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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > SCRATCHESの意味・解説 > SCRATCHESに関連した英語例文

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SCRATCHESを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 916件



例文

To provide metal oxide particles by which CMP capable of preventing or reducing the occurrence of polishing scratches on a silicon oxide film, a metal buried film and the like can be performed, a polishing material containing it, a method for polishing a substrate using the polishing material and a method for producing a semiconductor device manufactured by polishing.例文帳に追加

酸化珪素膜、金属埋め込み膜等へ研磨傷の発生を防止又は低減することが可能なCMPが実施できる金属酸化物粒子、これを含む研磨材、この研磨材を用いた基板の研磨方法及び研磨して得られる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive cloth for processing texture which is an abrasive cloth for processing a hard disk at a high degree of accuracy and has grinding performance capable of sufficiently lessening surface roughness in a texture-processing of a hard disk manufacturing process, does not generate scratches and can exert excellent polishing accuracy.例文帳に追加

磁気ディスクの高精密加工用研磨布であり、特に、ハードディスク製造工程のテクスチャー工程において、表面粗さを十分小さくすることができる研削性能を有し、且つ、スクラッチを発生させることがない研磨精度の優れたテクスチャー加工研磨布の提供。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor for forming a good image for an extended time by preventing scratches on the photoreceptor surface that may cause a defective image without depending on a method of increasing mechanical strength, and to provide a process cartridge and an electrophotographic apparatus each having the photoreceptor.例文帳に追加

機械的強度を高める方法によらず電子写真感光体表面に生じる画像不良の原因となる大きさの傷の発生を抑制し、長期にわたり良好な画像の形成が可能な電子写真感光体、該感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To detect surface flaws which range from relatively small pore size to relative large pore size in a detector for detecting the surface flaw of the inner peripheral surface of a metal part or the like, for the purpose of detecting the presence or the kind of unevenness of irregularities, rolling marks or tool marks, sharp flaws such as scratches and the like.例文帳に追加

打痕や窪みなどの凹凸、圧延痕やツールマーク、引掻き傷のような鋭い傷の有無やその種類を検出する金属部品等の内周面の表面傷を検出する装置において、孔径の比較的小さなものから大きなものまで検出できるようにする。 - 特許庁

例文

To provide a self-recovering coating composition and a coating film using the same having high gloss and high transparency, not generating cracks or peeling of the coating film even after long-term use, and excellent in scratch resistance such that the scratches are not likely to remain even when being scratched.例文帳に追加

本発明の目的は、高光沢を有し、透明性が高く、長期間使用しても塗膜の割れ又は剥離が発生せず、傷がついてもその傷が残りにくい耐擦傷性に優れた自己復元性塗料組成物及びそれを用いた自己復元塗膜を提供することである。 - 特許庁


例文

To provide a radically polymerizable composition excellent in transparency and forming a film that is excellent in both visibility and wiping of fingerprint staining adhered to the surface of a molded product, such as a film or a sheet comprising, for example, wood, paper, glass, plastics, etc., and also that prevents generation of scratches.例文帳に追加

例えば木、紙、ガラス、プラスチック等からなるフィルムまたはシート等の成形品表面に付着した指紋汚れの視認性及び拭き取り性の双方に優れ、更には傷の発生を防止可能な被膜を形成できる透明性に優れたラジカル重合性組成物の提供。 - 特許庁

To provide polishing tools such as polishing belts, polishing tapes, and polishing disks, which can suppress the occurrence of scratches and can effectively remove deposits having mutually different properties in polishing or cleaning work for removing deposits having mutually different properties deposited on the surface of a glass substrate or the like, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ガラス基板等の表面に付着した性質の異なる付着物を除去する研磨又はクリーニングにおいて、スクラッチの発生を抑え、性質の異なる付着物を効率的に除去できる研磨ベルト、研磨テープ及び研磨ディスク等の研磨用具及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a carrier for a double-side polishing apparatus, a double-side polishing apparatus and a double-side polishing method which suppress deterioration in the shape of a chamfered portion of a wafer, and the occurrence of scratches in the plane of the wafer and the chamfered portion while preventing the breakage of a peripheral edge of the wafer.例文帳に追加

