「Stress relaxation」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To secure the shearing thickness of a viscoelastic body even under the condition wherein compression load and deforming force in a direction different from a prescribed shearing direction are applied, while using a viscoelastic body having such material characteristics as large damping and easy stress relaxation, and maximize prescribed damping performance by preventing permanent distortion from occurring.例文帳に追加

減衰性が大きく応力緩和しやすい材料特性を持つ粘弾性体を用いつつ、圧縮荷重や所定のせん断方向とは異なる方向の変形力等が加わる条件下でも粘弾性体のせん断厚みを確保し、かつ、永久歪の発生を防止して所定の減衰性能を最大限にさせることができるようにする。 - 特許庁

The turbomachine combustion chamber 10 has primary and dilution air inlet orifices 52, 54 formed by die stamping to have edges 66 that project into the inside of the combustion chamber 10, and stress relaxation and/or reduction means in the edges or in the vicinity of the edges of the orifices 52, 54.例文帳に追加

ターボ機械燃焼チャンバ（１０）は、燃焼チャンバ（１０）の内側へ突出する縁部（６６）を有するようにダイスタンプ法により形成される一次空気および混合用空気吸気オリフィス（５２、５４）と、このオリフィス（５２、５４）の縁部内または縁部の付近にある応力緩和および／または低減手段と、を有する。 - 特許庁

The laminated film made of a polyolefinic resin is constituted by providing a surface layer on at least the single surface of a base material layer and the 10% strain/stress relaxation ratio thereof is 30% or more and the tensile elastic modulus thereof is 100-700 MPa and the bending elastic modulus of the resin composition constituting the surface layer is higher than that of the resin composition constituting the base material layer.例文帳に追加

基材層の少なくとも片面に表面層を有するポリオレフィン系樹脂製積層フィルムであって、フィルムの１０％歪み応力緩和率が３０％以上、引張弾性率が１００〜７００ＭＰａ、かつ表面層を構成する樹脂組成物の曲げ弾性率が基材層を構成する樹脂組成物の曲げ弾性率より高い積層フィルム。 - 特許庁

To provide a GaAs single crystal wafer reduced in the influence of the warp of the wafer itself and the nonuniformity of wafer in-plane temperature for the thermal treatment in a device manufacturing process using the wafer, and generating no slip defects, which needs no relaxation of the residual stress by incorporation of dislocation, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、ＧａＡｓ単結晶ウエハを用いたデバイス製造プロセス中の熱処理に対して、そのウエハ自身の反りや、熱処理時のウエハ面内温度均一性といった影響を低減し、転位の導入による残留応力の緩和を必要としないスリップ不良の発生が無いＧａＡｓ単結晶ウエハ及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Consequently, the thermal relaxation layer of the soft resin spacer 16 is located between the integrated semiconductor light emitting element body 17 and optical lens 14, and the semiconductor light emitting device can be realized which prevents the interface peeling at each of members against a thermal stress in variation of an external temperature, is high in a light discharge efficiency, and has a high reliability.例文帳に追加

そのため、一体化した半導体発光素子体１７と光学レンズ１４との間に軟質樹脂スペーサ１６による熱応力緩和層を備えたことになり、外部温度変化時の熱応力に対して各部材間の界面剥離を阻止し、光取出し効率の高い、高信頼性の半導体発光装置を実現することができた。 - 特許庁

To provide a copper alloy strip for a connector which is suitable for a conductive material used for electrical-electronic parts such as a connector, in which excellent bending workability with which cracks are not caused even when complicated bending is performed and excellent stress relaxation resistance in a high temperature environment are made compatible, and which has both high mechanical strength and satisfactory conductivity as well.例文帳に追加

コネクタ等の電気・電子部品に用いられる導電材料に適しており、複雑な曲げ加工を施しても割れが生じない優れた曲げ加工性と高温環境下における優れた耐応力緩和性を両立し、さらに高い機械的強度と良好な導電性を併せ持ったコネクタ用銅合金条を提供する。 - 特許庁

The gas barrier laminate has a transparent primer layer 2, a 5 to 300 nm thick inorganic-vapor deposition layer 3, a composite coat layer 4, and a stress relaxation layer 5 containing 5 to 60 wt.% of an inorganic filler, these layers orderly overlying at least one surface of a plastic base material 1 containing 5 to 60 wt.% of an inorganic filler.例文帳に追加

本発明のガスバリア積層体は、無機フィラーを５〜６０重量％含むプラスチック基材１の少なくとも一方の面に、透明プライマー層２、厚さ５〜３００ｎｍである無機蒸着層３と、複合皮膜層４．無機フィラーを５〜６０重量％含む応力緩和層５とを順次積層してなることを特徴とする。 - 特許庁

