「Target Shield」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for sputtering includes a first process (S02) to form a film having high resistivity by sputtering on a shield member disposed near the target, a second process (S03) to dispose a substrate to face the target and a third process (S04) to form, using the target, a dielectric film on the substrate by sputtering.例文帳に追加

このスパッタリング方法は、スパッタリングでターゲットの近傍に配置されたシールド部材に高比抵抗膜を形成する第１の工程（Ｓ０２）と、基体をターゲットに対向させて配置する第２の工程（Ｓ０３）と、スパッタリングでターゲットにより基体上に誘電体膜を形成する第３の工程（Ｓ０４）とを含む。 - 特許庁

An analyzing chip device is equipped with a chemical sensor chip for detecting the amount of a target substance and a shield part for reducing the noise acting on the chemical sensor chip from the outside.例文帳に追加

目的物質の量を検出する化学センサチップと、前記化学センサチップに外部から作用するノイズを低減する遮蔽部と、を備えることを特徴とする分析チップ装置。 - 特許庁

To provide a shield flexible flat cable in which characteristic impedance is matched to a target value without losing merits of a conventional flexible flat cable having flexibility and simple and easy connection facility.例文帳に追加

フレキシブル性と簡便な接続性という従来のフレキシブルフラットケーブルの利点を失うことなく、特性インピーダンスが目的の値に整合されているシールドフレキシブルフラットケーブルを提供する。 - 特許庁

Then, the arc-discharge is generated by generating a sparking discharge by supplying the high voltage between a target cathode 7 and a shield plate 8 with the high voltage generating device 12.例文帳に追加

そして、高電圧発生装置１２によりターゲットカソード７とシールド板８間に高電圧を供給して火花放電を発生させることによってアーク放電を発生させる。 - 特許庁

To provide a ground connecting tool of a shield electric wire and a ground connecting method which can ground-connect a plurality of shield electric wires simultaneously only by fixing one connection part to a mounted body being a ground connection target and has no need for a large space for ground connection.例文帳に追加

アース接続対象である被取付体に一つの接続部を固定するだけで、複数のシールド電線を一括してアース接続することができ且つ、アース接続のために大きなスペースを必要としないシールド電線のアース接続具およびアース接続方法を提供すること。 - 特許庁

This cryopump 10 includes: a refrigerator 12 generating frigidity by a heat cycle expanding and delivering working gas sucked in the inside; a heat shield 16 thermally connected to the refrigerator 12 and cooled to a target temperature; and a control section determining the frequency command value of the heat cycle and applying it to the refrigerator 12 so that the actual temperature of the heat shield 16 follows after the target temperature.例文帳に追加

クライオポンプ１０は、内部に吸入した作動気体を膨張させて吐出する熱サイクルによって寒冷を発生する冷凍機１２と、冷凍機１２に熱的に接続されて目標温度へと冷却される熱シールド１６と、熱シールド１６の実温度が目標温度に追従するよう熱サイクルの周波数指令値を決定して冷凍機１２に与える制御部と、を備える。 - 特許庁

In the dual magnetron sputtering apparatus for depositing a film containing a target component to a substrate disposed in a vacuum chamber, by applying an AC voltage to two cathodes, an earth shield is disposed around each target, and the periphery of a cathode in the chamber is electrically insulated.例文帳に追加

２つのカソードに交流電圧を印加し、真空槽内に配置された基板にターゲット成分を含む膜を付着するデュアルマグネトロンスパッタリング装置において、各ターゲットの周囲にはアースシールドが設けられ、かつ、チャンバー内のカソードの周辺をアースと電気的に絶縁した。 - 特許庁

The lithography apparatus further includes a shield movable into the optical path to restrict the cross-section of the emitted beam to restrict irradiation between the at least two target portions, wherein the surface material between the at least two target portions degrades when irradiated with the emitted beam through the optical system.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、光路内に移動して放射ビームの断面を制限して少なくとも２つのターゲット部分間の照明を制限することができるシールドをさらに含み、光学システムからの放射で照射された時に、少なくとも２つのターゲット部分間の表面材料が劣化する。 - 特許庁

A multi X-ray beam (x) generated from a target 13 is passed through an X-ray shield plate 23 and an X-ray extraction section 24 in vacuum and extracted into the atmosphere from the X-ray extraction window 27 of a wall portion 25.例文帳に追加

