「SCRATCHES」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To significantly reduce scratches generated on a polished face of a material to be polished such as a wafer, to permit a chemical mechanical polish at a low cost not by using a consuming material such as a filter and to minimize contamination caused by the chemical mechanical polishing.例文帳に追加

ウェハーなどの被研磨物の研磨面に生じるスクラッチの大幅な低減を図り、フィルターなどの消耗材を利用しないことにより化学的機械研磨を低コストで行うことを可能とし、しかも化学的機械研磨の際のコンタミネーションを最小限に抑える。 - 特許庁

A dividing apparatus comprises a cutting device 20, which makes scratches on nearly entire perimeter surface where a cathode ray tube is to be divided, and rolling devices 30, which bring one heating wire 15 into a close contact with nearly entire perimeter surface of each of the cathode ray tubes.例文帳に追加

陰極線管の分割しようとする位置の外周面上に、ほぼ全周にわたってキズを付ける切削装置２０と、１本の電熱線１５を陰極線管の外周面のほぼ全周にわたって密着させる巻き付け装置３０，３０とを有する。 - 特許庁

To provide a method which enables a continuous laminated sheet (A) to be manufactured by laminating a continuous film (F) on a continuous sheet (S) by heat seal, without making scratches on surfaces of laminating rolls (21 and 22) transferred onto the continuous film (F), and without causing damage to a surface treatment layer (Fh) of the continuous film (F).例文帳に追加

貼合ロール(21、22)の表面の傷が連続フィルム(F)に転写されることがなく、また連続フィルム(F)の表面処理層(Fh)を損なうことなく、連続シート(S)に連続フィルム(F)を熱融着により貼合して連続貼合シート(A)を製造し得る方法を提供する。 - 特許庁

The optical disk 11, when inserted or discharged, passes while being held between the dustpoof doors 2 due to an elastically energizing force, but scratches are not generated because the outer peripheral part 11a of the optical disk 11 is abutted on the dustproof doors 2 and are not in contact with flat surface parts.例文帳に追加

挿入時や排出時に光ディスク１１は、弾性付勢力により防塵扉２に挟まれた状態で通過するが、光ディスク１１の外周部１１ａが防塵扉２に当接し、平面部には接触しないため、擦過傷は発生しない。 - 特許庁

To provide a working tool with enhanced life by preventing a dent or the like on a metal mold or the like, abrasion, and troubles resulted from degradation such that inclusion and sticking of foreign substances such as rubbish or dust causes scratches.例文帳に追加

金型等にあっては打痕等の発生を防止するとともに、また、擦り傷の発生を防止し、さらには、ゴミやホコリなどの異物混入や付着により傷が入るなどの不良化によるトラブルの発生を防止し、耐用寿命を増した加工用工具を提供する。 - 特許庁

To provide an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing used in manufacture of a semiconductor device, which provides a sufficiently high polishing speed and does not impart scratches on a surface to be polished, and a method for polishing a film to be polished by the aqueous dispersion and manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

十分な研磨速度が得られ、且つ被研磨面に傷が付くことがない半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体、及びこの水系分散体によって被加工膜を研磨し、半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

When a wafer W is suction held by forming a negative pressure region X at a position on the surface of a protrusion WB by air blown outward from an outlet 7, the wafer W can be supported by non-contact and scratches on the wafer W can be prevented.例文帳に追加

吹出口７から外方に吹き出した空気によって凸部ＷＢ表面位置に負圧領域Ｘを形成してウェハＷを吸引保持することで、ウェハＷを非接触で支持することができ、ウェハＷへの傷付きを防止することができる。 - 特許庁

To provide a surface washing and modification method and a surface washing and modification apparatus, wherein a plastic optical part can be polished with an abrasive and washed without leaving dirt on its surface and without forming deep scratches thereon.例文帳に追加

研磨剤を介してプラスチック光学部品を研磨し、洗浄する際に、プラスチック光学部品の表面に汚れを残さずに、なおかつ深いキズをつけないようにすることができる表面洗浄改質方法及び表面洗浄改質装置を提供する。 - 特許庁

To provide a repairing material to repair scratches, if any, on genuine leather so as not to show hardness significantly different from that of genuine leather to be used for manufacturing a genuine leather product and prevent deterioration in touch of the repaired genuine leather.例文帳に追加

