「SCRATCHES」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polishing pad for mechanically flattening the surface of an insulating layer or metal wiring formed on a silicon substrate by which the polishing rate is high, the global level difference is small, dishing at the metal wiring is hard to occur, few scratches are caused and little dust is adhered.例文帳に追加

シリコン基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を機械的に平坦化するための研磨パッドにおいて、研磨レートが高く、グローバル段差が小さく、金属配線でのディッシングが起こりにくく、スクラッチが生じにくく、ダスト付着が少ない研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a strip sheet spreading device capable of properly spreading a strip sheet without causing scratches on surfaces of the strip sheet or unexpected meandering of the strip sheet when the strip sheet is rewound and transferred from an original fabric roll reciprocating left and right with respect to a strip sheet transfer direction.例文帳に追加

帯状シート移送方向に対し左右へ往復動する原反ロールから巻戻されて移送される帯状シートの表面に擦り傷が生じたり、帯状シートに想定外の蛇行が生じたりしないように適正に帯状シートの幅出しを行うことができる帯状シート幅出し装置を提供する。 - 特許庁

To provide a slurry for polishing which contains water as a main ingredient, organic particles, hydrogen peroxide as an oxidant, and a water soluble compound which can form a complex with metal, and which can remarkably suppress the occurrence of scratches, dishing, and erosion which have been a problem when inorganic particles were used as abrasive particles.例文帳に追加

水を主成分とし、有機粒子と、酸化剤として過酸化水素と、金属と錯体を形成しうる水溶性化合物を含んだ研磨用スラリーであって、無機粒子を砥粒とする場合に問題であったスクラッチ、ディッシングやエロージョンの発生を著しく抑制する研磨用スラリーを提供する。 - 特許庁

To provide a light guide plate laminated body made of a light guide plate which is excellent in light convergence efficiency by having minute shapes wherein unit prisms are arranged on the surface, and a protective film that can protect the minute shapes on the surface of the light guide plate from scratches and dirt, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、表面に単位プリズムを配置した微細形状を有することから集光効率に優れた導光板と、上記導光板表面の微細形状を傷や汚れから保護できる保護フィルムとからなる導光板積層体およびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a tubular structure inspecting means capable of improving work efficiency without necessity of measuring by returning an enlarged image, on purpose to the original compact image, in the case that the size of scratches and the like are measured by enlarging the image of an object to be inspected for more minute observation.例文帳に追加

被検査物の観察において、より詳細に観察するために被検査物の画像を拡大しながら傷等の大きさを計測する場合に、わざわざ拡大した画像をもとの縮小した画像に戻して計測する必要がなく、作業の効率を向上させることが可能な管状観察装置を提供する。 - 特許庁

To provide a self restoring-type formable coating composition that simultaneously achieves self restoring properties over scratches of a coating film and durability, has excellent various properties, such as water resistance, contamination resistance, and weather resistance required as an exterior coating film, and has excellent self restoring properties especially in a thin firm less than 20 μm, and a coating method.例文帳に追加

塗膜の傷に対する自己修復性と耐久性を両立するとともに、外装塗膜として必要不可欠な耐水性、耐汚染性、耐候性などの諸特性に優れ、特に２０μｍ未満の薄膜において自己修復性に優れた自己修復型形成性コーティング組成物及び塗装方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent foreign matters from penetrating into a machine even when a shutter 1 is opened/closed with the foreign matters thereon and to prevent a surface of the shutter 1 from scratches and dirt, in a shutter opening/closing mechanism in which an opening of an enclosure 101 is closed from the lower side by the shutter 1 and the shutter 1 is slide openable/closable.例文帳に追加

筐体１０１の開口部を下側からシャッタ１で閉じて、シャッタ１をスライドして開閉可能なシャッタ開閉機構において、シャッタ１の上に異物が残されシャッタ１を開閉しても、装置内に異物がもぐり込まないようにし、或いはさらに、シャッタ１の表面に傷や汚れが付かないようにする。 - 特許庁

To provide a back tension device for delivering wire capable of easily making fine adjustment of back tension in set-up before starting delivery work and having little fluctuation of back tension in wire delivery work to notably reduce the delivery looseness and elongation of the wire and scratches on the wire.例文帳に追加