Burnt silver containing a glass component and adhering rigidly to a ceramic insulating substrate 11 is applied as a first back electrode 14 directly to the backside of the insulating substrate 11, and a second back electrode 15 composed of resin silver having a lower Young's modulus as compared with burnt silver and exhibiting thermal stress relaxation effect is stacked on the first back electrode 14 thus forming a two layer structure.例文帳に追加

ガラス成分を含有するためにセラミック製の絶縁基板１１に強固に密着する焼成銀を第１裏面電極１４として絶縁基板１１の裏面に直接被着し、焼成銀に比してヤング率が低く、そのため熱応力の緩和効果を有する樹脂銀からなる第２裏面電極１５を第１裏面電極１４に積層して裏面電極を２層構造にする。 - 特許庁

In the CSP type semiconductor device having the stress relaxation layer 5, a recessed groove 12 that is formed by removing one portion of a first insulating film 14 and is arranged so that the second bonding pad arrangement region can be surrounded is formed between the formation region of the first bonding pad 2 and the arrangement region of a second bonding pad 8.例文帳に追加

応力緩和層５を有するＣＳＰタイプの半導体装置において、第１ボンディングパッド２形成領域と第２ボンディングパッド８配列領域との間に、第１絶縁膜４の一部を除去することにより形成され、かつ第２ボンディングパッド配列領域を取り囲むように配列された凹溝１２を形成する。 - 特許庁

To prevent damage of a semiconductor chip being an electronic element incorporated in a multilayer printed circuit board; to reduce manufacturing cost; to prevent a crack of the board and the electronic element by stress relaxation of a connection member; to prevent a defect such as warpage or torsion; and to prevent reliability degradation by temperature change influencing the reliability of a semiconductor plastic package.例文帳に追加

本発明は、多層印刷回路基板に内蔵される電子素子である半導体チップの損傷を防止でき、製造コストを低減でき、接続材の応力緩和により基板及び電子素子のクラックを防止でき、反り・捩れなどの不良を防止でき、半導体プラスチックパッケージの信頼性に影響を与える温度変化による信頼性低下も防止できる。 - 特許庁

More specifically, the buffer layer having the stress relaxation effect is suitably formed by making a second AlN layer using gas mixed with TMA and TMG at 600°C or less to the extent that the mixing ratio of TMA and TMG is 3/17 or more and 6/17 or less if the surface layer of the template substrate comprises the first AlN layer.例文帳に追加

特に、テンプレート基板の表面層が第１のＡｌＮ層からなる場合であれば、６００℃以下の形成温度でＴＭＡとＴＭＧの混合ガスを、ＴＭＡに対するＴＭＧの混合比を３／１７以上６／１７以下の範囲で供給して第２のＡｌＮ層を形成することで、応力緩和効果を有するバッファ層を好適に形成することができる。 - 特許庁

To provide a synthetic resin slide bearing which reduces stress relaxation accompanying a heat history by a temperature rise inside a gear casing, and realizes a smooth steering operation in such a condition that no beat is generated between a rack shaft and a bearing, and that a sliding resistance between the rack shaft and the bearing is small even in the steering operation in which a radial force acts on the rack shaft.例文帳に追加

ギアケース内の温度上昇による熱履歴に伴う応力緩和を低減させることができ、ラック軸と軸受との間に打音が発生することなく、ラック軸にラジアル方向の力が作用した状態での操舵操作においてもラック軸と軸受との間の摺動抵抗が小さく円滑な操舵操作を可能とした合成樹脂製滑り軸受を提供すること。 - 特許庁

The fiber reinforced plastics molded product 10 includes a housing body 40 which heat-shrinks, a fiber reinforced plastics 20 surrounding the housing body, and a relaxation layer 50 which is disposed between the housing body and the fiber reinforced plastics, and relaxes the tensile stress acting on the fiber reinforced plastics in consequence of the heat shrinkage of the housing body.例文帳に追加

繊維強化プラスチック成形品１０は、熱収縮する収容体４０と、収容体を囲む繊維強化プラスチック２０と、収容体と繊維強化プラスチックとの間に配置され、収容体の熱収縮に起因して繊維強化プラスチックに作用する引張応力を緩和する緩和層５０と、を有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can conduct stress relaxation at trench corners without reducing the area of an active region or the transistor width or stably form the resistance of a semiconductor substrate or a well of opposite conductivity type from that of the semiconductor substrate, in element isolation using an STI (shallow trench isolation) method.例文帳に追加

