「SCRATCHES」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an adhesive sheet for dicing which allows an electric conduction inspection even in the condition that a semiconductor wafer or a semiconductor chip formed by dicing a semiconductor wafer is laminated, and can prevent deformation (warpage) and damage of the semiconductor wafer, and occurrence of flaws and scratches on the rear surface, and a manufacturing method of a semiconductor device using the same.例文帳に追加

半導体ウェハ、又は半導体ウェハのダイシングにより形成された半導体チップを貼り合わせた状態でも電気的な導通検査を行うことができ、その検査における半導体ウェハの変形（反り）や破損、裏面のキズやスクラッチの発生を防止することが可能なダイシング用粘着シート、及びそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer polishing pad corresponding to a slurryless state and being capable of reducing occurrence of scratches and eliminating aggregation of grinding particles in the pad and holding the intra- surface uniformity of polishing rates of a polishing target at an extremely excellent state to use the polishing pad for a polishing process for flattening the fine ruggedness of fine patterns formed on a semiconductor wafer.例文帳に追加

本発明は、半導体ウエハ上に微細なパターンが形成されており、該パターンの微小な凹凸を平坦化する研磨工程に使われる研磨パッドにおいて、スラリーレス対応で、スクラッチの発生の少なく、パッド中の砥粒の凝集が無く、スクラッチが発生しにくく、且つ研磨対象の研磨レートの面内均一性が極めて良好な半導体ウエハ研磨用パッドを提供するものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayer molded article, which, in producing the multilayer molded article by arranging a decorative sheet inside a cavity and injecting a resin into the cavity to make a resin molded body solid with one surface of the decorative sheet, does not bring about molding defects on the surface, such as scratches and smudges, and also restrains the optical design of the surface from deteriorating.例文帳に追加

加飾シートをキャビティ内に配置するとともにキャビティ内に樹脂を注入して、加飾シートの片面に樹脂成形体が一体化した多層成形体を製造する場合において、表面に傷、汚れなどの成形不良を生じさせないとともに、表面の光学的意匠性の低下をも抑制する多層成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

After sintering and fusing abrasive grains to be fixed using nickel-based brazing metal, macro- and micro-scratches are reduced by filling or covering by spreading-coating unsintered parts which are likely to be cracked or removed from a sintered surface with recrystallized parts for reducing a defective rate of polished products, and improving service life of polishing.例文帳に追加

研磨粒子をニッケル系ブレージング金属を用いて焼結融着して固定させた後、焼結表面から割れるとか、外れ出しやすい未焼結の部分と再結晶された部分とを展着コーティング処理により充填させたり、覆ったりすることにより、マクロ及びマイクロスクラッチを画期的に減らし、被研磨製品の不良率を低めて研磨寿命を高めることができる。 - 特許庁

To provide a conductor wire further prevented from progress of corrosion, hardly receiving damage and becoming dusty during preservation, hardly affected by the minute surface scratches received at the drawing process of the conductor material, and to provide an excellent insulating wire resistant against corona discharge, hardly generating dielectric breakdown, with a long insulation life, and further provide an electric coil and cable formed by this.例文帳に追加

導体線の腐食進行をより一層防止し、該導体線の保存時に受ける傷やほこりがつきにくく、導体材料の伸線工程で受ける微小な表面傷の悪影響が出にくい導体線を提供し、また、コロナ放電に強く、絶縁破壊が生じにくく、絶縁寿命が長い優れた絶縁電線とこれにより形成される電気コイルおよびケーブルを提供する。 - 特許庁

A repairing material 20 to fill and repair scratches 11 on genuine leather 10 used to manufacture a genuine leather product is produced by adding 20-40 pts.mass of leather particle filler 22, produced by granulating waste genuine leather into particles having a diameter smaller than the width of the scratch 11, to 100 pts.mass of a resin paint of aliphatic polyester-based urethane resin 21 dissolved in isopropyl alcohol.例文帳に追加