傷があっても修復して本革製品に用いることができる本革材となるよう、その傷を本革材との硬さの違いが大きくならないように修復して、修復を行った本革材の触感の低下を防止できる革傷の修復材を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a magnetic disk substrate, by which the number of scratches occurring on a surface of a glass substrate is reduced, the yield of an inspection machine of the glass substrate is improved, and further the yield of an inspection machine of a magnetic disk produced form the glass substrate is improved.例文帳に追加

ガラス基板表面に発生する傷（スクラッチ）を低減させ、ガラス基板の検査機歩留まりを向上させ得、さらにはそのガラス基板より得られる磁気ディスクの検査機歩留まりを向上させ得る、磁気ディスク用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The present coatings curtail the growth of microcracks that can otherwise result from surface cracks or scratches on coated substrates, which provides improved wear characteristics, scratch resistance, and prevent the penetration of corrosive fluids to the substrate material.例文帳に追加

本発明のコーティングは、別の方法で表面の亀裂又はコーティングされた表面上のスクラッチから生じる恐れのあるマイクロ亀裂の成長を抑え、これにより向上した摩耗特徴、耐スクラッチ性、基材材料への腐食性流体の浸透の防止をもたらす。 - 特許庁

To provide a polishing device which is capable of polishing the required layer of a target substrate at a sufficiently high polishing rate as defects caused by corrosion or scratches are reduced to the utmost while a slurry is kept high in stability and long in service life without providing an annexed feed unit.例文帳に追加

供給付帯設備を設けることなくスラリの安定性および寿命を維持しつつ、エロージョンやスクラッチといった欠陥を極力低減し、しかも十分に大きな研磨速度で被処理基板の所望の層を研磨可能な研磨装置を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative material which can easily be handled without receiving any scratches on the surface upon loading or unloading, allows no possibility of load collapse when stacked, and has a durable surface staining resistance in the decorative material having a pattern layer.例文帳に追加

絵柄層を有する化粧材において、荷の積み降ろし際には、表面に傷を付けてしまうこと無く容易に取り扱うことが可能であるとともに積み重ねた際の荷崩れのおそれがなく、また、持続した耐表面汚染性を有する化粧材を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing cloth capable of suppressing the occurrence of a defect (e.g., flaws or scratches or the like caused after mirror polishing) on the surface of a silicon wafer due to grooves of the polishing cloth which may be caused at the mirror polishing by contriving the shape of the grooves.例文帳に追加

溝形状を工夫することにより、鏡面研磨時に発生する恐れのある、溝に起因するシリコンウェーハ表面の欠陥（たとえば、鏡面研磨後に発生するキズやスクラッチ等）の発生を抑制することができるシリコンウェーハ研磨布を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate firing device having an increased contact area between a substrate and substrate support portions, thereby preventing generation of scratches on the substrate while the substrate support portions contract and expand due to increasing and lowering of the internal temperature of the firing device.例文帳に追加

基板と基板支持部の接触面積を増加させることにより、焼成装置の内部温度が上昇及び下降することで、基板支持部が収縮・膨脹しながら、基板にスクラッチを発生させることを防止できる基板焼成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dresser for polishing cloth, creating a uniformly polished surface on a surface of the polishing cloth, eliminating scratches on a wafer by the polishing cloth, in particular, caused by dissociation of grains, and decreasing a sintering temperature of a holding material, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

研磨布用ドレッサーが研磨布表面に均一な研磨面を創出し、特に脱粒に起因する研磨布によるウェハのスクラッチがなくなり、しかも、保持材の焼結温度を低くできるようにした研磨布用ドレッサー及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a conductive base material for packaging a semiconductor which allows for good adhesion to a sealing material or the like, minimization of degradation in electrical characteristics and heat dissipation, low temperature processing, excellent productivity, and reduction of marks such as scratches or rubbing.例文帳に追加

封止材等との接着性が良好であり、電気特性及び放熱性の低下を抑制することができ、低温処理可能であって、生産性に優れ、キズやコスレなどの痕が付きにくい、半導体実装用導電基材の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aqueous repairing coating for topcoat in repairing scratches and the like on the surface of a decorative material of furniture, fittings and the like which is free from a solvent odor and permits an amateur to coat neatly to attain a finished state of high qualities with neither uneven coating nor uneven luster.例文帳に追加

家具、建具等の化粧材表面の傷等の補修時の仕上げ用塗料について、溶剤臭が無く、素人でも綺麗に塗れて塗装ムラや艶ムラ等も無い高品位の仕上り状態が得られる、補修用の水性塗料を提供する。 - 特許庁