ターゲット１３で発生したマルチＸ線ビームｘは真空内Ｘ線遮蔽板２３、Ｘ線取出部２４を通り、更に壁部２５のＸ線取出窓２７から大気中に取り出される。 - 特許庁

The sputtering device includes a chamber 101, a wafer stage 102, a ring chuck 104, a metal target 105, an adhesion-preventive shield 107, a magnet 108, a collimator 109, and DC power sources 110, 120.例文帳に追加

このスパッタリング装置は、チャンバ１０１、ウェハステージ１０２、リングチャック１０４、金属ターゲット１０５、防着シールド１０７、マグネット１０８、コリメータ１０９、並びに直流電源１１０，１２０を備えている。 - 特許庁

An inner shield 162 extends from the top end near a target backing plate 130 to the bottom end below an RF coil 160 and typically to just below the upper surface of a pedestal 146 at the processing position.例文帳に追加

内部シールド１６２は、ターゲットバッキングプレート１３０付近の上端からＲＦコイル１６０より下の下端まで延び、通常、処理位置にあるペデスタル１４６の上面のすぐ下まで延びる。 - 特許庁

The film deposition apparatus may further comprise a chamber to store the stage 12 and the holding tool 30, and a shield member which is located inside the chamber and arranged so as to surround a space located between the upper surface of the stage and a sputtering target.例文帳に追加

ステージ１２及び押さえ治具３０を収容するチャンバーと、チャンバーの内側に位置し、ステージの上面とスパッタリングターゲットの間に位置する空間を囲むように配置されたシールド部材とを更に具備してもよい。 - 特許庁

A magnetron sputtering apparatus has a correction magnetic circuit (32) provided in the inner part of an anode portion (30) or in the vicinity thereof, and forms a magnetic field in which a part of magnetic lines of force, which penetrate a target (18), detours around a deposition shield (27) and penetrates a part of the anode portion (30).例文帳に追加

陽極部(30)の内部又はその近傍に補正磁気回路(32)を設け、ターゲット(18)を貫通する磁力線の一部が防着板(27)を迂回して陽極部(30)の一部を貫通する磁界を形成する。 - 特許庁

This ship defence system comprises a ship type decoy 40 to imitate the shape and surface temperature distribution of a mother ship 10 so that it forms a target of a flying body 60 instead of the mother ship 10 and move the peripheral sea area of the mother ship 10, and a smoke shield disturbing device 30 to optically shield the mother ship 10 from an antiship flying object 60 by smoke.例文帳に追加

艦船防御システムは母艦１０に代って対艦飛翔体６０の目標となるように母艦１０の形状および表面温度分布を模擬し母艦１０の周辺海域を移動する艦艇型デコイ４０と、煙幕で母艦１０を対艦飛翔体６０から光学的に遮蔽するスモーク遮蔽妨害装置３０とを備える。 - 特許庁

To provide an RI manufacturing device capable of reducing the risk of being exposed to radiation from an activated target and shortening a standby time for radiation attenuation when maintaining an apparatus arranged in a self-shield.例文帳に追加

自己シールド内に配置された機器のメンテナンスの際に、放射化されたターゲットからの被爆のおそれを低減することができ、放射線の減衰のための待機時間を短縮することが可能なＲＩ製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a filed emission type electron source device having improved the ability of reading signal charges by reducing the flow-in amount of a beam current to a shield electrode to increase the beam current amount irradiated to a target.例文帳に追加

、シールド電極へのビーム電流の流れ込み量を低減することによりターゲットへ照射するビーム電流量を増加させて、信号電荷の読み取り能力を向上した電界放出型電子源装置を提供する。 - 特許庁

When the shield 41 is connected to the capacitor 48, it is in a floating state because of being alternatingly connected to a ground potential through the capacitor 48, does not attract plasma toward itself, and consequently does not decrease plasma density in an edge of the target 35.例文帳に追加

シールド４１がコンデンサ４８に接続されると、コンデンサ４８を介して交流的に接地電位に置かれた浮遊状態となり、プラズマがシールド４１へ引きつけられないので、ターゲット３５の端部でプラズマ密度が低くならない。 - 特許庁

In the sputtering apparatus, either a side face 8a of a target 8 or a side face 6b of an upper shield 6 facing the side face 8a is formed from a blasted face subjected to blasting and a mirror face subjected to mirror treatment.例文帳に追加

スパッタリング装置において、ターゲット８の側面８ａまたは側面８ａに対向するアッパシールド６の側面６ｂのいずれか一方の面がブラスト処理したブラスト面と鏡面処理した鏡面より形成されている。 - 特許庁

