「SCRATCHES」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a chemical mechanical polishing method capable of suppressing surface defect including scratches, and sufficiently suppressing a cost in practical usage in a planarizing process of a surface to be polished by the chemical mechanical polishing method.例文帳に追加

化学的機械的研磨方法による被研磨面の平坦化工程において、スクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑える事が出来る化学的機械的研磨方法を提供することを目的とする - 特許庁

To provide an apparatus which can be surely attached while keeping a good appearance without damaging the appearance due to the sticking out of adhesive agent and a double-coated adhesive tape and scratches by a catch, in the case of attaching a decorative member to an outer packaging member.例文帳に追加

外装部材に装飾部材を装着するにあたって、接着剤や両面テープのはみ出しや係止爪による傷の発生により外観を損なうようなことがなく、外観上の美観を維持した状態で確実に装着できる機器。 - 特許庁

To provide a glass bottle having a high alkali resistance while excellent in surface smoothness and usable not only as an one-way bottle but also as a returnable bottle being usable repeatedly in many times in which deterioration of strength due to scratches on its external face is prevented.例文帳に追加

高い耐アルカリ性能を有すると共に表面滑性にも優れ、その結果ワンウエイびんのみならず多数回繰り返し使用されるリターナブルびんとしても外表面のスリ傷による強度劣化を防止することができるガラスびんを提供する。 - 特許庁

A position 22 in the axial direction for receiving nuclear boiling in the total output operation of a nuclear reactor is polished highly, and hence the maximum size of surface scratches on the highly polished surface is approximately 0.1 microns in the clad control nuclear fuel element sheath pipe 16.例文帳に追加

原子炉の全出力運転の際に核沸騰を受ける軸方向の位置２２が、高研磨され、その結果、高研磨表面上の表面疵の最大サイズが約０．１ミクロンになっている、クラッド抑制核燃料要素被覆管１６。 - 特許庁

To achieve the same operability and procedure as those when an input device can be used without being tainted with fingerprints and scratches within an image display area even under the conditions where the input device cannot be used, in an ultrasonograph equipped with a touch panel on its monitor.例文帳に追加

モニタにタッチパネルを搭載した超音波診断装置にて、入力装置が使用できない状況でも、画像表示領域内に指紋や傷がついて汚れることなく、入力装置使用時と変わらない操作性や手順を実現する。 - 特許庁

To provide a polishing pad for mechanically flattening the surface of an insulation layer or metal wiring formed on a silicon substrate which has a small global step difference, hardly causes dishing in the metal wiring, and generates less dust or scratches.例文帳に追加

シリコン基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を機械的に平坦化するための研磨パッドにおいて、グローバル段差が小さく、金属配線でのディッシングが起こりにくく、ダストやスクラッチの発生が少ない研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a nickel material in which intermediate temperature brittleness is vanished, thus the generation of defects such as cracks and scratches is prevented upon production, and which has good efficiency, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

ニッケル材料の中間温度脆性を消失させることにより、製造時にニッケル材料に割れや疵等の欠陥が発生するのを抑制し、歩留まりの良いニッケル材料を提供すると共にその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a cylindrical substrate for an electrophotographic photoreceptor, by which scratches or contamination on an outer peripheral surface, which cause image defects, can be reduced, and peeling of a deposited film from an end portion can be suppressed after or during forming the deposited film.例文帳に追加

画像欠陥の原因となる外周面の傷や汚染が少なく、堆積膜形成中や堆積膜形成後に、端部からの堆積膜の剥がれを抑制可能な電子写真感光体用の円筒状基体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an insert material for a double-sided polishing device in which the development ratio of scratches generated on a surface of a semiconductor wafer after double-sided polishing can be smaller than that of the conventional method, the double-sided polishing device using the insert material, and a double-sided polishing method.例文帳に追加

両面研磨後の半導体ウェーハの表面に発生するスクラッチの発生率を従来より低減することができる両面研磨装置用のインサート材と、それを用いた両面研磨装置並びに両面研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad capable of polishing highly evenly and highly smoothly in which scratches are not easily generated on an object to be polished as compared to a conventional polishing pad without peeling a textile polishing layer and a supporting body even in polishing for a long period of time.例文帳に追加

