「Mask Stage」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A mask stage holds a mask by having a certain spacing from the wafer.例文帳に追加

マスクステージが、ウエハからある間隔を隔ててマスクを保持する。 - 特許庁

To easily attain exchange of a mask stage and the fixing of the mask stage to a prescribed position.例文帳に追加

露光装置において、マスクステージの交換、所定の位置への固定を容易に行えるようにすること。 - 特許庁

The second handler 12a holds the second mask M2 and carries the mask to a mask stage 2.例文帳に追加

第２のハンドラ１２ａは、第２のマスクＭ２を保持し、マスクステージ２へ搬送する。 - 特許庁

The wafer stage is replaced thereafter with a mask stage for supporting the mask in a surface height equivalent to a surface height of the wafer mounted on the wafer stage, and the mask is mounted on the mask stage.例文帳に追加

その後、ウェハーステージに装着される前記ウェハーの表面高さと対等な表面高さにマスクを支持するマスクステージで前記ウェハーステージを交替し、マスクステージにマスクを装着する。 - 特許庁

EXPOSURE METHOD, PHOTO MASK AND RETICLE STAGE例文帳に追加

露光方法、フォトマスクおよびレチクルステージ - 特許庁

MASK STAGE DRIVE MECHANISM AND ITS CONTROLLING METHOD例文帳に追加

マスクステージ駆動機構及びその制御方法 - 特許庁

A mask stage supports the first leveling mechanism.例文帳に追加

マスクステージが第１のレベリング機構を支持する。 - 特許庁

SUPPORT MECHANISM AND MASK STAGE USING SUPPORT MECHANISM例文帳に追加

支持機構及び支持機構を使ったマスクステージ - 特許庁

At the time of mounting the mask stage, the guides 22 are moved up, and the mask stage is placed on the guides 22, and the legs 21 are moved down so that a mask stage MS can be absorbed and fixed by the mask stage absorbing and fixing parts 31.例文帳に追加

マスクステージを取り付けるには、ガイド２２を上昇させてガイド２２上にマスクステージを載置し、脚２１を下降させて、マスクステージＭＳをマスクステージ吸着固定部３１により吸着固定する。 - 特許庁

MASK STAGE MOUNTING STRUCTURE IN ALIGNER例文帳に追加

露光装置におけるマスクステージの取り付け構造 - 特許庁

The plurality of mask holding pins hold the mask M while the mask M is supplied by a mask loader to the substrate stage 11 positioned at a loading position WP1 and the substrate stage 11 is moved from the loading position WP1 to a position below a mask stage 10 and attached to the mask stage 10.例文帳に追加

複数のマスク保持ピンは、マスクＭがマスクローダによってローディング位置ＷＰ１に位置する基板ステージ１１に供給され、基板ステージ１１がローディング位置ＷＰ１からマスクステージ１０の下方位置に移動し、マスクステージ１０に装着される間、マスクＭを保持する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can eliminate distortion in a mask while keeping the mask on a mask stage when stress acts on the mask to induce distortion upon sucking and holding the mask to the mask stage, that increases reproducibility of the shape of the mask kept on the stage and that can carry out exposure transfer with high accuracy.例文帳に追加

マスクをマスクステージに吸着保持する時にマスクに応力が作用して歪みが生じた際、マスクステージにマスクを保持させた状態で歪みを解消することができ、保持されたマスク形状の再現性を高め、高精度の露光転写を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

When the mask M is held on the mask stage 10, a film 90 is sandwiched between the mask holder 14 and the mask M.例文帳に追加

マスクＭがマスクステージ１０に保持される際、マスクホルダ１４とマスクＭとの間には、フィルム９０が挟持されている。 - 特許庁

A plurality of spacers having equal heights one another are inserted between the mask and the work stage, the mask and the sections not holding the work on the work stage is contacted via the spacers and the inclination of the work stage is aligned with that of the mask and fixed to the mask so that the intervals between the mask and the work stage becomes constant.例文帳に追加