送り出し作業開始前の段取時にはバックテンションを容易に微調整でき、また線材の送り出し作業時にはバックテンションの変動が少なく、それらにより線材の送り出し弛み不良、線材の伸び不良、線材の擦れ傷を顕著に低減できる線材送り出し用バックテンション装置を提供すること。 - 特許庁

A cleaning device 10 is provided with a cleaning box 11 and a cleaning blade 12 which scratches remaining toner or the like off a transfer carrying belt 216 to recover it in the cleaning box 11, and a seal ember 13 which is provided above the cleaning blade 12 in the moving direction of the transfer carrying belt 216.例文帳に追加

クリーニング装置１０は、クリーニングボックス１１と、転写搬送ベルト２１６から残留トナーなどを掻き落としてクリーニングボックス１１内へ回収するためのクリーニングブレード１２と、クリーニングブレード１２よりも転写搬送ベルト２１６の移動方向の上流側に設けられたシール部材１３とを備えてなる。 - 特許庁

To reduce dust attachment to a surface of an article to be polished, to reduce scratches, to provide a flattening characteristic in common and to remove defects of fine irregularities of a semiconductor wafer before irregularity working itself expressed as waviness, nanotopology, etc., under a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、すなわちｗａｖｉｎｅｓｓや、ｎａｎｏｔｏｐｏｌｏｇｙなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To reduce dust attachment to a surface of an article to be polished, to reduce scratches, to provide a flattening characteristic in common and to remove defects of fine irregularities of a semiconductor wafer before irregularity working itself expressed as waviness, nanotopology, etc., under a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、さらに平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、すなわち、ｗａｖｉｎｅｓｓや、ｎａｎｏｔｏｐｏｌｏｇｙなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To provide magnetic recording/reproducing method and device, capable of invalidating unstable measured values and improving the accuracy of adjustment, even when there is scratches or twists in a magnetic tape for adjustment or the disturbance of tape traveling due to the adhesion of a foreign substance or the like, during the automatic adjustment of a head-switching point.例文帳に追加

ヘッドスイッチングポイントの自動調整中に調整用磁気テープの傷やヨレ、あるいは異物付着等によるテープ走行の乱れがあった場合にも、その不安定な計測値を無効化することができ、調整精度を向上することができる磁気記録再生方法および磁気記録再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coating film-protecting type wet cloth for washing cars, which can minimize inevitable scratches capable of being caused by wiping up stains on the coating film of a car body, and does not deteriorate the initial properties of the coating film, even when the coating film has a water-repelling property or a hydrophilic property.例文帳に追加

車体のコーティング被膜に乗った汚れを拭き上げることによって起こり得る不可避的傷みを最少限度に抑え、コーティング被膜が撥水性であっても親水性であっても、そのコーティング被膜の初期の性質を損なうことのない洗車用のコーティング被膜保護型ウェットクロスを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk which uses a polishing agent more excellent in that the polishing agent makes a main surface of a glass substrate for a magnetic disk flat and generation of scratches on the main surface is suppressed than cerium oxide that is conventionally used as the polishing agent for polishing the main surface.例文帳に追加

磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrophotographic device and a process cartridge capable of suppressing stripe image defects and stably achieving favorable picture quality for a long period of time even when the device or the process cartridge is equipped with an electrophotographic photoreceptor having a long life suppressing scratches or wear and with a charging member to be in contact with the photoreceptor to charge.例文帳に追加

傷や磨耗の発生が抑制される長寿命の電子写真感光体と、これと接触して帯電を行う帯電部材を備えても、スジ状の画像欠陥の発生が抑制され、良好な画質を長期にわたって安定的に得ることが可能な電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

Once the paper or film is pressed against a glass sheet, this will leave thin surface roughness of slip agent that can prevent or reduce glass surface scratches from other surfaces or particles during shipping or finishing (e.g. cutting to size, conveyance of glass), thereby improving the yield of glass shipments between glass forming plants and customers.例文帳に追加

これは、紙またはフィルムがガラスシートに押圧された後、輸送または仕上げ（例えば、寸法切断、ガラスの運搬など）の間に、他の表面または粒子によるガラス表面の引っかき傷を防止または低減しうる、スリップ剤の薄い粗い表面を残し、それによって、ガラス成形設備から顧客へのガラスの出荷率を向上させる。 - 特許庁