本発明は、長時間研磨しても織物からなる研磨層と支持体が剥がれることなく、従来の研磨パッドに比べて研磨対象物へのスクラッチが起こりにくく、高平坦・高平滑に研磨することが可能な研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which does not cause the speed difference between a photoreceptor drum and an intermediate transfer belt at the time of driving and stop operation of the photoreceptor drum and the intermediate transfer belt from the view point of preventing scratches of the photoreceptor drum.例文帳に追加

感光体ドラムのキズ防止の観点から感光体ドラムと中間転写ベルトの駆動、停止動作時に感光体ドラムと中間転写ベルトの速度差を発生させることのない画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a container shock absorbing belt which suppresses an increase in an occupied area in a state of being attached to a liquefied gas container and prevents collision noise and scratches through the contact of the liquefied gas containers with each other during transportation.例文帳に追加

液化ガス容器への装着状態での占有面積の増加を抑制するとともに、運搬時における液化ガス容器同士の接触による衝突音の発生および疵の発生を防止できる容器緩衝用ベルトを提供する。 - 特許庁

To provide a wooden plate having anti-allergen property which hardly takes scratches on the surface thereof, can exhibit anti-allergen property continuously for a long period and can be applied for floor material or the like, and to provide a method for manufacturing the wooden plate.例文帳に追加

表面に傷が付きにくく、長期間にわたって抗アレルゲン性を持続して発揮することのできる、床材などに適用可能な、抗アレルゲン性を有する木質板と、この木質板を製造するための製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a rear panel of a plasma display which is produced without having scratches on a screen plate in screen printing, and without leaving contaminants on phosphor in panel making, and without generating noise in lighting up after the panel is made, and also provide a manufacturing method of the rear panel of a plasma display.例文帳に追加

スクリーン印刷の際にスクリーン版に傷をつけることがなく、パネル化時に蛍光体上に異物を残さず、さらに、パネル化後の点灯時にノイズを発生することがないプラズマディスプレイ用背面板、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the metal contamination of a wafer after polishing, to suppress the occurrence of scratches, and to improve the yield of a semiconductor device by using a polishing sheet and a polishing pad that have an extremely small concentration of contained metal and have a groove.例文帳に追加

含有金属濃度が極めて小さく、溝を有する研磨シート及び研磨パッドを用いることにより、研磨後のウエハの金属汚染を防止し、スクラッチの発生を抑制、半導体デバイスの歩留まりを向上させることを目的とする。 - 特許庁

To provide a pet sheet for treating excrement of a pet such as dog and cat, resistant to damage such as breakage of the sheet in a case that the pet moves round on or scratches the sheet laid especially in a pet tray, etc.例文帳に追加

犬や猫等のペットの排泄物等を処理するためのペットシートにおいて、特にペットトレイ等に敷かれた際に、ペットがペットシート上を動き回ったり又ペットシート引っ掻く等した場合に、破れ等の損傷の発生を防止し得るペットシートを提供する。 - 特許庁

When it is judged that the jitter value exceeds the specified value, the reason why object data cannot be searched is ascribed to partial scratches produced on a disk d or defects produced in manufacturing, and the system microcomputer 8 sets another program to conduct a new search.例文帳に追加

そして、ジッタ値が規定値を超えていると判別すると、対象データをサーチできない原因が、ディスクｄに生じた部分的な傷や製造上の欠陥によるものとし、システムマイコン８は、次のプログラムを設定して、新たにサーチを行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electro-optic apparatus by which minute scratches and cracks present on a substrate edge and a cut face can be eliminated by etching without damaging conductors and IC chips, and to provide an electro-optic apparatus and an electronic equipment.例文帳に追加

配線およびＩＣチップを損傷することなく、基板縁および切断面に存在する微小な傷やクラックをエッチングにより消去可能な電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a cutter device for a dividedly packaging material in which a seal part between subdivisions of the dividedly packaging material is perforated or cut at a high speed without any scratches in the surface of the dividedly packaging material.例文帳に追加