本革製品に用いられる本革材１０の傷１１に充填して傷１１を修復する革傷の修復材２０であって、脂肪族ポリエステル系ウレタン樹脂２１をイソプロピルアルコールに溶解した樹脂塗料１００質量部に、傷１１の幅より小さい粒径に本革の廃材を粒子化した革粒子フィラー２２を２０〜４０質量部添加してなることを特徴とする革傷の修復材。 - 特許庁

To provide a film carrier, capable of excellently removing dust on a film in the state of suppressing static electricity inside the film carrier and of suppressing influence by the dust such as the projection of the dust to print images and scratches on the film by the dust for that even when a photographic film is electrified before being set to the film carrier and the dust is stuck by the static electricity for instance.例文帳に追加

例えば、写真フィルムがフィルムキャリアにセットされるまでの間に静電気を帯び、この静電気により、埃が付着していることがあっても、該フィルムキャリア内において、フィルムにおける埃を、静電気を抑制した状態で、良好に除去でき、それだけプリント画像への埃の写り込みや埃によるフィルムへのキズ付きといった埃による影響を抑制することができるフィルムキャリアを提供する。 - 特許庁

To provide a polymer electrolyte membrane stack that maintains form stability of a polymer electrolyte membrane in a high level by preventing the occurrence of wrinkles, unevenness, scratches, and peeling of the polymer electrolyte membrane during winding, transportation, and preservation, and further, has hardly occurrence of tube-like curling even if the environmental temperature and humidity during roll fabrication of the polymer electrolyte membrane stack and its operation using temperature and humidity are different greatly.例文帳に追加

巻き取り時、輸送時や保存時における高分子電解質膜のシワ、凹凸、キズ、及び剥離などの発生を防いで、高分子電解質膜の形態安定性を高度に維持することができ、さらに、高分子電解質膜積層体のロール作製時の環境温湿度とその使用温湿度が大きく異なっても、筒状のカールが発生しがたい高分子電解質膜積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated element for polishing, which can be used in a polishing pad capable of high speed polishing for giving high uniformity particularly in the case of low pressure polishing, and to solve the problem that in a conventional polishing pad having a polishing layer laminated on a cushion layer, scratches are easily formed on the surface of a workpiece when the surface of a comparatively soft material is polished.例文帳に追加

従来の、クッション層の上に研磨層を積層した研磨パッドの、比較的柔らかい材料の表面を研磨した場合に、被加工物表面にスクラッチが入りやすいという問題を解決するためのもので、その目的とするところは、特に低圧で研磨する場合においても、均一性の高い高速研磨が実現可能な研磨パッドに用いられる研磨用積層体を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat-developable photosensitive material especially adapted to a printing plate, and superior in dot reproducibility at the time of printing on a PS plate, and superior in conveyability and resistance to occurrence of pinholes at the time of exposure and to occurrence of scratches, and high in Dmax and contrast, and capable of ultrahigh speed processing, and to provide an image forming method.例文帳に追加

熱現像感光材料および画像形成方法を提供すること、特に印刷製版用に適している熱現像感光材料および画像形成方法を提供すること、詳しくはＰＳ版に焼きつけた時の小点再現性にすぐれ、搬送性、露光時のピンホール、すり傷耐性に優れ、Ｄｍａｘが高く硬調で超迅速処理可能な熱現像感光材料および画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

Thus, when the polymer is used as a CMP abrasive, the dispersion stability of abrasive grains is improved and abrasion scratches are reduced.例文帳に追加

Ｎ-ビニルアミド系ポリマー中に含まれる微量のＮ-ビニルアミド系モノマー及び/またはＮ-ビニルアミド系モノマーの加水分解物である含窒素化合物の含有量をＮ−ビニルアミド系ポリマーに対して１０，０００ｐｐｍ以下に押さえること、またＮ−ビニルアミド系モノマーの加水分解物である含窒素化合物の含有量が、Ｎ−ビニルアミド系ポリマーに対して５％以下に抑える事によりＣＭＰ用研磨剤として用いた時砥粒の分散安定性が改良され、研磨傷が低減される。 - 特許庁