To provide a field-effect transistor that is a flexible device, can be fabricated with good reproducibility and high yield, and does not generate abnormal surface geometry because of breaking or scratches in a post process by giving solidity to an underlying layer itself, a method of manufacturing the same, and to provide an image display apparatus.例文帳に追加

再現性良く、高収率でフレキシブルデバイスとしての電界効果型トランジスタを作製することができ、下地層そのものに堅牢性を与えることによって後工程による破壊や傷による表面形状の異常が生じない電界効果型トランジスタ及びその製造方法、並びに画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology which enables stable rolling without causing scratches during repair due to a failure or an abnormal operation of lubricating oil supply nozzle, in a lubricating oil supply method using air atomization method in which undiluted liquid of lubricating oil for rolling a steel sheet is atomized and supplied to work rolls.例文帳に追加

本発明は、薄鋼板の圧延の潤滑油原液をワークロールに噴霧供給するエアーアトマイズ法による潤滑油供給方法において、潤滑油供給端の故障や異常稼動が発生した場合に備えて、修理するまでの間疵発生などがなく安定的な圧延を可能とする技術を提供する。 - 特許庁

The inspection system is specifically intended and designed for a second optical wafer inspection for such defects as metalization defects, such as scratches, voids, corrosion and bridging, as well as diffusion defects, passivation layer defects, scribing defects, glassivation defects, chips and cracks from sawing, solder bump defects, and bond pad area defects.例文帳に追加

この検査システムは、特に、スクラッチ、ボイド、腐食およびブリッジング、などの金属化欠陥、ならびに拡散欠陥、被覆保護層欠陥、書きこみ欠陥、ガラス絶縁欠陥、切込みからのチップおよびクラック、半田隆起欠陥、ボンドパッド領域欠陥、などの欠陥のための第二の光学的ウェハ検査のために意図され、そして設計される。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor substrate which can be obtained with high yield by optimizing a center line average roughness on a polishing pad surface for CMP and processing pressure at the time of polishing, reducing the total number of defects on the semiconductor substrate surface after polishing, and also reducing the ratio of scratches in the defects.例文帳に追加

ＣＭＰ用研磨パッド表面の中心線平均表面粗さおよび研磨時の加工圧力を適正化し、半導体基板表面の研磨後の総欠陥数を減らしかつ欠陥に占めるスクラッチの割合を低減して、高い歩留まりを得ることが可能な半導体基板の研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a wide and thin optical film having sufficient pencil hardness without causing peeling, cracks or scratches even when the optical film has a layered structure, to provide a method for manufacturing the film, and to provide a polarizing plate using the film, and a liquid crystal display having excellent visibility.例文帳に追加

本発明の目的は、積層構造の光学フィルムであっても剥離、割れ、傷等の発生がなく、十分な鉛筆硬度を有した平面性に優れた広幅、薄膜の光学フィルム及びその製造方法、それを用いた偏光板及び視認性に優れた液晶表示装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing slurry for organic film polishing and a chemical mechanical polishing method capable of ensuring flatness of an organic film and suppressing production of scratches, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device wherein wiring resistance and inter-wiring capacitance are reduced and a high wiring yield is attained.例文帳に追加

有機膜の平坦性が確保できるとともに、スクラッチの発生を抑制できる有機膜研磨用化学的機械的研磨スラリーおよび化学的機械的研磨方法、ならびに、配線抵抗および配線間容量が低減され、かつ配線歩留まりの高い半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing glass plates using such removal devices 10, defects in glass plates attributable to foreign substances sticking to a glass ribbon 16, such as tin and tin oxide can be reduced and scratches in the glass ribbon 16 originated from foreign substances sticking to rolls are also reduced, accordingly advance in the quality of glass plates and reduction in manufacturing expenses can be achieved.例文帳に追加

また、この除去装置１０を使用したガラス板の製造方法によれば、ガラスリボン１６に付着した錫や酸化錫などの異物に起因するガラス板の欠点を削減でき、ロールに付着した異物を起因とするガラスリボン１６の傷も少なくなるので、ガラス板の高品質化と製造経費の低減化が可能となる。 - 特許庁

The packaging bag is the easily openable bag 22 which comprises a packaging material formed of a film strip, wherein a plurality of hand-pushed scratches 1K are provided at both sides 1A, 1B of the film strip which forms an adhesion section (a first adhesion section 11) of the packaging material.例文帳に追加