マスクとワークステージとの間に、互いに高さが等しい複数のスペーサを挿入し、マスクとワークステージのワークを保持しない部分とをスペーサを介して接触させ、両者の間隔が一定になるようにマスクの傾きに対してワークステージの傾きを合わせて固定する。 - 特許庁

The aligner 1 is provided with a mask stage 4 for holding a photomask 5, a mask driver 14 for rotating the mask stage 4, a substrate stage 10 for holding the substrate 11, and a substrate driver 8 for rotating the substrate stage 10 in synchronization with the mask stage 4.例文帳に追加

本発明における露光装置１は、フォトマスク５を保持するマスクステージ４と、マスクステージ４を回転運動させるマスク用駆動装置１４と、基板１１を保持する基板ステージ１０と、マスクステージ４と同期させて基板ステージ１０を回転運動させる基板用駆動装置８とを備えている。 - 特許庁

To provide a mask blank substrate having preferable flatness after the substrate is chucked by a mask stage of an exposure system.例文帳に追加

露光装置のマスクステージにチャックした後の平坦度が良好なマスクブランク用基板。 - 特許庁

A mask holding part 3 of a mask stage 1 has a first holding member 8 and a second holding member 9.例文帳に追加

マスクステージ１のマスク保持部３は、第１保持部材８と、第２保持部材９とを備える。 - 特許庁

To image alignment marks of a wafer stage and a mask stage by one imaging apparatus.例文帳に追加

ウェハステージとマスクステージのアライメントマークを１台の撮像装置で撮像可能とする。 - 特許庁

The mask stage 1 includes a mask holder 16 that adherently holds the mask M, and the mask holder 16 has a recessed part 16c on the adhering face with the mask M, at a position corresponding to an edge of the mask M.例文帳に追加

また、マスクステージ１がマスクＭを密着保持するマスクホルダ１６を有すると共に、このマスクホルダ１６がマスクＭに対する密着面であってマスクＭのエッジ部に対応する位置に凹部１６ｃを有している。 - 特許庁

To provide a mask which can be suitably used for measuring the position control accuracy of a mask stage or substrate stage.例文帳に追加

マスクステージ又は基板ステージの位置制御精度の計測に好適に用いることができるマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a mask inspection device capable of detecting phase defect at the stage of mask blank that is a stage before depositing a absorber pattern.例文帳に追加

吸収体パターンを被着させる前のマスクブランクの段階で位相欠陥を検出することが可能な装置を提供する。 - 特許庁

The lithography apparatus comprises a support structure mask stage for fixing an object 5 (a substrate such as a wafer and a mask) and a wafer stage, wherein partitions are delimited by the support structure mask stage, the wafer stage, and the object 5 (a substrate such as a wafer and a mask) fixed on the support structure mask stage and the wafer stage.例文帳に追加

対象物５（ウエハ、マスク等の基板）を固定するようになされた支持構造マスクステージ、ウエハステージを備えたリソグラフィ装置において、支持構造マスクステージ、ウエハステージおよび支持構造マスクステージ、ウエハステージ上に固定された対象物５（ウエハ、マスク等の基板）は区画を画定している。 - 特許庁

1987: Menbako hiraki (a well-trained actor performs a special programs with the permission of the grand master of the school, taking out the mask from the menbako, which is the box containing Noh masks, on the stage) in Noh play 'Okina' (an old man). 例文帳に追加

1987年　能「翁」面箱披キ - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A mask stage position measuring device 66 measures the position of the mask stage 10 and its attitude in a horizontal plane with two mask stage length measuring mirrors 71A, 71B arranged on the side of the mask stage 10, by being separated in a direction orthogonal to a moving direction of the substrate stages 11, 12.例文帳に追加

マスクステージ位置測定装置６６は、基板ステージ１１,１２の移動方向と直交する方向に離間し、マスクステージ１０の側面に配置された２箇所のマスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂによりマスクステージ１０の位置及び水平面内での姿勢を測定する。 - 特許庁