分包包装材の表面にこすり傷などを生じることなく、しかも高速で分包包装材の分包間シール部にミシン目を入れたりこのシール部を切断したりすることができる分包包装材カッター装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a polishing solution and polishing method for metal, which exhibits a high CMP speed and good copper/tantalum polishing selectivity, and enhances planarity of the surface to be polished by reducing the dishing while reducing occurrence of scratches.例文帳に追加

、迅速なＣＭＰ速度及び良好な銅／タンタル研磨選択性を有し、ディッシングが少なく被研磨面の平坦性を向上させることが可能であり、且つ、スクラッチの発生を低減できる金属用研磨液及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an expander roll device capable of minimizing the speed difference when a band material is drawn despite its very simple configuration, avoiding scratches formed on the band material, or at least to a degree not arousing problem, and improving the guiding accuracy and the movability.例文帳に追加

帯材の引き抜きの際の速度差を、極めて簡単なエキスパンダロール装置の構成にも関わらず最小にし、帯材上に引っ掻き傷が形成されないようにし、または少なくとも問題ない程度にし、ガイド精度と可動性を改善する。 - 特許庁

Because of this, when the mobile terminal 30 is carried in and carried out to the charging device 10, since the inspecting rolling member 15 contacts the box body 31 of the mobile terminal 30 and energizes and rolls, scratches are prevented from forming on the box body 31.例文帳に追加

このため、携帯端末３０を充電装置１０に出し入れする際に、転動部材１５が携帯端末３０の筐体３１に接触して付勢するとともに転動するため、筐体３１に摺り傷を付けるのを防止することができる。 - 特許庁

This medium is a magnetic recording medium at least comprising a non-magnetic metal substrate having texture scratches whose linear density is more than 7500 [line/mm] on its surface, an orientation adjusting film formed on it, a non-magnetic under layer and a magnetic layer.例文帳に追加

表面に線密度が７５００［本／ｍｍ］以上であるテクスチャー痕を有した非金属基板とその上に形成された配向調整膜、非磁性下地層及び磁性層とを少なくとも含む磁気記録媒体によって解決される。 - 特許庁

To provide a continuous annealer for a cylindrical workpiece, wherein problems such as liability of the surface of the workpiece to scratches, limitation of the shape of the workpiece to a bottomed cylinder, and increased complicatedness of the structure of the apparatus are solved.例文帳に追加

円筒ワークの連続焼鈍装置において、ワークの表面にすり傷が生じやすいという問題、ワークの形状が有底筒体に限定されるという問題、装置の構造が複雑になるという問題などの解決を目的とする。 - 特許庁

To provide a notebook-size personal computer for loading a large speaker without having to change the size of its main body, and for easily adjusting the angle, and for sufficiently protecting a floppy disk drive or the like mounted on the main body from scratches, dust or the like.例文帳に追加

本体の大きさを変えずに大きなスピーカを搭載するとともに、簡単に角度を調整することができ、本体に実装されたフロッピーディスクドライブなどをキズ、ホコリなどから十分に保護できるノート型パーソナルコンピュータを提供すること。 - 特許庁

To generate the accurate time information even in the case the read-in of sub-code data of the time information, showing the present position is impossible due to dust, scratches, etc. on an optical disk, when the current time is desired to obtain with the read sub-channel command by the user.例文帳に追加

ユーザがリードサブチャネルコマンドでカレント時間を取得しようとした時、光ディスク上のゴミや傷等で現在位置を示す時間情報のサブコードデータを正しく読み込むことができなかった場合でも正しい時間情報を生成できるようにする。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a sapphire substrate capable of removing easily and inexpensively scratches of some to tens of nanometers (nm) existing in the sapphire substrate surface after mirror finished surface, where a foreign substance is not adhered.例文帳に追加

簡易にかつ安価に鏡面研磨後のサファイア基板表面に存在する数〜数十nmの引っ掻き傷を除去でき、かつ処理後のサファイア基板表面に異物が付着することのないサファイア基板の表面処理方法の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a method for correcting a coated surface that can correct a coated surface by swiftly removing a projection on the coated surface with easy operation requiring no skillfulness and causes less scratches on the coated surface, and a tool suitable for conducting the method.例文帳に追加