ウェーハの周縁部の破損を防ぎつつ、ウェーハの面取り部の形状悪化及びウェーハの面内や面取り部におけるスクラッチの発生を抑制できる両面研磨装置用キャリア及び両面研磨装置並びに両面研磨方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a surface cleaning method of a casting support, capable of preventing the occurrence of scratches caused when wiping of dirt on the casting support, and also capable of enhancing the efficiency of removal of the dirt on the casting support, and to provide a method for manufacturing of a solution-deposited film.例文帳に追加

流延支持体上の汚れの拭き取り時のキズの発生を抑制することができるとともに、流延支持体上の汚れの除去効率を上げることができる流延支持体の表面清掃方法及び溶液製膜フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a set for adjusting a water-based dispersing element for chemical-mechanical polishing which can suppress surface defects such as dishing, erosion, and scratches in a process of flattening a polished surface by chemical-mechanical polishing, and which excels in long-time stability even in a concentrated state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョンないしスクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、かつ、濃縮状態においても長期安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体を調製するためのセットを提供すること - 特許庁

例文

To provide a mobile phone preventing scratches on a display face generated by the interference of a positioning button on the display face, in a state of keeping the sense-of-touch properties of the positioning button, even when the display face and a button face have to be stuck.例文帳に追加

本発明は、表示面とボタン面とを密着させる必要がある場合にも、ポジショニングボタンの触覚性を維持した状態で、ポジショニングボタンが表示面に干渉することにより生じる表示面の傷を防止することができる携帯電話機を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a set for manufacturing a water-based dispersing element for chemical-mechanical polishing which suppresses surface defects such as dishing, erosion, and scratches in a process of flattening a polished surface by chemical-mechanical polishing, and which excels in long-time stability even in a concentrated state.例文帳に追加

化学機械研磨による被研磨面の平坦化工程においてディッシング、エロージョンないしスクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、かつ、濃縮状態においても長期安定性に優れる化学機械研磨用水系分散体を調製するためのセットを提供すること。 - 特許庁

To provide a bladder for vulcanization which does not generate scratches on the inner surface of a tire to be caused by rubbing when the bladder is released by shrinking after vulcanization of a pneumatic tire is finished and does not generate disorder of arrangement of carcass cords for the tire caused by channels of the bladder when the tire is vulcanized.例文帳に追加

空気入りタイヤの加硫終了後、ブラダーを収縮離脱させる時に擦れによりタイヤの内表面に引っ掻き傷を生じないようにし、またタイヤ加硫時にブラダーの溝によりタイヤのカーカスコードの配列乱れを起こさないようにした加硫用ブラダーの提供。 - 特許庁

To distinguish a normal pattern and a noise pattern from each other, to accurately correct color slippage and to obtain an image of high printing quality without forming and detecting a registration pattern detected with dust and dirt and scratches again at forming the registration pattern on an intermediate transfer belt.例文帳に追加

中間転写ベルト上のレジストレーションパターン形成時にゴミ、埃また傷等を含んで検出されたパターンを、再度形成、再度検出することなく、正規のパターンとノイズパターンを判別し、正確な色ずれ補正を行うことができ、印字品質の高い画像を得る事ができる。 - 特許庁

To reduce dust adhered to the surface of an object to be polished, to reduce scratches while ensuring a high flattening property and further to eliminate microscopic irregularity of a semiconductor wafer itself before finishing, that is, to correct defects expressed as waviness, nanotopology or the like by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、即ちwavinessや、nanotopologyなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which is capable of promoting step relaxation; capable of suppressing polishing residues of an embedding insulating film, peeling of capacitor lower electrode, and occurrence of scratches; and capable of reducing global step difference, in polishing an insulating layer for embedding the capacitor lower electrode of a capacitive element.例文帳に追加

容量素子の下部電極を埋め込む絶縁層の研磨に際して段差緩和が促進され、埋め込み用絶縁膜の研磨残り、下部電極の剥離、及びスクラッチの発生を抑制し、かつグローバル段差を低減させることが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating device that suppresses the generation of foams when delivering a high viscosity-resin solution, suppresses the generation of a thick inclination, and neither wastes the resin solution when performing coating nor scratches the surface of a core body or the like and a method for manufacturing a tube using the same.例文帳に追加