To provide a film which, when used as a liquid crystal component part such as a liquid crystal polarizing plate and a retardation plate or as a PDP component part, is less in scratches on the film surface and surface defects of oligomers and the like and shows good transparency, good optical performances and superior adhesion.例文帳に追加

液晶偏光板、位相差板等の液晶構成部材、ＰＤＰ部材として用いた際に、フィルム表面キズやオリゴマー等の表面欠陥が少なく、透明性良好であり、光学的性能の良好で接着性に優れたフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide an anode roller capable of maintaining stable production at low cost and forming a film having a plating film with few abnormal particulate protrusions, dent-like defects and scratches, and an apparatus and a method for forming the film having the plating film.例文帳に追加

低コストで安定した生産を維持でき、異常突起粒状物や凹み状欠陥、傷の少ないめっき被膜付きフィルムの製造を行うことができる陰極ローラおよびめっき被膜付きフィルムの製造装置および製造方法を提供すること。 - 特許庁

Therefore, base material-supporting force by the backup roll 16 is increased, and the slippage between the aluminum web and the backup roll 16 is prevented to cause no qualitative defect due to scratches on the surface of the aluminum web, and a photosensitive printing plate is excellently coated.例文帳に追加

このため、バックアップロール１６による支持体の保持力を増大させることができ、アルミウェブとバックアップロール１６との間のスリップを防止することができ、アルミウェブの表面のキズによる品質故障がなく、感光性印刷版を良好に塗布することができる。 - 特許庁

To provide a resin sheet for an automobile good in embossing processability and wear resistance, and when used as a floor sheet of an automobile, hard to have scratches on the surface and hard to slip because the coefficient of dynamic friction is large, and good in the interlayer adhesion even at high temperatures.例文帳に追加

エンボス加工性と耐摩耗性が良好であり、自動車のフロアシートとして使用したとき、表面に傷が付きにくく、動摩擦係数が大きいために滑りにくく、高温においてもシートの層間密着性が良好である自動車用樹脂シートを提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning device for an electrophotographic device in which rise of friction force of a rubber blade which scratches off toner on a bias roller is effectively prevented even during image creation, generation of insufficient cleaning and abnormal noise is prevented and an image with stable image quality is obtained.例文帳に追加

バイアスローラ上のトナーを掻き落とすゴムブレードの摩擦力上昇を画像作成中にも効果的に防ぎ、クリーニング不良・異音の発生を防ぎ安定した品質の画像を得ることができる電子写真装置用クリーニング装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a white electroconductive core-sheath structure monofilament reducing abrasion of metal components in contact with the monofilament in a case in which the monofilament receives scratches and abrasion, and having excellent conductive performance; and an industrial woven fabric using the electroconductive conjugate monofilament as a constituent material.例文帳に追加

擦過や摩耗を受けた場合において、接触する金属部品の摩耗を軽減し、優れた導電性能を有する白色の導電性芯鞘構造モノフィラメントおよびこの導電性複合モノフィラメントを構成素材に使用した工業用織物の提供。 - 特許庁

To provide a method capable of simply manufacturing a solar battery module wherein generation of problems such as increase of cost and decrease of strength which are to be caused by working a transparent insulating substrate and generation of scratches of the transparent insulating substrate are prevented, and optical environmental pollution due to a reflected light from a surface can be prevented.例文帳に追加

透明絶縁基板の加工に伴うコスト増や強度低下など問題、および透明絶縁基板の傷を防止し、かつ表面からの反射光による光公害を防止できる太陽電池モジュールを簡便に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning sheet capable of removing unnecessary projections formed on the surface of a workpiece and foreign matter and stain adhered to the surface and reducing scratches formed on the surface of the workpiece without cutting the surface of the workpiece too much.例文帳に追加

ワークの表面に形成されている不要な突起、及び表面に付着している異物や汚れを除去でき、ワークの表面を削りすぎず、ワークの表面に形成されているスクラッチを低減できるクリーニングシート及びその製造方法を提供することである - 特許庁

A rear drive unit 4 is provided with a motor generator 100, the casing 200 storing oil inside, a counter gear 300 which is arranged in the casing 200 and scratches up oil by rotation by the power of the motor generator 100, and a catch tank 920 receiving oil scratched up by the counter gear 300.例文帳に追加

リア駆動ユニット４は、モータジェネレータ１００と、内部にオイルが貯留されたケーシング２００と、ケーシング２００の内部に設けられ、モータジェネレータ１００の動力により回転してオイルを掻き上げるカウンタギヤ３００と、カウンタギヤ３００に掻き上げられたオイルを受け入れるキャッチタンク９２０とを備える。 - 特許庁