熟練を要しない容易な操作で、素早く、塗装面上の突部を除去して塗装面を整えることができ、且つ、塗装面に付ける傷の程度を軽減できる塗装面の修整方法、及び該方法に用いるために適した工具を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective liquid crystal display element which prevents scratches from occurring on a surface of a reflection layer and foreign matter from adhering thereto, exhibits a bright white display, attains high contrast and has stable quality in the reflective liquid crystal display element to which a light scattering effect is added.例文帳に追加

光散乱効果を付加した反射型液晶表示素子において、反射層の表面のキズが発生や異物の付着を防止し、白表示が明るく、高いコントラストが得られ、品質が安定した反射型液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of scratches, deformation and dislocation of a molding caused by contact of a coating fixture with an inner face of a glass run side wall and an inner face of a lip when a coating device is installed on an extrusion line.例文帳に追加

塗装装置を押出成形ライン上に設けた場合にあっては、塗布用治具とグラスラン側壁内面及びリップ内面とが接触して擦過傷や形状変形などが発生し易いと共に、成形体の位置ずれに対応が困難になる。 - 特許庁

To provide a low-cost conductive endless belt which can be suitably used for a position detecting mechanism by use of reflected light by preventing scratches on the belt surface due to paper feeding or the like and suppressing decrease in gloss.例文帳に追加

通紙等によるベルト表面の傷つきを防止して、光沢度の低下を抑制することにより、反射光を用いた位置検出機構に好適に適用可能であって、かつ、コスト的に安価な導電性エンドレスベルトおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition capable of polishing an amorphous glass substrate at high polishing speed, reducing surface roughness and defects such as pits and scratches on the surface of the polished substrate, and preferably manufacturing a glass hard disk substrate at low cost.例文帳に追加

非晶質ガラス基板の研磨において、高い研磨速度で研磨でき、研磨後の基板表面の表面粗さ、ピット、及びキズの欠陥を低減でき、好ましくは、加えて低コストでガラスハードディスク基板を製造できる研磨液組成物の提供。 - 特許庁

To provide a polishing composition which can polish a tungsten film and an insulating film at a substantially same polishing rate; and as a result, create a polishing surface on which no polishing scratches occur with proper flatness, and which is not contaminated with impurities, such as iron ions or the like.例文帳に追加

タングステン膜と絶縁膜を同程度の研磨速度で研磨でき、その結果平坦性が良好で、研磨傷が無く、鉄イオンなどの不純物によって汚染されていない研磨面を創出することのできる研磨用組成物の提供。 - 特許庁

To provide a 300 mm silicon test wafer and the like, whereby high reproducibility is proper for the structure of an edge of the 300 mm test wafer for ensuring performance data evaluation in a semiconductor manufacturing apparatus, an evaluating apparatus, and the like, and wherein exfoliation of a film or scratches are not produced.例文帳に追加

半導体製造装置、評価装置などの性能データ評価を確実にするための３００ｍｍテストウエハのエッジ部の構造について再現性が良好であって、膜剥離や傷等の生じることのない３００ｍｍシリコンテストウエハ等を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad which can make high speed polishing, restrains the generation of scratches and etchings on polished surfaces providing excellent machined surfaces and scarcely generates waste including abrasives, and a polishing device comprising the polishing pad used and a polishing method using the pad.例文帳に追加

研磨速度が速く、研磨表面への傷やエッチングを抑制し、優れた加工表面を得ることができ、研磨終了後にも研磨剤を含む廃棄物がほとんど発生しない金属用研磨パッド、それを用いてなる研磨装置、及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming images on a positive lithographic printing plate for IR laser for direct plate making such that the development latitude and highlight reproducibility are excellent during forming images, production of defects caused by scratches in the image part can be suppressed and preferable images can be formed.例文帳に追加

画像形成時現像ラチチュード及びハイライト再現性に優れ、画像部の傷に起因す欠陥の発生が抑制され、良好な画像を形成し得るダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版の画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoreceptive transfer material enabling high speed transfer without transfer inferiority caused by scratches in a permanent supporter and step or the like, based on the preceding pixel and for preventing heating roller contamination for transfer due to a molten thermoplastic resin layer during transfer.例文帳に追加