A mask stage 1 includes a first holding part 4 and a second holding part 6.例文帳に追加

マスクステージ１は、第１保持部４と、第２保持部６とを備える。 - 特許庁

A thermocouple 18 is attached to a mask stage 15 and is connected to a controlling apparatus 29.例文帳に追加

マスクステージ１５には熱電対１８が取り付けられている。 - 特許庁

To achieve weight saving and downsizing of a mask stage apparatus for a large exposure apparatus.例文帳に追加

大型の露光装置用マスクステージ装置を軽量化、小型化すること。 - 特許庁

MASK HOLDER, STAGE DEVICE, ALIGNER, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

マスクホルダ、ステージ装置、露光装置、並びにデバイスの製造方法 - 特許庁

MASK, STAGE DEVICE, ALIGNER, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスク、ステージ装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

A shade 23a light-shielding a part of a mask M is mounted on a mask stage 5 holding the mask M.例文帳に追加

マスクＭを保持するマスクステージ５上には、マスクＭの一部を遮光する遮光板２３ａが設けられている。 - 特許庁

The exposure device has a mask stage device ST for holding a mask and a lighting device IL2 for lighting up a mask.例文帳に追加

マスクを保持するマスクステージ装置ＳＴと、マスクを照明する照明装置ＩＬ２とを有する。 - 特許庁

In addition, when the mask stage MST moves in the Y-axis direction, a pair of stage guides 50 simultaneously moves in the Y-axis direction, and consequently a width of the stage guides 50 in the Y-axis direction can be reduced, thus weight saving of a mask stage apparatus can be achieved.例文帳に追加

また、マスクステージＭＳＴがＹ軸方向に移動するとき、一対のステージガイド５０も同時にＹ軸方向に移動するので、ステージガイド５０のＹ軸方向幅を小さくすることができ、装置が軽量化できる。 - 特許庁

A mask stage MST for supporting a mask M comprises a rough motion stage 16, a fine motion stage 18, a linear motor for moving the rough motion stage 16 in a specified direction, and a linear motor for moving the fine motion stage 18 in a specified direction above the rough motion stage 16.例文帳に追加

マスクＭを支持するマスクステージＭＳＴは、粗動ステージ１６と、微動ステージ１８と、粗動ステージ１６を所定方向に移動するリニアモータと、微動ステージ１８を粗動ステージ１６上で所定方向に移動するリニアモータとを備えている。 - 特許庁

A mask stage 10 has a mask sucking section 70 holding four sides of a large mask Ma as well as can hold a rectangular small mask Mb having an area smaller than the large mask Ma via a mask adaptor 80 mounted on the mask sucking section 70.例文帳に追加

マスクステージ１０は大マスクＭａの四辺を保持するマスク吸着部７０を有すると共に、マスク吸着部７０に取り付けられるマスクアダプタ８０を介して大マスクＭａより面積が小さい略矩形状の小マスクＭｂを保持可能である。 - 特許庁

The mask drive 14 is constituted to continuously change of the mask stage 4 in the moving direction in the rotating operation of the mask stage 4, and to move in the straight the mask stage at the location where the photomask 5 is irradiated with the exposing light.例文帳に追加

マスクステージ４の回転運動において、マスクステージ４の移動方向の変化を連続的とするように、かつフォトマスク５に露光光が照射される位置においてマスクステージ４を直線状に移動させるようにマスク用駆動装置１４は構成されている。 - 特許庁

A z-y stage to move the cleaning unit 12 moves the cleaning unit 12 so as to rotate and bring each sticky 57 into contact the mask 10 and with the upper face of the stage to rotate over the mask 10 and the upper face of the stage, and thereby, removing dust from the surface of the mask 10 and the stage front face.例文帳に追加

このクリーニングユニット１２を移動させるｚ−ｙステージは、各粘着ローラ５７をマスク１０及びステージ上面に接触させて転がすように当該クリーニングユニット１２を移動させることによって当該マスク１０の表面及びステージ正面を除塵する。 - 特許庁