Alternatively, the light collected by the collectors 38, 52 is filtered by a spatial filter having a circular gap of an angle related to angle difference of expected pattern scattering, and the signals obtained from a narrow angle and a wide angle collection channels may be compared to distinguish between micro-scratches and particles.例文帳に追加

あるいは、集束器３８，５２によって集束された光線は、予測されるパターン散乱の角度差に対応する角度の環状ギャップを有する空間フィルタによって濾波され、狭角および広角集束経路から得た信号は比較され、マイクロスクラッチと粒子との間を識別する。 - 特許庁

To decrease dust adherence to a surface of a polishing object, to reduce scratches, to simultaneously realize a flatting property, and to eliminate microscopic irregurality of a semiconductor wafer itself before uneven part machining, namely defects expressed as waviness or nanotopology, by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、即ちwavinessや、nanotopologyなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To provide a system for minor repairing of vehicles devised so that it can go to an optional place such as a parking lot and a gas station where vehicles are usually parked, other than a repair shop, and carry out easily and sanitarily repairing work of comparatively minor scratches and dents of vehicles.例文帳に追加

車両の比較的軽微なキズやへこみ等の軽補修を、当該車両が置いてある駐車場やガソリンスタンドといった専門工場以外の任意の場所に出向いて、簡単に且つ衛生的に行うことができるように工夫した車両用軽補修システムを提供する。 - 特許庁

To provide metal oxide particles by which CMP capable of preventing or reducing the occurrence of polishing scratches on a silicon oxide film, a metal buried film and the like can be performed, a polishing material containing it, a method for polishing a substrate using the polishing material and a method for producing a semiconductor device manufactured by polishing.例文帳に追加

酸化珪素膜、金属埋め込み膜等へ研磨傷の発生を防止又は低減することが可能なＣＭＰが実施できる金属酸化物粒子、これを含む研磨材、この研磨材を用いた基板の研磨方法及び研磨して得られる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive cloth for processing texture which is an abrasive cloth for processing a hard disk at a high degree of accuracy and has grinding performance capable of sufficiently lessening surface roughness in a texture-processing of a hard disk manufacturing process, does not generate scratches and can exert excellent polishing accuracy.例文帳に追加

磁気ディスクの高精密加工用研磨布であり、特に、ハードディスク製造工程のテクスチャー工程において、表面粗さを十分小さくすることができる研削性能を有し、且つ、スクラッチを発生させることがない研磨精度の優れたテクスチャー加工研磨布の提供。 - 特許庁

To provide a radiation curable conductive composition which, using a radiation curable material soluble in water or soluble in a water-soluble organic solvent and an organic conductive material, is freed from causing the separation of the composition and can form a conductive film excellent in heat resistance/abrasion resistance/transparency and hard to take scratches.例文帳に追加

水溶性または水可溶性有機溶剤に可溶な放射線硬化材料と有機導電性材料を用い、組成物の分離がなく、耐熱性・耐磨耗性・透明性に優れ、傷が付きにくい導電膜を形成することができる放射線硬化型導電性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor free from defects, such as, wear or scratches due to repeated use of the photoreceptor, the defects relating to the output image quality of an image forming apparatus, as well as, being less apt to cause uneven image density, and is capable of forming an image of high image quality over a long period of time.例文帳に追加

感光体の繰り返し使用による摩耗や傷などの、画像形成装置の出力画質に関わる欠陥が生じないとともに、画像濃度ムラが生じにくい、長期に亘って高画質画像を形成することができる電子写真感光体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a torque limiter which prevents slipping between an inspecting shaft and an insertion hole of a shaft member in release torque inspection, requires not many man hours for repairing scratches on the shaft member or removing the inspecting shaft without impairing commercial value, and a method for inspecting release torque of the torque limiter.例文帳に追加

リリーストルク検定において、検定用軸と軸部材の嵌合穴との間の滑りを防止することで、軸部材の傷の修復や検定用軸の取り外しに多大の工数を費やすことなく、かつ商品価値が損なわれないトルクリミッタおよびトルクリミッタのリリーストルク検定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method in which a predetermined shape of products made of magnesium material can be produced by a plastic processing of a plate of magnesium material without any cracks or any scratches on the surface of products therein, even though minimum chamfer R on the surface of products is small.例文帳に追加