永久支持体のキズや先行画素に基づく段差等に起因する転写不良が無く、高速転写が可能で、かつ転写時に、溶融した熱可塑性樹脂層による転写用加熱ローラー汚染を防止できる感光性転写材料を提供する。 - 特許庁

To inexpensively provide a developing roller whose durability in use is improved by preventing the occurrence of toner adhesion on the surface layer of the developing roller, the occurrence of cracks and the occurrence of scratches due to shaving, and to inexpensively provide a developing apparatus equipped with the developing roller.例文帳に追加

現像ローラの表面層に、トナーの固着が発生すること、亀裂が発生すること、及び、削れによるスジ等の傷が発生することを防止して、使用上の耐久性を向上させた現像ローラ及びそれを有する現像装置を低コストで提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for a printer etc., and capable of accurately measuring the density and registration, in particular, even when fine scratches are formed on a belt due to long-term use, and also, even when there is swelling of printed toner.例文帳に追加

本発明はプリンタ装置等の画像形成装置であり、特にベルトを長期間使用し、ベルトに細かい傷が形成された場合や、印字されたトナーに盛り上がりがある場合にも正確な濃度測定やレジスト測定が可能な画像形成装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a wrist-watch for which a band can be easily attached and detached to/from a body without using an exclusive tool, the sufficient attaching strength of the band to the body can be secured, scratches accompanying the attaching/detaching operation of the band can be suppressed as well and a using feeling is excellent.例文帳に追加

専用工具を用いることなくバンドを胴に容易に着脱できるとともに、胴に対するバンドの十分な取付け強度を確保でき、しかも、バンドの着脱操作に伴う傷付きを抑制できるとともに、使用感が良い腕時計を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure mask capable of forming a normal pattern, without being affected by foreign matters, even if foreign matters such as very fine dust within a predetermined size range are interposed between the mask and a photosensitive material, in addition to prevention of scratches of the mask body.例文帳に追加

マスク本体への傷付き防止に加えて、万一、マスクと感光剤との間に微小なごみ等の異物が介在した場合でも所定範囲内の大きさであれば異物の影響を受けることなく正常なパターンを形成できるような露光用マスクを提供する。 - 特許庁

As a result, the foreign substances do not accumulate on the inner peripheral surface 8f and the outer peripheral surface 8g, and the generation of the scratches on the polished surface of a wafer caused by the foreign substances and the sticking of the foreign substances (debris) can be suppressed, and the proper polishing results can be achieved.例文帳に追加

内周面８ｆや外周面８ｇに外部物質が堆積することがなく、ウエハの被研磨面に外部物質によるスクラッチや外部物質（異物）の付着などが発生することが抑制され、適正な研磨結果を得ることが可能となる。 - 特許庁

To be hard for human eyes to distinguish the below-mentioned toner image itself even scratches of foreign matter occur on an image carrier carrying the toner image having the highest spectral reflectance in light wavelength 550nm, consequently, to prevent the image from being recognized as a defective image.例文帳に追加

光の波長５５０ｎｍにおける分光反射率が最も高いトナー像を担持する像担持体に異物等によってスクラッチ傷が生じてもこのトナー像自体は人間の目に識別しづらく、結果的に画像欠陥として認識されないようにする。 - 特許庁

To provide a chemical-mechanical polishing method without generating scratches, capable of quickly obtaining global flatness and reducing slurry consumption in a chemical-mechanical polishing method for smoothing the insulating layer or a surface of wiring formed on a semiconductor wafer by polishing.例文帳に追加

半導体ウェハの上に形成された絶縁層または金属配線の表面を研磨により平滑にする化学機械研磨方法において、スクラッチの発生がなく、より速くグローバル平坦性が得られ、スラリー消費量が少ない化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To prevent occurrence of an unspecified number of linear scratches on a non-adhesive heat-resistant film caused by a nearly doughnut-like flat surface part of a rotating table hitting against the bottom part of a rotative mounting base in mounting the rotative mounting base on the rotating table.例文帳に追加

回転載置台を回転テーブルに載せる時に、回転テーブルの略ドーナツ状の平面部が回転載置台の底部に当たることになり、非粘着性の耐熱被膜に線状の不特定多数の擦り傷の発生を防止することを課題とするものである。 - 特許庁