本発明は、容易に開封可能な包装袋２２であって、帯状フィルムを用いて形成された包装材にて構成されており、前記包装材の接着部分（第一接着部１１）を成す前記帯状フィルムの両方の側辺部１Ａ，１Ｂには、複数の押切傷１Ｋが設けられていることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a bristle material for an industrial brush, which is capable of uniformly removing dirt and foreign objects stuck to a cleaned object compared with the conventional synthetic resin industrial brush bristle and preventing scratches from being formed on a base; and the industrial brush using the bristle material for the industrial brush for at least one part.例文帳に追加

従来の合成樹脂製の工業ブラシ用毛材に比べて洗浄対象物上に付着した汚れや異物を満遍なく除去することが出来るとともに、基盤上にすり傷等を付けることがない工業ブラシ用毛材およびこの工業ブラシ用毛材を少なくとも一部に使用した工業ブラシの提供。 - 特許庁

To provide a polishing liquid by which an excellent polishing rate for a TEOS insulating film can be obtained, even when using an insulating film having low strength such as a Low-k film, a polishing rate for the Low-k film is effectively suppressed, and scratches caused by aggregation of solid abrasive grains can be suppressed.例文帳に追加

ＴＥＯＳ絶縁膜に対する優れた研磨速度が得られ、Ｌｏｗ−ｋ膜の如き強度の低い絶縁膜を用いた場合においても、Ｌｏｗ−ｋ膜に対する研磨速度が効果的に抑制されるとともに、固体砥粒の凝集等に起因するスクラッチの抑制を達成しうる研磨液を提供すること。 - 特許庁

To provide a polishing slurry that can establish highly accurate surface polishing at high surface flatness, small surface roughness without generating micro scratches or micro pits and processing deteriorated layers on the surface, as well as high polishing speed when precisely polishing a silicon carbide single crystal substrate.例文帳に追加

炭化珪素単結晶基板の精密研磨において、表面平坦性が高く、表面粗さが小さく、表面の微小スクラッチや微小ピット、加工変質層が生じないような精度の高い表面研磨を達成しつつ、かつ速い研磨速度を達成することができる研磨スラリーを提供することにある。 - 特許庁

This card reading terminal device 1 is made small-sized, its windows are provided with a magnifying lens 4, opaque vertical panels are provided in a mesh shape in the terminal device where vertical scratches are made on the lens 4 in a mesh shape so that a number can be seen only from the above, and the password to be inputted is prevented from being stealthily looked at by others.例文帳に追加

カード読取端末機１を小型化し、その窓を拡大レンズ４にして、それに網目状に垂直の傷をつける端末機の中にも、網目状に不透明な垂直板を設け真上からしか番号を見られない様にして、打ち込む暗証番号を他人に盗み見されない事を特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing an optical film by a melt casting film-forming process, by which an optical film excellent in uniformity of retardation and appearance quality can be produced by pinching an extruded film melt with uniform pressure while preventing scratches.例文帳に追加

溶融流延製膜法による光学フィルムの製造方法に関し、押出されたフィルム状溶融物を均一な圧力で挟圧すると共に擦り傷の発生を防止し、リタデーションの均一性及び外観品質に優れた光学フィルムを製造することができる光学フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

The inspection system is specifically intended and designed for second optical wafer inspection for such defects as metallization defects, such as scratches, voids, corrosion and bridging, as well as diffusion defects, passivation layer defects, scribing defects, glassivation defects, chips and cracks from sawing, solder bump defects, and bond pad region defects.例文帳に追加

この検査システムは、特に、スクラッチ、ボイド、腐食およびブリッジング、などの金属化欠陥、ならびに拡散欠陥、被覆保護層欠陥、書きこみ欠陥、ガラス絶縁欠陥、切込みからのチップおよびクラック、半田隆起欠陥、ボンドパッド領域欠陥、などの欠陥のための第二の光学的ウェハ検査のために意図され、そして設計される。 - 特許庁

To provide a CMP conditioner which can suppress the occurrence of scratches by certainly preventing the dropout of abrasive grains of even a very corrosive slurry used for CMP equipment, and to provide a manufacturing method of a CMP conditioner which can manufacture such a CMP conditioner without requiring complicated manufacturing processes.例文帳に追加