高粘度の樹脂溶液を吐出する際の泡の発生を抑え、膜厚勾配の発生を抑え、塗布の際の樹脂溶液の無駄や芯体表面の傷等を生じさせることがない塗布装置及びそれを用いた管状物の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a polishing pad capable of preventing the occurrence of scratches on a substrate surface, and also, capable of optically excellently probing a polishing state during the polishing in the polishing pad used for forming a flat face in glass, a semiconductor, a dielectric/metal complex, and an integrated circuit or the like, and a polishing device.例文帳に追加

ガラス、半導体、誘電/金属複合体及び集積回路等に平坦面を形成するのに使用される研磨用パッドにおいて、基板表面にスクラッチが生じにくく、研磨中に研磨状態を光学的に良好に測定できる研磨パッドおよび研磨装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing solution for metal which can continuously polish a substrate having an insulating film, a conductor film and a barrier metal film with the same polishing solution for metal, can obtain good flatness of a polished face, and can reduce the occurrence of scratches, and to provide a polishing method employing the same.例文帳に追加

絶縁膜、導体膜及びバリア金属膜を有する基板を、同一の金属用研磨液で連続的に研磨することが可能であり、研磨後の被研磨面の平坦性が良好で、且つ、スクラッチの発生を低減できる金属用研磨液、及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing conductive fine particles having a plating layer of extremely uniform in thickness and free from scratches without being accompanied with agglomeration of the fine particles to be plated during the plating process and the method for producing the conductive fine particles comprising the resin fine particles and a tin/silver alloy plating layer formed thereon.例文帳に追加

めっき中に被めっき微粒子が凝集することなく、また傷発生のない、極めて均一な厚さのめっき層を有する導電性微粒子の製造方法、及び、樹脂微粒子の表面に錫/銀合金めっき層が形成された導電性微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The contour emphasis circuit 205 controls a contour emphasis amount in contour emphasis processing when generating images on the basis of the signals of the light receiving part of the solid-state imaging element 102 corresponding to the detected result of the beat noise components or the linear scratches by the vertical line/horizontal line detection circuit 204.例文帳に追加

輪郭強調回路205は、縦線・横線検出回路204によるビートノイズ成分もしくは線状のキズの検出結果に応じて、固体撮像素子102の受光部の信号に基づいて画像を生成する際の輪郭強調処理における輪郭強調量を制御する。 - 特許庁

To decrease dust adherence to surface of a polishing object, to reduce scratches, to simultaneously realize a flatting property, and to eliminate microscopic irregularity of a semiconductor wafer itself before uneven part machining, namely defects expressed as waviness or nanotopology, by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、即ちwavinessや、nanotopologyなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

Consequently, in starting the rotation of the shaft, the circulation of the fluid is increased in speed to form a fluid film layer quickly, thereby improving the blocking action of film lubrication that is unavoidable in prior art, and surely preventing the occurrence of scratches caused by the starting of the rotation in closed contact state as well.例文帳に追加

このため、回転始動時に流体の循環が速くなり、流体層が迅速に形成され、従来技術で起こり得た流体循環性阻止作用が改善されると共に、密着状態での回転始動により惹起する傷発生を確実に防止できる。 - 特許庁

To reduce the labor and time for a replacing work and to prevent the outer peripheral surface of a photoreceptor from being repeatedly scratched by integrally replacing a member having high possibility causing the deterioration of image quality when the image quality is deteriorated caused by scratches on the outer peripheral surface of the photoreceptor.例文帳に追加

感光体の外周面の傷付きが原因となって画像品質が低下した場合、画像品質低下の原因となっている可能性の高い部材を一体に交換し、交換作業の手間を軽減するとともに感光体の外周面に同じような傷が付くことの繰り返しを防止する。 - 特許庁

To provide a polishing method which is capable of polishing a substrate equipped with an insulating film, a conductor film, and a barrier metal film continuously by the use of the same metal polishing liquid; obtaining a polished surface of good planarity; and reducing the occurrence of scratches; and to provide a metal polishing liquid used for it.例文帳に追加

絶縁膜、導体膜及びバリア金属膜を有する基板を、同一金属用研磨液で連続的に研磨することが可能であり、研磨後の被研磨面の平坦性が良好で、且つ、スクラッチの発生を低減できる研磨方法、及びそれに用いる金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

To prevent a failure of predictable recording by detecting scratches and stains on a disk before recording and reproducing information and notifying a user of a result of the detection, and on the other hand, to prioritize recording and reproduction by making the user recognize the stains on the disk to avoid repeating the notification.例文帳に追加