In the shape measuring apparatus 11, an optical sensor 22 radiates measurement light in a predetermined wavelength region to a target 12 of measurement, and the target 12 and the sensor 22 are accommodated in a case 14 having transmissive windows 32 and 33 which shield light in the wavelength region of the measurement light and transmit light out of the wavelength region of the measurement light.例文帳に追加

形状測定装置１１において、光学式センサ２２が、所定の波長域の測定光を被検物１２に照射し、被検物１２および光学式センサ２２は、測定光の波長域の光を遮断し、測定光の波長域以外の光を透過可能な透過窓３２および３３を有した筐体１４に収納されている。 - 特許庁

A cylindrical shield 6 is placed between the target 2 and a substrate holder 5 to define a plasma-forming space, and an electric field-setting means 8 sets electric field for drawing the ionized sputtering particles from the plasma P and making them enter the substrate 50.例文帳に追加

ターゲット２と基板ホルダー５との間には円筒状のシールド６が設けられてプラズマ形成空間を規制し、電界設定手段８がイオン化したスパッタ粒子をプラズマＰ中から引き出して基板５０に入射させるための電界を設定する。 - 特許庁

The shield structure is formed by a concave top surface 21 facing the electron source 16, a flat top surface 23 facing the anode target 20, and inner and outer walls 25, 27 (wherein a dimension of the inner wall 25 is longer than that of the outer wall 27 substantially in a certain direction).例文帳に追加

シールド構造物は電子源16に面した凹状の頂面21，アノードターゲット20に面した平坦な面23，および内側および外側壁25，27（ここで，内側壁が，外側壁27よりも実質的に一方向に長い寸法をもつ）により構成される。 - 特許庁

The shield structure is formed of a concave top surface 21 facing the electron source 16, a flat surface 23 facing the anode target 20, and inner and outer walls 25 and 27, wherein the inner wall is substantially longer than the the outer wall 27 in one direction.例文帳に追加

シールド構造物は電子源16に面した凹状の頂面21，アノードターゲット20に面した平坦な面23，および内側および外側壁25，27（ここで，内側壁が，外側壁27よりも実質的に一方向に長い寸法をもつ）により構成される。 - 特許庁

A mesh screen 9 having 50-1,000 mesh aperture and ≥5.0% elongation is attached to at least a part of the members and equipment (a target holding/controlling part 2, a shield plate 3, a substrate holder 5, a stage 6, a compensator 7, etc.), held in the film deposition chamber 10.例文帳に追加

成膜チャンバー１０内に収容されている部材及び機器（ターゲット保持・制御部２、シールド板３、基板ホルダー５、ステージ６、及び補正板７など）の少なくとも一部に、目開きが５０〜１０００メッシュで、伸長度が５．０％以上のメッシュスクリーン９を取り付ける。 - 特許庁

Owing to the configuration, the sputtering apparatus can deposit a film without excessively increasing potential difference for plasma, while keeping discharge by controlling a current passing from the inside of the plasma into the shield 11A, and can effectively erode the target 2 up to the peripheral part.例文帳に追加

この構成により、プラズマ中よりシールド１１Ａに流れる電流を制御して、放電を維持しつつ、プラズマの電位差を過剰に大きくすることなく成膜することが可能になり、ターゲット２の外周端部まで効果的に侵食させることができる。 - 特許庁

The coating apparatus for coating liquid on a target coating area of a substrate is provided with a shield mechanism that operates together with the liquid outlet portion 32 of the coating apparatus 1 and, when liquid discharged from the liquid outlet portion 32 is out of use, shields the splash of the liquid.例文帳に追加

基板上の塗布領域に液体を塗布する塗布装置において、塗布装置１の液体吐出部３２に連動し、液体吐出部３２から吐出される液体の不要時に、前記液体の飛散を遮蔽する遮蔽機構を備えていることを特徴とする。 - 特許庁

SILVER ALLOY, SPUTTERING TARGET, REFLECTOR FOR REFLECTION LCD, REFLECTION WIRING ELECTRODE, THIN FILM, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, OPTICAL RECORDING MEDIUM, ELECTRO MAGNETIC WAVE SHIELD, METAL MATERIAL FOR ELECTRONIC PART, WIRING MATERIAL, ELECTRONIC PART, ELECTRONIC APPLIANCE, PROCESSING METHOD OF METAL FILM, ELECTRON OPTICAL PART, LAMINATE, AND GLASS OF BUILDING MATERIAL例文帳に追加