ＣＭＰ装置に用いられる腐食性の高いスラリーに対しても砥粒の脱落を確実に防いでスクラッチの発生を抑制することが可能なＣＭＰコンディショナを提供し、またこのようなＣＭＰコンディショナを、複雑な製造工程を要することなく製造することが可能なＣＭＰコンディショナの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface lighting device which has a thin shape and a high light utilization efficiency, emits light with little luminance unevenness, provides a middle-high or bell-shaped brightness distribution, and prevents scratches from occurring due to rubbing between a light guide plate and various types of functional films.例文帳に追加

薄型な形状であり、かつ光の利用効率が高く、輝度むらが少ない光を出射することができ、中高なあるいは釣鐘状の明るさの分布を得ることができ、かつ導光板と各種の機能フィルム類との擦れ合いに起因する擦り傷の発生を防止可能とする面状照明装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a support for a magnetic recording medium which has high adhesiveness with a magnetic layer, hardly causes scratches on the surface during conveyance, and can form a magnetic recording medium which is reduced in dimensional variation caused by an environmental variation, can be stored even at high humidity, and excellent in durability.例文帳に追加

磁性層との密着性が高く、搬送時に表面にキズがつきにくい磁気記録媒体用支持体であって磁気記録媒体とした際に環境変化による寸法変化が少なく、高湿度下でも保存が可能で、耐久性の優れた磁気記録媒体とすることができる支持体を提供することにある。 - 特許庁

To develop a water-based base coating for an air conditioner having a superior anticorrosive characteristic, favorable adhesiveness with an adhesive or hydrophilic resin coating, and favorable pollution resistance, or the like, and preventing scratches, peeling, buckling, color slipping (formability), or the like, and to develop a precoat aluminum fin material applied with baking of the hydrophilic resin coating.例文帳に追加

エアコンディショナー用の、防食性に優れ、かつ密着性、親水性樹脂塗料との密着性、耐汚染性等が良く、かつ加工による塗膜の傷の発生、剥離、座屈、カラー飛び（成形性）などのない水性ベース塗料の開発、並びに親水性樹脂塗料を焼き付け塗装したプレコートアルミニウムフィン材の開発を目的とする。 - 特許庁

To provide a packaging unit capable of suppressing the generation of rust at electric conductive portion in glass substrates during the transportation and storage of the glass substrates such as TFT substrates or CF substrates and the like and capable of performing effective suppression of the generation of scratches at the glass substrates caused by relative motion between the glass substrates or foreign matters.例文帳に追加

ＴＦＴ基板やＣＦ基板等の導電部が形成されているガラス基板の搬送および保管中に、ガラス基板の導電部に錆が発生するのを抑制すると共に、各ガラス基板相互の相対移動や異物によるガラス基板の傷の発生等をも効果的に抑制できる梱包ユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a grinding apparatus, a grinding method and a cleaning method of a grinding tool in which grinding agents or impurities adhered to the grinding tool of the grinding apparatus and solidified can be reliably removed, generation of scratches on a work can be suppressed, and residual particles left on the surface to be ground of the work can be reduced.例文帳に追加

研磨装置の研磨工具に付着した固化した研磨剤や不純物を確実に除去でき、被研磨対象物へのスクラッチの発生を抑制でき、被研磨対象物の被研磨面に存在する残留パーティクルを減少させることができる研磨装置、研磨方法および研磨工具の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The bottle B is photographed while illuminated, and from its photographed image, a light quantity value of each pixel fluctuating according to the scratches on the bottle B is found, and then, using these light quantity values of the respective pixels and the predetermined reference, it is determined whether the bottle B is in a good condition or not.例文帳に追加

そして、検査対象となる壜Ｂに向けて照明を行いながら壜Ｂの撮像を行い、この撮像により得られる画像から、壜Ｂの擦り傷に応じて変動する各画素の光量値を求め、これら各画素の光量値および所定の基準を利用して壜Ｂの良否判定を行う。 - 特許庁

To reduce scratches on product than those in the conventional practice in a method of manufacturing the product in which the product having a prescribed thickness and a prescribed shape is separated from an extruded part after performing shaving work to a prescribed part of a planar workpiece which is extruded in the thickness direction by the cooperation of a punch and a die.例文帳に追加