情報の記録再生に先立って、ディスクの傷や汚れを検出し、検出した結果を使用者に通知することで予測可能な記録の失敗を防止する一方、ディスクの汚れを使用者が認知した上での繰り返しの告知を回避し、記録再生を優先させること。 - 特許庁

To provide a rust-stabilized steel product which, when used in the naked state, accelerates rust stabilization to form a stable blackish brown rust at an early stage without generating running rust and which, when used in the coated state, effectively inhibits pinholes of a coating film or blisters due to scratches from occurring.例文帳に追加

裸使用時には錆安定化を促進し、流れ錆を生成せず、黒褐色の安定錆を早期に生成せしめると共に、塗装使用の場合には塗膜のピンホールや疵からの塗膜膨れを効果的に抑制せしめる錆安定化処理された鋼材を提供する。 - 特許庁

By accumulating a number of faulty sections such as scratches and discoloration, as a two-dimensional faulty section image, a two-dimensional faulty section image is simply stuck to a pseudo three-dimensional image of artificial work, and thereby a three-dimensional negative instance image corresponding to the work of the negative instance is created easily.例文帳に追加

2D不良部分画像として例えば傷や変色などの不良部分を数多く蓄積することにより、擬似的なワークの疑似3D画像に2D不良部分画像を貼り付けるだけで、容易に負事例のワークに相当する3D負事例画像が作成される。 - 特許庁

To provide a process for the heat treatment of a parent material for optical fibers that can remove ununiformity due to scratches, unevenness and contaminants on the surface of the parent material as well as the residual strain inside the parent material and the cloudiness caused by glass fine particles sticking to the surface on the parent material.例文帳に追加

光ファイバ母材表面の傷、凹凸、不純異物による不均一性の除去、光ファイバ母材内部の残留歪みの除去、および母材表面に付着したガラス微粒子による曇りの除去ができる、光ファイバ母材の熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preventing smudges in a sheet-fed rotary press machine and a smudge-preventing liquid which prevent the ink on a printed surface from transferring to each machine component, and also prevent printing quality deteriorations such as smudges or scratches from occurring on the printed body.例文帳に追加

印刷面のインキが印刷機の各機械構成要素へ転移することを防止するとともに、被印刷体に汚れや傷入りなどの印刷品質低下が発生することを防止する、枚葉輪転印刷機汚れ防止方法および印刷機汚れ防止液を提供すること。 - 特許庁

To prevent or reduce scratches made on a surface of a first housing 1 when the housing state is shifted from a fully closed state to a tilt state in a portable electronic apparatus where the first housing and a second housing are connected to each other and the housing state may be selectively set between the fully closed state and the tilt state.例文帳に追加

第1筐体1と第2筐体2が互いに連結され、全閉状態とチルト状態を選択的に設定することが可能な携帯型電子機器において、全閉状態からチルト状態への移行時に第1筐体1の表面が受け得る傷を防止若しくは軽減する。 - 特許庁

To fix and hold the glass substrates 20, 21 without bringing about scratches on the glass substrates 20, 21 or without bringing about slippage of relative positions of two sheets of glass substrates, in a spring clamper 1 and a spring clamper mounting tool for fixing and holding two sheets of glass substrates 20, 21 that are the panel member such as a plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルなどのパネル部材である二枚のガラス基板20,21を固定保持するばねクランパ1およびばねクランパ取付具において、ガラス基板20,20にキズの発生や二枚のガラス基板の相対的に位置ずれを起こすことなくガラス基板20,21を固定保持する。 - 特許庁

By performing the pre-rotating operation, countless fine scratches are formed on the surface of the new photoreceptor drum due to the contact of the developing roller 33, a transfer roller 20 and the cleaning roller 35 with the photoreceptor drum, and the proper roughness is formed on the surface as compared with the initial state of the mirror-finished surface.例文帳に追加

予備回転動作により、新しい感光体ドラムの表面には、現像ローラ33、転写ローラ20及びクリーニングローラ35が接触することで、無数の微細な擦りキズが形成され、最初の鏡面仕上げの状態から適当な粗さが形成されるようになる。 - 特許庁

To provide a polishing method for a copper layer of a substrate by which a polishing speed can be increased, the thickness of the copper layer of the substrate is made uniform, the occurrence of scratches on the surface of the copper layer can be suppressed, and heights of copper bumps can be made uniform in polishing the copper bumps.例文帳に追加