銀合金、スパッタリングターゲット、反射型ＬＣＤ用反射板、反射配線電極、薄膜、その製造方法、光学記録媒体、電磁波遮蔽体、電子部品用金属材料、配線材料、電子部品、電子機器、金属膜の加工方法、電子光学部品、積層体及び建材ガラス - 特許庁

A tube voltage detecting circuit 19, which has a plurality of resistors R1, R2 connected together with conductive wire 23, is installed between the filament 3 and the target 4, and these resistors R1, R2 are immersed insulating oil 27 filled in a shield vessel 23.例文帳に追加

フィラメント３とターゲット４との間には、互いに導電線２３によって接続された複数の抵抗Ｒ１，Ｒ２によって構成される管電圧検出回路１９が設けられ、それらの抵抗Ｒ１，Ｒ２は遮蔽容器２２の中に充満された絶縁オイル２７に浸漬される。 - 特許庁

The vacuum container 3 is equipped with: a laser light introduction part 31 for introducing the high-intensity laser light; a condensing mirror 11 for condensing the high-intensity laser light; a target 12 with which the laser light focused by the condensing mirror 11 collides; a debris shield 13 provided on an orbit of the proton beam diverging from the target 12; and a take-out window 33 for taking out the laser driving proton beam 17 into the atmosphere.例文帳に追加

真空容器３は、高強度レーザー光を導入するレーザー光導入部３１と、高強度レーザー光を集光する集光ミラー１１と、集光ミラー１１によって収束されるレーザー光が衝突するターゲット１２と、ターゲット１２から発散する陽子線の軌道上に設けられたデブリシールド１３と、レーザー駆動陽子線１７を大気中に取り出すための取り出し窓３３と、を具備する。 - 特許庁

To provide a long life X-ray tube having an X-ray shield member 110 which passes an electron beam through an electron passing hole 111 to a target 108, by reducing the deterioration caused by positive ions generated by electrons colliding against gas molecules, produced from the target 108 in the electron passing hole 111 by desorption phenomenon due to electron beam irradiation, and being accelerated to collide against a cathode 101.例文帳に追加

電子通過孔１１１を介して電子線をターゲット１０８へと通過させるＸ線遮蔽部材１１０を有するＸ線管について、電子線照射による脱離現象によりターゲット１０８から電子通過孔１１１内に生じるガス分子に電子が衝突することで生じる陽イオンがカソード１０１へと加速されて衝突することによるカソード１０１の劣化を軽減し、長寿命なＸ線管を提供できるようにする。 - 特許庁

The magnetic shield layers 60a, 60b can be formed efficiently, by sputtering method by the use of soft magnetic metal partially in common with a target element for forming each layer of the MRAM device 10.例文帳に追加

さらに、磁気シールド層６０ａ，６０ｂに軟磁性金属を用いることによりスパッタ法で形成可能になり、この軟磁性金属をＭＲＡＭ素子１０各層を形成するターゲットの元素と一部共通にすれば、磁気シールド層６０ａ，６０ｂをＭＲＡＭ素子１０各層と同一スパッタ装置で効率的に形成することが可能になる。 - 特許庁

In the case that a vehicle travels in a shielded space which is shielded by shield members and which is a target object of a 3D traveling screen to be displayed, the 3D traveling screens 60 and 61 of the shielded space in which the vehicle is traveling is displayed on a liquid crystal display 15 by 3DCG images with a view point from inside of the shielded space.例文帳に追加

車両が遮蔽部材によって遮蔽された遮蔽空間を走行し、且つ該遮蔽空間が３Ｄ走行画面の表示対象となっている場合には、車両が現在走行する遮蔽空間を遮蔽空間内部からの視点で３ＤＣＧ画像により表示した３Ｄ走行画面６０、６１を液晶ディスプレイ１５に表示する。 - 特許庁

To efficiently utilize the cooling capability of liquid helium by reducing pressure loss for transfer in transferring liquid helium to a target part to be cooled, separating gaseous helium generated during transfer to send only liquid helium into the targeted part to be cooled and utilizing the separated gaseous helium for cooling a shield plate of a transfer tube.例文帳に追加

冷却対象部位に液体ヘリウムを搬送する際に、搬送のための圧力損失を低減し、冷却対象部位には搬送中に生じた気体ヘリウムを分離して液体ヘリウムのみを送入し、分離した気体ヘリウムをトランスファーチューブのシールド板の冷却に利用し、以って液体ヘリウムの冷却能を効率的に利用すること。 - 特許庁