The energy beam irradiator is provided with an energy beam emitting device 12, a mask stage 22 for holding the stencil mask 6, a specimen stage 2 for holding the semiconductor wafer 4 and a vibration generating mechanism 23 which causes the mask stage 22 and the specimen stage 2 to relatively vibrate.例文帳に追加

エネルギービームの射出装置１２と、ステンシルマスク６を保持するマスクステージ２２と、半導体ウェーハ４を保持する試料ステージ２と、マスクステージ２２と試料ステージ２を相対的に振動させる振動発生機構２３を備えている。 - 特許庁

The exposure apparatus includes a work stage holding a substrate as an exposure object, a mask stage 1 holding a mask M having a mask pattern as opposing to the substrate, and an irradiating means (exposure illumination optical system) irradiating the substrate with light for mask pattern exposure through the mask M.例文帳に追加

この露光装置は、被露光材である基板を保持するワークステージと、マスクパターンを有するマスクＭを基板に対向させて保持するマスクステージ１と、マスクパターン露光用の光をマスクＭを介して基板に照射する照射手段（露光用照明光学系）とを備えている。 - 特許庁

To maintain a space including an optical path of illumination light radiated to a mask in a clean state without surrounding the entire mask stage device including a mask stage by an airtight shield container.例文帳に追加

マスクステージを含むマスクステージ装置の全体を気密型の遮蔽容器で取り囲むことなく、マスクに照射される照明光の光路を含む空間内をクリーンな状態に維持する。 - 特許庁

Or the attitude control mechanism includes a straightening means 11 which is arranged in the mask stage 6 for holding a photo mask 1 mounting the pellicle structure 2 thereon and straightens the airflow near the film surface of the pellicle film 3 when the mask stage 6 is scanned.例文帳に追加

または、ペリクル構造体２が装着されたフォトマスク１を保持するマスクステージ６に設けられ、このマスクステージ６の走査時にペリクル膜３の膜面付近の気流を整流する整流手段１１を有する。 - 特許庁

When a plurality of predetermined positions on the substrate W are to be exposed, the work stage feeding mechanism 2 relatively moves the work stage 2 with respect to the mask stage 1 while keeping the exposure gap between the substrate W and the mask M.例文帳に追加

基板Ｗ上の複数の所定位置で露光する際、ワークステージ送り機構２は、基板ＷとマスクＭとの間の露光ギャップを保持したまま、ワークステージ２をマスクステージ１に対して相対移動する。 - 特許庁

To realize a mask substrate inspection method effective for solving a problem of production yield lowering due to deterioration in the flatness of the mask substrate which is caused by chucking the mask substrate on the mask stage of a wafer aligner.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の検査方法を実現すること。 - 特許庁

A contact portion in contact with a mask substrate and a pressing portion for pressing the contact portion against the mask substrate are provided on a mask stage which is movable with the mask substrate mounted thereon, with the substrate having a circuit pattern formed.例文帳に追加

回路パターンが形成されたマスク基板を載置して移動可能なマスクステージ上に、マスク基板と当接する当接部と、そのマスク基板を当接部に押圧する押圧部とを設ける。 - 特許庁

While a first mask M1 is exposed, a first handler 11a picks up a second mask M2 to be used next from a mask storage section 6, and places the mask on a pre-alignment stage 5 for pre-alignment.例文帳に追加

第１のマスクＭ１での露光中に、第１のハンドラ１１ａがマスク保管部６から次に使用する第２のマスクＭ２を取り出し、プリアライメントステージ５に載せてプリアライメントを行う。 - 特許庁

The inclination of a mask 6 is obtained, by preliminarily approaching the mask at three or more separated points, and the inclination is corrected by a biaxial tilt sample stage 4 to process the mask, while the mask surface is kept parallel to a scanning plane.例文帳に追加

予めマスクの離れた3点以上でアプローチを行いマスク6の傾きを求めておき、傾きを2軸チルト試料ステージ4で補正してスキャン面とマスク面が平行になる状態で加工を行う。 - 特許庁