マグネシウム材製品表面の最小Ｒが小さくても、製品に割れが生じたり、製品の表面に傷が生じたりすることなしで、マグネシウム材板の塑性加工によって所定形状のマグネシウム材製品を製造することができる製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a long sheet draining treatment device which performs a proper draining treatment to a long sheet while suppressing the occurrence of meandering of the long sheet and that of wrinkles, scratches and the like to the long sheet even when the long sheet is accelerated in the carrying speed.例文帳に追加

長尺状シートの搬送速度を高めた場合であっても、長尺状シートの蛇行の発生や長尺状シートのシワやキズ等の発生を抑制しつつ、長尺状シートに対して適切な水切処理を行うことが可能な長尺シート水切処理装置を提供する。 - 特許庁

To effectively suppress the generation of scratches of a transparent cover caused by the contact with an extension reflector even in the case where the extension reflector is temporarily fixed to the transparent cover in a lighting fixture for a vehicle formed so that the transparent cover and the extension reflector are wrapped around the rear part.例文帳に追加

透明カバーおよびエクステンションリフレクタが後方側へ回り込むように形成された車両用灯具において、エクステンションリフレクタを透明カバーに仮止めするようにした場合においても、エクステンションリフレクタとの接触による透明カバーのキズ発生を効果的に抑制する。 - 特許庁

To provide a method for producing conductive fine particles having a plating layer of extremely uniform in thickness and free from scratches without being accompanied with agglomeration of the fine particles to be plated during the plating process and the method for producing the conductive fine particles comprising the resin fine particles and a tin/silver alloy plating layer formed thereon.例文帳に追加

めっき中に被めっき微粒子が凝集することなく、また傷発生のない、極めて均一な厚さのめっき層を有する導電性微粒子の製造方法、及び、樹脂微粒子の表面に錫／銀合金めっき層が形成された導電性微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The contour emphasis circuit 205 controls a contour emphasis amount in contour emphasis processing when generating images on the basis of the signals of the light receiving part of the solid-state imaging element 102 corresponding to the detected result of the beat noise components or the linear scratches by the vertical line/horizontal line detection circuit 204.例文帳に追加

輪郭強調回路２０５は、縦線・横線検出回路２０４によるビートノイズ成分もしくは線状のキズの検出結果に応じて、固体撮像素子１０２の受光部の信号に基づいて画像を生成する際の輪郭強調処理における輪郭強調量を制御する。 - 特許庁

To reduce dust adhered to the surface of an object to be polished, to reduce scratches while ensuring a high flattening property and further to eliminate microscopic irregularity of a semiconductor wafer itself before finishing, that is, to correct defects expressed as waviness, nanotopology or the like by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、即ちwavinessや、nanotopologyなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To prevent a failure in the gripping of a resin molded article, scratches caused by a suction part and the like, and also make compatible a variety of resin molded articles with three-dimensionally complicated surface shapes, in a device for gripping a resin molded article, and to reduce the size and cost of the device.例文帳に追加

樹脂成形品の把持装置において、樹脂製形品の把持不良を抑止し、かつ吸着部品による擦り傷等の発生を抑止すると共に、三次元的に複雑な表面形状の多種類の樹脂成形品にも対応可能とし、かつ当該装置の小型化及びコストダウンを図る。 - 特許庁

To provide a reference piece that is used for stabilizing detection conditions when scratches such as cracks being developed inside an iron-based material are to be detected by using a magnetic flaw detector and is easily and inexpensively formed, and to provide a scratch detection method using the reference piece.例文帳に追加

鉄系材料の内部に発生しているクラック等のキズを磁気探傷器を用いて検出する場合に検出条件を安定化させるために使用され、簡便安価に形成される基準ピースを提供すると共に該基準ピースを用いたキズ検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To decrease dust adherence to surface of a polishing object, to reduce scratches, to simultaneously realize a flatting property, and to eliminate microscopic irregularity of a semiconductor wafer itself before uneven part machining, namely defects expressed as waviness or nanotopology, by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、即ちwavinessや、nanotopologyなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

To provide a carrier for a double-side polishing apparatus, a double-side polishing apparatus and a double-side polishing method which suppress deterioration in the shape of a chamfered portion of a wafer, and the occurrence of scratches in the plane of the wafer and the chamfered portion while preventing the breakage of a peripheral edge of the wafer.例文帳に追加

ウェーハの周縁部の破損を防ぎつつ、ウェーハの面取り部の形状悪化及びウェーハの面内や面取り部におけるスクラッチの発生を抑制できる両面研磨装置用キャリア及び両面研磨装置並びに両面研磨方法を提供することを目的とする。 - 特許庁