ＳＴＩ法（Ｓｈａｌｌｏｗ Ｔｒｅｎｃｈ Ｉｓｏｌａｔｉｏｎ）を用いた素子分離において、トレンチコーナー部の応力緩和を、アクティブ領域の面積及びトランジスタ幅を減少させること無く実施でき、或いは、半導体基板または半導体基板と導電型が逆タイプのウエルの抵抗を安定に形成できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pressure sensitive adhesive composition capable of forming an adhesive layer having excellent optical characteristics (transparency), heat resistance, hygrothermal resistance, good stress relaxation characteristic, the controllability of refractive index and rereleasability or the like in a pressure sensitive adhesive used for laminating a polarization film on a glass substrate for a liquid crystal cell.例文帳に追加

本発明は、液晶セル用のガラス基板に偏光フィルムを積層するために使用する感圧式接着剤に関し、良好な光学特性（透明性）、耐熱性及び耐湿熱性、良好な応力緩和性、屈折率の制御性、再剥離性等を有する接着剤層を形成し得る感圧式接着剤組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a copper alloy plate material whose spring characteristics and surface aspects are improved and whose coils have small characteristic fluctuations, the copper alloy plate material having basic material characteristics required for a connector component of electric equipment and electronics such as electrical conductivity, strength, bending workability, stress-resistance relaxation characteristics, and fatigue characteristics.例文帳に追加

電気・電子機器のコネクタ部品に必要な導電性、強度、曲げ加工性、耐応力緩和特性、疲労特性等の基本的素材特性を具備した銅合金板材において、ばね特性および表面性状の改善されたものを提供すること、およびコイル内の特性バラツキが小さい銅合金板材を提供する。 - 特許庁

The Cu-Ni-Sn-P copper alloy sheet has a specified composition, and dislocation density determined as the quotient of the half-value breadth of X-ray diffracted intensity peak from the {200} face of the copper alloy sheet surface divided by the height of the peak is a given level or greater to thereby attain an enhancement of stress relaxation resistance property and press punchability demanded for terminal/connector.例文帳に追加

特定組成のＣｕ−Ｎｉ−Ｓｎ−Ｐ系の銅合金板であって、この銅合金板表面の｛２００｝面からのＸ線回折強度ピークの半価幅をそのピーク高さで割った値で測定される転位密度を、一定量以上有するようにして、端子・コネクタとして要求される耐応力緩和特性とプレス打ち抜き性とを向上させる。 - 特許庁

In this section, the museum exhibits and demonstrates ASIMO, one of the most famous humanoid robots in Japan and developed for household activities. Visitors are able to actually touch or operate a wide variety of robots, including PARO, a therapeutic robot designed to interact with humans and improve user’s motivation, relaxation, as well as reduce stress. By closely interacting with robots, visitors are able to understand with their eyes and hands “how robots move,” “what robots can do,” and “what robots can do for humans.” 例文帳に追加

人間の生活空間で活動することを想定して開発されているヒューマノイドロボット「ASIMO（アシモ）」や、人との相互作用により楽しみや安らぎを与えることを重視したセラピー用ロボット「パロ」など、様々な種類のロボットに触れたり操作したりしながら、ロボットとは「どんな動きをするものか」、「どんな仕事ができるのか」、そして「人間にとってどんな存在なのか」を、目と手で確かめることができる。 - 経済産業省

In this material having first polyrotaxane and second polyrotaxane, the first and second polyrotaxanes are crosslinked through first and second cyclic molecules, and the material is solvent free, and the material has at least on kind of characteristic selected from each group having: (X) a compression set of ≤10%; a tensile stress relaxation of ≤15%; and a hysteresis loss of ≤25%.例文帳に追加

第１のポリロタキサン及び第２のポリロタキサンを有する材料であって、該第１及び第２のポリロタキサンは第１及び第２の環状分子を介して架橋してなり、該材料が溶媒フリーであり、該材料は、Ｘ）圧縮永久歪が１０％以下；Ｙ）引張応力緩和が１５％以下；及びＺ）ヒステリシスロスが２５％以下；からなる群から選ばれる少なくとも１種の特性を有する材料により、上記課題を解決する。 - 特許庁

A base material is obtained by laminating a second film layer having a lower stress relaxation than that of the first film layer made of a thermoplastic resin except one or more types of olefin thermoplastic elastomer on any of a polymer alloy of an amorphous polyolefin, an olefin resin and a thermoplastic elastomer, a copolymer and an acrylic urethane copolymer so that the first film layer made of the olefin thermoplastic elastomer becomes the skin laminating side outermost layer.例文帳に追加

非晶質ポリオレフィン、オレフィン系樹脂と熱可塑性エラストマーとのポリマーアロイや共重合物、アクリル／ウレタン共重合体の何れかに一種以上のオレフィン系熱可塑性エラストマーからなる第１のフィルム層が皮膚貼付側最外層となるように、前記オレフィン系熱可塑性エラストマー以外の熱可塑性樹脂からなり前記第１のフィルム層よりも応力緩和性の低い第２のフィルム層を積層して、基材フィルムを得る。 - 特許庁