０は撮像系測光手段２９の測光角とストロボ測光手段２８の測光角が一致するように撮像系測光手段２９の測光角を可変制御して、常に適正露光で良質な画像を安定して撮像する。 - 特許庁

To provide an exposure control system for a video camera which can perform control to a proper exposure level even when a subject with high luminance has a thick color by providing a detection part for a luminance signal component generated on the basis of a video signal generated by an image pickup element, a detection part for a color difference signal component, and a diaphram control means which controls the diaphram quantity of an iris.例文帳に追加

撮像素子により生成される映像信号に基づいて形成される輝度信号成分の検波部と、色差信号成分の検波部と、両者の加算信号に基づいて前記アイリスの絞り量を制御する絞り量制御手段とを備えることにより、輝度の高い被写体において、濃い色彩がある場合でも適切な露出レベルに制御しうるビデオカメラの露出制御方式を提供する。 - 特許庁