研磨速度を上げられ、また基板における銅層の厚さの均一性が得られ、かつ銅層表面のスクラッチの発生を抑制することができ、また銅バンプの研磨においては高さの均一性が得られる基板における銅層の研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reference piece that is used for stabilizing detection conditions when scratches such as cracks being developed inside an iron-based material are to be detected by using a magnetic flaw detector and is easily and inexpensively formed, and to provide a scratch detection method using the reference piece.例文帳に追加

鉄系材料の内部に発生しているクラック等のキズを磁気探傷器を用いて検出する場合に検出条件を安定化させるために使用され、簡便安価に形成される基準ピースを提供すると共に該基準ピースを用いたキズ検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a two-component developer and a replenishing developer, capable of suppressing deposition of a carrier on a photosensitive drum, improving dot reproducibility of an electrostatic latent image, suppressing a density reduction at a rear end of a solid image, suppressing a density reduction in an image for long-term use and suppressing scratches on the surface layer of a photoreceptor drum.例文帳に追加

感光ドラムへのキャリア付着の抑制、静電潜像のドット再現性の向上、ベタ画像後端の濃度低下の抑制、長期使用時の画像濃度低下の抑制、感光ドラム表層のキズ抑制を達成できる二成分系現像剤及び補給用現像剤を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming method and apparatus with which, even if scratches are produced due to foreign matter or the like on an image carrier carrying a toner image having the highest spectral reflectance in light wavelength 550 nm, it is difficult for human eyes to distinguish the toner image itself, consequently, the image is prevented from being recognized as a defective image.例文帳に追加

光の波長550nmにおける分光反射率が最も高いトナー像を担持する像担持体に異物等によってスクラッチ傷が生じてもこのトナー像自体は人間の目に識別しづらく、結果的に画像欠陥として認識されないようにする。 - 特許庁

To provide a working device for a glass substrate, reducing scratches occurring on the glass substrate by removing metallic foreign matters, and also to provide a method of working a glass substrate, a glass substrate for a magnetic disk or a glass substrate for a photomask, manufactured by the method, and a method of repeatedly working a glass substrate.例文帳に追加

金属異物を除去することによりガラス基板の傷の発生を低減できるガラス基板の加工装置、ガラス基板の製造方法、その方法により製造された磁気ディスク用ガラス基板またはフォトマスク用ガラス基板、及び繰り返しガラス基板を加工する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a box for packaging a display device glass substrate, which is composed of foaming material, thereby, capable of acquiring advantages, and also, preventing soiling and minute scratches on the substrate due to the transfer of organic matter or other foreign matter, and which can be easily and perfectly cleaned for reuse thereof.例文帳に追加

ガラス基板包装用ボックスを発泡性材質で構成することによる利点が得られると共に、有機物とその他異物の転写による基板の汚れ及び微細なスクラッチを防止でき、ボックスの再使用のための洗浄を簡便、かつ、完壁に行うことができる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus configured such that in matching the rotation phases of a plurality of photoreceptor drums of different drive motors, only a specific part of each photoreceptor drum is prevented from suffering from progress of friction and significant friction scratch, and nonuniform density and image scratches on an output image are prevented from becoming conspicuous.例文帳に追加

駆動モータが異なる複数の感光ドラムの回転位相を合わせる制御に際して、感光ドラムの特定位置に偏って摩耗が進行したり、摺擦傷が多く付いたりしないで済み、出力画像の濃度ムラや画像傷が目立たないで済む画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk device which can always perform stable recording or reproducing, by realizing stable position control of an objective lens, without losing continuity of control even in a defective region, when recording or reproducing an optical disk having a defective region, such as dirt or scratches.例文帳に追加

汚れ、傷などの欠陥領域を有する光ディスクを記録或いは再生する際に、欠陥領域においても制御の連続性を失うことなく、対物レンズの安定した位置制御を実現して、常に安定した記録或いは再生が行える光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

On a scale 5 for detecting a focal point, which is a medium for reflecting light, a plurality of scratches which are linear information each having reflectance different from that of the parallel medium are formed at an interval equal to the most suitable beam diameter 2ωyf condensed by a first converging optical system 2.例文帳に追加

光を反射する媒体である焦点位置検出用のスケール5上には第一の集光光学系2により集光される最適ビーム直径2ωyfと等しい間隔で、かつ並行な前記媒体とは反射率の異なる複数の直線状情報であるスクラッチを形成している。 - 特許庁