厚さ方向に押し出し加工された板状のワークの所定の部位に、パンチとダイとの協働によってシェービング加工を施し、前記押し出し加工された部位から所定の厚さを備えた所定の形状の製品を分離する製品の製造方法において、製品への傷付きを従来よりも低減する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor wafer includes a step of carrying out a grinding process for grinding and flattening the both faces of the wafer instead of a process for flattening a beveled wafer, that is, a lapping process, and carrying out a dry etching process (for example, sandblast) for putting uniform scratches on the back face of the wafer after the grinding process.例文帳に追加

半導体ウェーハの製造方法のうち、面取りしたウェーハを平坦化する工程すなわちラッピング工程に代えて、ウェーハの両面を研削して平坦化する研削工程を行い、さらにこの研削工程後にウェーハの裏面に不均一な傷を入れて梨地にする梨地加工工程（例えば、サンドブラスト）を行う。 - 特許庁

To provide a test socket of a semiconductor device having a large contact area to an external terminal, high current, capable of conducting a high frequency reliability test, of preventing insufficient soldering in mounting caused by scratches on the surface of the external terminal, and of preventing damage such as breakage or chipping in a product.例文帳に追加

外部端子との接触面積が大きく、十分な大電流、高周波信頼性試験を行うことができ、外部端子表面への疵付けで実装時の半田付けが十分に行えなくなる虞が少なく、製品に破損や欠けなどの問題が生じる虞が少ない半導体装置のテストソケットを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method which can continuously polish a substrate having an insulating film, a barrier metal film and a conductor film with the same polishing solution for metal, can obtain good flatness of a wiring portion and an insulating film convex portion, and can reduce scratches, and to provide a polishing solution for metal used therefor.例文帳に追加

絶縁膜、バリア金属膜及び導体膜を有する基板を、同一金属用研磨液で連続的に研磨することが可能であり、配線部と絶縁膜凸部の平坦性が良好で、かつ、スクラッチを低減することが可能な研磨方法及びそれに用いる金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

To decrease scratches on a photoreceptor drum and to obtain satisfactory image over a long period of time, in an image forming device using a contact type charging device, as a charging means for the photoreceptor, which charges the surface of the photoreceptor by bringing a charging member with a voltage applied thereto into contact with the photoreceptor drum.例文帳に追加

感光ドラムの帯電処理手段として、電圧を印加した帯電部材を感光ドラムに当接させて感光体表面を帯電する接触式帯電装置を用いた画像形成装置であって、感光ドラムの傷を減らし、良好な画像が長期にわたって得られる装置を提供すること。 - 特許庁

The method further comprises the steps of forming an insulating film 4 so as to embed scratches 3a, 3b occurring on the surface of the film 2 at this polishing time, and then etching back under the condition where an etching selection ratio of the film 4 to the film 2 becomes '1' by reactive ion etching until the film 2 is exposed.例文帳に追加

この研磨時に層間絶縁膜２の表面に生じるスクラッチ３ａ、３ｂを埋め込むように絶縁膜４を形成した後、層間絶縁膜２に対する絶縁膜４のエッチング選択比が１になる条件で反応性イオンエッチングにより層間絶縁膜２が露出するまでエッチバックを行う。 - 特許庁

To provide a dresser capable of suppressing the decline of dressing capability by suppressing the deflected abrasion of abrasive grains of the dresser and to provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of suppressing the generation of scratches and the generation of polishing amount fluctuation in the CMP(chemical mechanical polishing) process of the surface of a semiconductor substrate by the dresser.例文帳に追加

ドレッサの砥粒の偏摩耗を抑制することにより、ドレス能力の低下を抑制可能なドレッサを提供し、また、上記ドレッサにより、半導体基板の表面のＣＭＰ工程において、スクラッチの発生および研磨量ばらつきの発生を抑制可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the protector member 5 is supported elastically, when it collides to the surface of the optical disk 1, as a whole plane of the protector member 5 contacts to the surface of the optical disk 1 along the surface, plane pressure is never raised locally and contact pressure is never raised locally, thereby reducing scratches and deposition of dust.例文帳に追加

プロテクタ部材５は弾性支持されているので、光ディスク１の表面に衝突した時、その表面に沿ってプロテクタ部材５の全面が光ディスク1の表面に接触するので、局部的に面圧が上がることや接触圧力が局部的に高くなることがないため、傷やゴミなどの付着が低減される。 - 特許庁