To provide an active energy ray-curable resin composition capable of providing a cured coated film having high surface hardness, excellent mar resistance, a very small curling property derived by small shrinkage on curing, and further a self-restoring property by which self-restores scratches once occurred.例文帳に追加

表面硬度が高く耐擦傷性に優れ、かつ硬化収縮が小さいためカールが非常に小さく、さらに一旦付いた傷を自己修復して元に戻る自己修復性をも有する硬化被覆膜を形成することができる、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This aqueous dispersing element for polishing a chemical machine can suppress the occurrence of scratches of a specific size to a specific number or below even on a soft interlayer insulating membrane having the elastic modulus measured by the nano-indentation method at 20 Gpa or below, particularly 10 Gpa or below, and further 5 Gpa or below.例文帳に追加

ナノインデンテーション法により測定した弾性率が20GPa以下、特に10GPa以下、更には5GPa以下である柔らかい層間絶縁膜であっても、特定の大きさのスクラッチの発生が特定の個数以下に抑えられる化学機械研磨用水系分散体を得る。 - 特許庁

To provide a technique that can decode a code stably with high reliability, especially the technique that can decode a film information code from a film information code area of photographic film, even if there are defects such as scratches, dusts, stains in a code sheet forming an information code of bar code.例文帳に追加

バーコードなどの情報コードを形成したコードシートに傷、埃、汚れ等の欠陥が存在しても、安定的にかつ高い信頼度でそのコードを解読できる技術、特には写真フィルムのフィルム情報コードエリアからフィルム情報コードを解読できる技術を提供するを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method capable of reducing scratches on a surface of a polishing object by effectively removing large abrasive grains grown on surfaces of fixed abrasive grains by dressing and preventing contamination of the polishing object by removing the abrasive grains attached on the surface of the polishing object after polishing.例文帳に追加

ドレッシングにより固定砥粒の表面に生じた大砥粒を効果的に除去して研磨対象物の表面のスクラッチを低減し、また研磨後の研磨対象物の表面に付着した砥粒を除去して研磨対象物の汚染を防止することができるポリッシング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a super abrasive grinding wheel composition for polishing cathode-ray tube panel face without using slurry, not making scratches and not causing a loading phenomenon, a super abrasive tool having structure in which a sintered grinding wheel for polishing is not easily broken away by using it and its manufacturing method.例文帳に追加

スラリーを用いず、スクラッチを発生させず、かつ目詰まり現象が生じない陰極線管パネルフェース面研磨用超研磨材砥石組成物およびそれを用いて焼結された研磨用砥石が容易に脱離しない構造を有する超研磨材工具およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

When the platen drum 14 turns and the cleaning part 22 passes through a heating element array 13a, the titanium oxide having fine file surface scratches the heating element array 13a by such an extent as causing no damage to remove dust adhering to the surface of the heating element array 13a.例文帳に追加

プラテンドラム14か回転してクリーニング部22が発熱素子アレイ13aを通過する際に、表面が細かいヤスリ面を成す酸化チタンが発熱素子アレイ13aを傷つけない程度に擦り、発熱素子アレイ13aの表面に付着している塵埃を擦り落とす。 - 特許庁

To provide an electrostatic attraction device equipped with a means for readily complying with countermeasures against deterioration to the aging of an attractive layer of the electrostatic attraction device, easily removing substances polluting the surface of the device, and easily repairing the stains and scratches on the attraction layer caused due to use over time.例文帳に追加

静電吸着装置の吸着層の経時に対する劣化への対処が取りやすく、静電吸着装置の表面を汚染する物質を容易に除去し、経年使用による吸着層のよごれや、傷を容易に修復する手段備えた静電吸着装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a photomask case preventing top and back surfaces of a photomask from coming into contact with a support body of the photomask case, because particles derived from a support body of a photomask case and depositing on a mask are apt to remain even after a cleaning process, and because scratches on a mask can not be eliminated by cleaning.例文帳に追加

フォトマスクケースの支持体によって付着するパーティクルは洗浄後も残留しやすい傾向があり、傷については洗浄しても除去することは不可能であるため、フォトマスクの表裏面とフォトマスクケースの支持体が接触しないようなフォトマスクケースを提供すること。 - 特許庁




  
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